[發明專利]中間轉印構件和圖像記錄方法

有效

• 申請號: 201410259194.7
• 申請日: 2014-06-11
• 公開（公告）號: CN104228381B
• 公開（公告）日: 2017-06-23
• 發明（設計）人: 野口光敏
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: B41M5/00
• 分類號: B41M5/00
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務所11398
• 代理人: 魏啟學

1.一種中間轉印構件，其用于圖像記錄方法，所述中間轉印構件的特征在于，所述圖像記錄方法包括以下步驟：將反應液施加于所述中間轉印構件的步驟；將墨施加于所述中間轉印構件以使得與已施加所述反應液的區域的至少一部分重疊，從而形成中間圖像的步驟；以及將所述中間圖像轉印至記錄介質的步驟，

其中所述中間轉印構件的表面的每單位面積的表面積的平均值，即，S2/S1為1.2以上且10.0以下，其中S1為所述中間轉印構件的沿與表面垂直的方向的投影表面積，和S2為其實際表面積，和

其中所述中間轉印構件的表面具有多個平均高度為0.05μm以上且1.00μm以下的凸狀結構。

2.根據權利要求1所述的中間轉印構件，其中當在所述形成中間圖像的步驟中施加于所述中間轉印構件的墨滴的平均直徑視為Rμm時，所述中間轉印構件的表面上的可施加墨的部分中，在Rμm×Rμm的區域內存在所述凸狀結構的部分的面積的比例為90％以上。

3.根據權利要求1所述的中間轉印構件，其中所述中間轉印構件的表面包含選自氟化合物和硅化合物的至少之一。

4.根據權利要求1所述的中間轉印構件，其中所述中間轉印構件的表面的S2/S1為1.4以上且2.5以下。

5.一種圖像記錄方法，其特征在于，其包括以下步驟：將反應液施加于中間轉印構件的步驟；將墨施加于所述中間轉印構件以使得與已施加所述反應液的區域的至少一部分重疊，從而形成中間圖像的步驟；以及將所述中間圖像轉印至記錄介質的步驟，其中所述中間轉印構件為根據權利要求1所述的中間轉印構件。