[發明專利]一種聚氯乙烯清潔閉環生產系統及其方法

有效

• 申請號: 201410249656.7
• 申請日: 2014-06-06
• 公開（公告）號: CN104004119A
• 公開（公告）日: 2014-08-27
• 發明（設計）人: 黃明山;常喜斌;潘敬青;劉世成;陳小東;王紀鋒;劉濤;鐘建云;李萬邦;馬小龍;苗紅衛;牛莉慧
• 申請（專利權）人: 青海鹽湖工業股份有限公司
• 主分類號: C08F114/06
• 分類號: C08F114/06;C08F2/18;C08F8/22;C07C21/06;C07C17/02
• 代理公司: 北京國帆知識產權代理事務所(普通合伙) 11334
• 代理人: 李增朝

1.一種聚氯乙烯清潔閉環生產系統，包括：氯氣吸收裝置、燒堿裝置、氫氧化鎂裝置、氧化鎂裝置；電石裝置、乙炔裝置、VCM裝置、PVC裝置、C-PVC裝置、E-PVC裝置、水泥裝置，其特征是，所述氯氣吸收裝置、燒堿裝置、氫氧化鎂裝置、氧化鎂裝置順序連接，前一裝置的產物為下一裝置的原料；所述電石裝置、乙炔裝置、VCM裝置、PVC裝置、C-PVC裝置、E-PVC裝置也順序連接，前一裝置的產物為下一裝置的原料；所述水泥裝置連接所述乙炔裝置，所述乙炔裝置產出的電石渣可廢物利用作為生產水泥的原料。

2.根據權利要求1所述的聚氯乙烯清潔閉環生產系統，其特征是，所述燒堿裝置以固體原鹽為原料，采用離子膜電解技術生產32％燒堿溶液、Cl₂和H₂；產出的Cl₂、H₂經凈化處理、壓縮燃燒生成HCl氣體；32％的燒堿溶液部分經濃縮后制成燒堿成品，另一部分送往后續氫氧化鎂裝置作原料，和六水氯化鎂發生反應生成Mg(OH)₂，其副產物NaCl循環利用，將做為燒堿裝置鹽水主要來源；生成的Mg(OH)₂經過干燥后部分作為產品對外銷售，部分進入經煅燒生成高純度MgO。

3.根據權利要求1所述的聚氯乙烯清潔閉環生產系統，其特征是，所述燒堿裝置生產的Cl₂、H₂經處理及壓縮，采用二合一副產蒸汽的合成爐生產氯化氫供后續VCM裝置合成VCM用；采用三合一合成爐生產鹽酸供燒堿裝置內自用；采用低壓液化法生產液氯進行裝置負荷調節，同時生產部分汽化氯供C-PVC裝置作原料；采用多效逆流降膜蒸發技術堿蒸發及固堿蒸發技術生產片堿。

4.根據權利要求1所述的聚氯乙烯清潔閉環生產系統，其特征是，所述來自燒堿裝置的32％氫氧化鈉液堿做為Mg(OH)₂的原料，和六水氯化鎂發生反應生成Mg(OH)₂，其副產物NaCl將做為燒堿裝置原料主要來源；生成的氫氧化鎂經過干燥后一部分作為產品對外銷售，一部分進入氧化鎂裝置經煅燒生成MgO。

5.根據權利要求1所述的聚氯乙烯清潔閉環生產系統，其特征是，所述電石裝置中，原料焦炭與石灰按一定的比例加入，反應生成CaC₂；CaC₂送往后續的乙炔裝置，其產生的尾氣用作炭材烘干和石灰窯的燃料；電石裝置的粉塵分類收集，并定期送至后續的水泥裝置用作原料或燃料；將所述乙炔裝置的電石渣、熱電廠排出的粉煤灰和爐渣、粘土等為原料，送至水泥裝置生產水泥。

6.根據權利要求1所述的聚氯乙烯清潔閉環生產系統，其特征是，來自電石裝置生成的CaC₂經破碎后，粒度為3-5mm的CaC₂與水在乙炔發生器發生反應，產生C₂H₂氣和電石渣；水分在10％以下的電石渣被運送至出料倉，最后被送至水泥廠作原料；發生器產生的C₂H₂經洗滌、冷卻后送氣柜貯存；洗滌水經澄清、冷卻處理后重復使用，作為發生原料用水及洗滌用水；從氣柜存儲的乙炔氣經壓縮機進行壓縮再經堿、酸洗滌清除雜質后，送至VCM裝置。

7.根據權利要求1所述的聚氯乙烯清潔閉環生產系統，其特征是，來自所述乙炔裝置經干燥處理的C₂H₂氣和來自燒堿裝置的HCl氣體在后續的VCM裝置內混合后反應生成VCM；反應過程中放出的熱量，通過冷劑庚烷汽化移熱；來自反應器的合成氣經凈化、壓縮、冷凝、精餾，得到氯乙烯成品；精餾尾氣采用變壓吸附技術回收尾氣中的VCM、C₂H₂和H₂等。

8.根據權利要求1所述的聚氯乙烯清潔閉環生產系統，其特征是，所述S-PVC的制備過程：部分來自VCM裝置的VCM做為原料，在PVC裝置懸浮聚合生成聚氯乙烯樹脂；聚合漿料再經汽提、離心干燥、成品S-PVC粉料送到產品料倉和包裝料倉。

9.根據權利要求1所述的聚氯乙烯清潔閉環生產系統，其特征是，所述C-PVC是PVC經氯化得到的一個改性產品，來自S-PVC工序的PVC樹脂進入流化床反應器內經氯化的樹脂經脫出氯氣和氯化氫氣體后輸送生成C-PVC并送至料倉。