[發明專利]一種馬來酸酐開環改性支化低聚物制備的堿溶性光敏樹脂及其光致抗蝕劑組合物

有效

• 申請號: 201410245012.0
• 申請日: 2014-06-05
• 公開（公告）號: CN104017128B
• 公開（公告）日: 2017-08-25
• 發明（設計）人: 劉曉亞;鄭祥飛;劉敬成;劉仁;穆啟道;孫小俠;盧楊斌
• 申請（專利權）人: 蘇州瑞紅電子化學品有限公司;江南大學
• 主分類號: C08F220/18
• 分類號: C08F220/18;C08F220/06;C08F222/06;C08F212/14;C08F8/00;G03F7/004;G03F7/00
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1.一種馬來酸酐開環改性支化低聚物制備的堿溶性光敏樹脂，其特征在于制備步驟如下：

(1)在常壓條件下，將反應單體、熱引發劑和溶劑混合均勻后加入反應器中加熱攪拌，在90℃條件下保溫反應24個小時；

(2)步驟(1)反應完成后升溫至100-120℃，將丙烯酸羥乙酯、阻聚劑、催化劑、適量溶劑混合均勻后勻速滴加到反應器中，保溫反應6個小時；

步驟(1)所用單體為甲基丙烯酸、甲基丙烯酸芐基酯、馬來酸酐、對乙烯基芐硫醇，熱引發劑為偶氮二異丁腈，溶劑為丙二醇甲醚醋酸酯；

步驟(2)中所用的溶劑為丙二醇甲醚醋酸酯，阻聚劑為對苯二酚，催化劑為三苯基膦；

步驟(1)中甲基丙烯酸摩爾含量為單體摩爾總量的30-35％，甲基丙烯酸芐基酯摩爾含量為單體摩爾總量的52％，馬來酸酐摩爾含量為單體摩爾總量的4-8％對乙烯基芐硫醇摩爾含量為單體摩爾總量的5.05%-10％，引發劑摩爾含量為單體總摩爾量的1-3％；

步驟(2)阻聚劑量為丙烯酸羥乙酯質量的1%-2％，催化劑量為丙烯酸羥乙酯質量的1-3％。

2.根據權利要求1所述的一種馬來酸酐開環改性支化低聚物制備的堿溶性光敏樹脂，其特征在于：步驟(1)和步驟(2)的體系固含量為30%-40％。

3.根據權利要求1-2任一項所述的一種馬來酸酐開環改性支化低聚物制備的堿溶性光敏樹脂，其特征在于用途為：可以作為負性光致抗蝕劑的成膜樹脂，其光致抗蝕劑組合物如下：

成膜樹脂 40-70份；

光引發劑 2-5份；

稀釋劑 10-15份；

顏料 5-10份；

溶劑 3-6份。

4.根據權利要求3所述的一種馬來酸酐開環改性支化低聚物制備的堿溶性光敏樹脂，其特征在于所述負性光致抗蝕劑組合物的顯影條件：

(a)將光致抗蝕劑組合物涂覆在銅箔上，80℃條件下預烘一段時間；

(b)將菲林片覆蓋在烘好的樣品上，在80-152mj/cm²條件下曝光；

(c)將曝光好的樣品置于堿液中顯影，得到光致抗蝕劑圖案。