[發明專利]中間轉印構件和圖像記錄方法

有效

• 申請號: 201410259194.7
• 申請日: 2014-06-11
• 公開（公告）號: CN104228381B
• 公開（公告）日: 2017-06-23
• 發明（設計）人: 野口光敏
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: B41M5/00
• 分類號: B41M5/00
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所11398
• 代理人: 魏啟學

技術領域

本發明涉及中間轉印構件和圖像記錄方法。

背景技術

已知將墨施加于中間轉印構件以形成中間圖像然后將該中間圖像轉印至記錄介質以記錄圖像的方法(以下，稱為“中間轉印型圖像記錄方法”)。近幾年，隨著對高速記錄的高要求，已研究了即使在高轉印速度下也獲得高水平質量的圖像的中間轉印型圖像記錄方法(日本專利申請特開2003-182064、日本專利申請特開2007-268802和日本專利申請特開2002-370442)。

日本專利申請特開2003-182064描述了使用具有形成于由金屬鼓構成的支承體上的橡膠層和形成于橡膠層上的外層的中間轉印構件的圖像記錄方法。作為橡膠層的材料，記載了選自聚氨酯、氟化彈性體材料、氟化橡膠和硅橡膠的材料。作為外層的材料，記載了選自溶膠-凝膠、陶瓷體(ceramers)和聚氨酯的材料。

日本專利申請特開2007-268802描述了將每單位面積施加的反應液的量控制在每單位面積施加的墨的量以上，由此即使當干燥反應液從而導致凹痕時也能獲得良好的圖像質量。

日本專利申請特開2002-370442描述了將中間轉印構件的表面的表面粗糙度Ra控制在0.2μm以上且2.5μm以下，由此可改進圖像質量和轉印性。

發明內容

上述圖像記錄方法中，將與墨中的著色材料組分接觸的、形成高粘度中間圖像的液體(反應液)施加于中間轉印構件。然而，已知其施加狀態影響圖像質量。

日本專利申請特開2003-182064中，當特別是使用在作為用于中間轉印構件的材料示例的材料中的如氟化橡膠等低表面能材料時，中間轉印構件的表面排斥反應液，因此反應液的施加狀態達不到充分的水平。

日本專利申請特開2007-268802描述了將硅橡膠用作中間轉印構件的材料，并且將具有28.0mN/m的表面張力和低pH的液體用作反應液，并且中間轉印構件與反應液之間的接觸角為62°。然而，作為由本發明人確認的結果，已知該構成不能使反應液的施加狀態達到充分的水平。

日本專利申請特開2002-370442沒有具體描述對改進圖像質量是重要的任何關于用于使反應液的施加狀態穩定的技術。另外，存在用于改進圖像質量的表面粗糙形狀和圖像轉印性為折衷關系的問題。

因此，本發明的目的是提供反應液施加性和中間圖像的轉印性優良的中間轉印構件和使用該中間轉印構件的圖像記錄方法。

上述目的可通過下述本發明來達成。根據本發明，由此提供用于圖像記錄方法的中間轉印構件，所述圖像記錄方法包括以下步驟：將反應液施加于中間轉印構件的步驟；將墨施加于中間轉印構件以使得與已施加反應液的區域的至少一部分重疊，從而形成中間圖像的步驟；以及將中間圖像轉印至記錄介質的步驟，其中中間轉印構件的表面的每單位面積的表面積的平均值為1.2以上且10.0以下。

根據本發明，可提供反應液的施加性和中間圖像的轉印性優良的中間轉印構件和使用該中間轉印構件的圖像記錄方法。

參考附圖，從以下示例性實施方案的描述中，本發明的進一步特征將變得顯而易見。

附圖說明

圖1代表性地示出設置有根據本發明實施方案的中間轉印構件的圖像記錄設備的結構。

圖2為用于說明凸狀結構的寬度和高度的圖。

具體實施方式

將根據附圖詳細描述本發明的優選實施方案。

根據本發明實施方案的圖像記錄方法具有將反應液施加于中間轉印構件的步驟；將墨施加于中間轉印構件以使得與已施加反應液的區域的至少一部分重疊，從而形成中間圖像的步驟；以及將中間圖像轉印至記錄介質的步驟。中間轉印構件的表面的每單位面積的表面積的平均值為1.2以上且10.0以下。

將中間轉印構件的表面的每單位面積的表面積的平均值控制在上述范圍內，由此可改進中間轉印構件的表面相對于反應液的潤濕性。結果，反應液容易均勻地鋪展在中間轉印構件的表面的期望區域上。即，改進反應液的施加性。

作為將中間轉印構件的表面的每單位面積的表面積的平均值控制在1.2以上且10.0以下的方法的實例，提及稍后將描述的在中間轉印構件的表面上設置凸狀結構的方法。為了抑制中間圖像的變形，傳統已知的技術為有意地在中間轉印構件的表面上設置凹凸形狀。然而，僅設置凹凸形狀由于表面粗糙度的增強導致圖像質量和轉印性的降低。然而，發現通過以中間轉印構件的表面的每單位面積的表面積的平均值為1.2以上且10.0以下的方式設置凸狀結構，可抑制中間圖像的變形而不降低圖像質量和中間圖像的轉印性。