[發(fā)明專利]一種光柵制造方法及光柵

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410247851.6
• 申請(qǐng)日: 2014-06-05
• 公開（公告）號(hào): CN105445832A
• 公開（公告）日: 2016-03-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔金洪
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北大方正集團(tuán)有限公司;深圳方正微電子有限公司
• 主分類號(hào): G02B5/18
• 分類號(hào): G02B5/18;G03F7/00
• 代理公司: 北京銀龍知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11243
• 代理人: 許靜;黃燦

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及光柵制造領(lǐng)域，特別是指一種光柵制造方法及光柵。

背景技術(shù)

光柵是結(jié)合數(shù)碼科技與傳統(tǒng)印刷的技術(shù)，是近年來(lái)發(fā)展起來(lái)的一種新型器件。其定義是：按一定要求或規(guī)律排列的刻槽或線條的透光的或不透光的(反射的)光學(xué)器件。也可以理解為能夠產(chǎn)生光程差的光學(xué)器件就是光柵。光柵能在特制的膠片上顯現(xiàn)不同的特殊效果，在平面上展示栩栩如生的立體世界，電影般的流暢動(dòng)畫片段，匪夷所思的幻變效果。光柵常常用于色散分光、光學(xué)濾波器、光纖光柵、立體成像、防偽應(yīng)用等。

光柵按不同標(biāo)準(zhǔn)分類不同，按幾何結(jié)構(gòu)分為平面光柵和立體光柵，按作用類型分為反射光柵和透射光柵。這里針對(duì)的是立體反射光柵。原有的制作光柵的流程為：首先在任意型號(hào)的光片上長(zhǎng)氧化層；然后在氧化層上進(jìn)行第一層光刻與刻蝕，完成第一層臺(tái)階，如圖1所示；然后進(jìn)行第二層光刻與刻蝕，完成第二層臺(tái)階，如圖2所示；然后進(jìn)行第三層光刻與刻蝕，完成第三層臺(tái)階，如圖3所示。用一束光照射在光柵芯片上就會(huì)反射出芯片上的圖形。

但是，在光片上長(zhǎng)氧化層二氧化硅是用爐管生長(zhǎng)，不僅需要時(shí)間長(zhǎng)而且二氧化硅除反射外還存在折射現(xiàn)象，影響光柵的亮度。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明的目的是提供一種光柵制造方法及光柵，通過(guò)直接在光片上進(jìn)行光刻與刻蝕，實(shí)現(xiàn)提高光柵亮度的目的。

為達(dá)到上述目的，本發(fā)明的實(shí)施例提供一種光柵制造方法，應(yīng)用于光柵的制造，包括下列步驟：

在光片上進(jìn)行第一層光刻與刻蝕，形成第一層臺(tái)階；

在經(jīng)過(guò)第一層光刻與刻蝕后，在所述第一層臺(tái)階的凹槽內(nèi)進(jìn)行第二層光刻與刻蝕，形成第二層臺(tái)階；

在經(jīng)過(guò)第二層光刻與刻蝕后，在所述第二層臺(tái)階的凹槽內(nèi)進(jìn)行第三層光刻與刻蝕，形成第三層臺(tái)階。

其中，所述在光片上進(jìn)行第一層光刻與刻蝕，形成第一層臺(tái)階的步驟包括：

在光片上表面旋涂光刻膠形成光刻膠薄膜；

利用光刻掩膜板通過(guò)光刻工藝將光刻標(biāo)記位置的光刻膠薄膜去除；

對(duì)所述光刻標(biāo)記位置通過(guò)刻蝕工藝形成第一層臺(tái)階；

通過(guò)剝離工藝將剩余光刻膠薄膜去除。

其中，所述在光片上進(jìn)行第一層光刻與刻蝕，形成第一層臺(tái)階的步驟是在無(wú)氧環(huán)境下完成的。

其中，所述在經(jīng)過(guò)第一層光刻與刻蝕后，在所述第一層臺(tái)階的凹槽內(nèi)進(jìn)行第二層光刻與刻蝕，形成第二層臺(tái)階的步驟包括：

在光片及所述第一層臺(tái)階的凹槽上表面旋涂光刻膠形成光刻膠薄膜；

利用光刻掩膜板通過(guò)光刻工藝將光刻標(biāo)記位置的光刻膠薄膜去除；

對(duì)所述光刻標(biāo)記位置通過(guò)刻蝕工藝形成第二層臺(tái)階；

通過(guò)剝離工藝將剩余光刻膠薄膜去除。

其中，所述在經(jīng)過(guò)第二層光刻與刻蝕后，在所述第二層臺(tái)階的凹槽內(nèi)進(jìn)行第三層光刻與刻蝕，形成第三層臺(tái)階的步驟包括：

在光片、所述第一層臺(tái)階的凹槽及所述第二層臺(tái)階的凹槽上表面旋涂光刻膠形成光刻膠薄膜；

利用光刻掩膜板通過(guò)光刻工藝將光刻標(biāo)記位置的光刻膠薄膜去除；

對(duì)所述光刻標(biāo)記位置通過(guò)刻蝕工藝形成第三層臺(tái)階；

通過(guò)剝離工藝將剩余光刻膠薄膜去除。

其中，所述光片的材料為硅。

本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種光柵，所述光柵包括：

光柵本體；

設(shè)置于所述光柵本體上的第一層臺(tái)階；

設(shè)置于所述第一層臺(tái)階的凹槽內(nèi)的第二層臺(tái)階；

設(shè)置于所述第二層臺(tái)階的凹槽內(nèi)的第三層臺(tái)階。

本發(fā)明的上述技術(shù)方案的有益效果如下：

本發(fā)明實(shí)施例的光柵制造方法，在光片上進(jìn)行第一層光刻與刻蝕，形成第一層臺(tái)階；然后在第一層臺(tái)階的凹槽內(nèi)進(jìn)行第二層光刻與刻蝕，形成第二層臺(tái)階；最后在第二層臺(tái)階的凹槽內(nèi)進(jìn)行第三層光刻與刻蝕，形成第三層臺(tái)階。通過(guò)直接在光片上進(jìn)行光刻與刻蝕的操作，縮短了工藝流程提高生產(chǎn)率的同時(shí)還避免了氧化層除反射外存在的折射現(xiàn)象，提高了光柵清晰度。

附圖說(shuō)明

圖1為現(xiàn)有技術(shù)形成第一層臺(tái)階的示意圖；

圖2為現(xiàn)有技術(shù)形成第二層臺(tái)階的示意圖；

圖3為現(xiàn)有技術(shù)形成第三層臺(tái)階的示意圖；

圖4為本發(fā)明實(shí)施例的光柵制造方法的流程示意圖；

圖5為本發(fā)明實(shí)施例的光柵制造方法形成第一層臺(tái)階的示意圖；

圖6為本發(fā)明實(shí)施例的光柵制造方法形成第二層臺(tái)階的示意圖；

圖7為本發(fā)明實(shí)施例的光柵制造方法形成第三層臺(tái)階的示意圖。

附圖標(biāo)記說(shuō)明：

1-氧化層；2-光片。