[發明專利]一種銅電解液脫除As、Sb、Bi的復合工藝

有效

• 申請號: 201410257049.5
• 申請日: 2014-06-11
• 公開（公告）號: CN104018185A
• 公開（公告）日: 2014-09-03
• 發明（設計）人: 張海寶;王瑋;葉薇
• 申請（專利權）人: 中國瑞林工程技術有限公司
• 主分類號: C25C1/12
• 分類號: C25C1/12;C25C7/06
• 代理公司: 南昌市平凡知識產權代理事務所 36122
• 代理人: 歐陽沁

1.一種銅電解液脫除As、Sb、Bi的復合工藝，其特征在于所述的復合工藝由主、輔助工藝組成，具體如下：

主工藝

溶劑萃取除As

抽取的溶劑萃取除As料液為電解液、一次電積脫銅液或硫酸銅結晶母液，以TBP+2-乙基已醇或TBP為萃取劑，260#溶劑油為稀釋劑，采用5級逆流萃取+1級洗滌+2級逆流反萃，萃余液除油后5-95%（v/v）返回電解循環系統，剩余部分送脫鎳系統；負載有機相經洗滌和反萃后，洗滌液和空載有機相均返回萃取；反萃液經除油、SO₂還原后30-95%（v/v）的用于制備As₂O₃晶體，剩余部分制備亞砷酸銅晶體；制備As₂O₃晶體的反萃液或直接加石灰生成砷酸鈣堆存；

制備亞砷酸銅

制備亞砷酸銅原料為反萃液；用濃度5-100%?（v/v）SO₂氣體還原As_（Ⅴ）為As_（Ⅲ），按摩爾量Cu:As=1.5加入CuSO₄溶液，用NaOH調節溶液至pH=6.0時亞砷酸銅晶體沉降完全；濾液加石灰沉淀剩余As、Cu離子，含As、Cu渣返回火法煉銅系統；

③?高As電解除Sb、Bi

高As溶液自凈化添加含As化合物為亞砷酸銅晶體，添加方式為用電解液充分溶解、過濾除渣后再連續添加；維持電解液含As濃度為10～20?g/l；

輔助工藝

?脫鎳液二次除Sb、Bi

送脫鎳系統除油后萃余液先用電積法除銅至0.5?g/L以下；電積過程中使萃余液中剩余As和電解液中增加的Sb、Bi進入陰極放電，以黑銅或者黑銅粉的形式產出。

2.按照權利要求1所述的一種銅電解液脫除As、Sb、Bi的復合工藝，其特征在于所述的電解液、一次電積脫銅液或者硫酸銅結晶母液的抽取量和制備亞砷酸銅的量由脫As量確定；萃余液送脫鎳系統的量由脫鎳量和電解液中Sb、Bi含量確定。

3.按照權利要求1所述的一種銅電解液脫除As、Sb、Bi的復合工藝，其特征在于所述的電解液中As含量高于設定值，增大As₂O₃或者砷酸鈣的產量，減少亞砷酸銅的添加量；電解液中As含量低于設定值，減少As₂O₃或者砷酸鈣的產量，增大亞砷酸銅的添加量。