[發(fā)明專利]一種磷硅玻璃鈍化膜的優(yōu)化方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410244676.5 | 申請(qǐng)日： | 2014-06-05 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN105226033A | 公開（公告）日： | 2016-01-06 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 不公告發(fā)明人 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 哈爾濱工大華生電子有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01L23/29 | 分類號(hào)： | H01L23/29;H01L21/316 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 150028 黑龍江省哈爾濱*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 玻璃 鈍化 優(yōu)化 方法 | ||
1.一種磷硅玻璃鈍化膜的優(yōu)化方法，其特征是用磷硅玻璃鈍化膜磷含量控制、磷硅玻璃鈍化膜的磷處理和磷硅玻璃鈍化膜表面保護(hù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種磷硅玻璃鈍化膜的優(yōu)化方法，其特征在于所述磷硅玻璃鈍化膜厚度為5500?～6500?。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的要求所述的一種磷硅玻璃鈍化膜的優(yōu)化方法，在N區(qū)擴(kuò)散后，在溫度定為860℃，生長時(shí)間定為10min源+20minN2，源量流量控制140ml/min條件下進(jìn)行磷硅玻璃鈍化膜的生長。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的要求所述的一種磷硅玻璃鈍化膜的優(yōu)化方法，將磷硅玻璃鈍化膜經(jīng)鹽酸與硝酸體積比為5的比例條件下進(jìn)行磷處理后，在800℃溫度下進(jìn)行退火15min后緩慢拉出放在爐口冷卻5min冷卻。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的要求所述的一種磷硅玻璃鈍化膜的優(yōu)化方法，將的磷硅玻璃鈍化膜退火后的硅片，采用PECVD工藝生長厚度為10000?±500?的氮化硅，保護(hù)磷硅玻璃鈍化膜防止膜潮解。
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