[發(fā)明專利]一種生長在金屬Al襯底上的AlN薄膜及其制備方法和應(yīng)用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410240802.X | 申請日: | 2014-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN103996612B | 公開(公告)日: | 2017-05-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李國強 | 申請(專利權(quán))人: | 廣州市眾拓光電科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/205 | 分類號: | H01L21/205;H01L33/00;H01L33/02;H01L31/18;H01L31/0248 |
| 代理公司: | 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)44288 | 代理人: | 湯喜友 |
| 地址: | 510000 廣東省廣州市廣州*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 生長 金屬 al 襯底 aln 薄膜 及其 制備 方法 應(yīng)用 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及金屬有機化學(xué)氣相沉積法合成膜的技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及生長在金屬Al襯底上的AlN薄膜及其制備方法和應(yīng)用,本發(fā)明主要應(yīng)用在聲波諧振器、邏輯電路、發(fā)光二極管、光電薄膜器件,太陽能電池、光電二極管、光電探測器、激光器等的介電層薄膜。
背景技術(shù)
發(fā)光二極管(LED)作為一種新型固體照明光源和綠色光源,具有體積小、耗電量低、環(huán)保、使用壽命長、高亮度、低熱量以及多彩等突出特點,在室外照明、商業(yè)照明以及裝飾工程等領(lǐng)域都具有廣泛的應(yīng)用。當(dāng)前,在全球氣候變暖問題日趨嚴(yán)峻的背景下,節(jié)約能源、減少溫室氣體排放成為全球共同面對的重要問題。以低能耗、低污染、低排放為基礎(chǔ)的低碳經(jīng)濟,將成為經(jīng)濟發(fā)展的重要方向。在照明領(lǐng)域,LED發(fā)光產(chǎn)品的應(yīng)用正吸引著世人的目光,LED作為一種新型的綠色光源產(chǎn)品,必然是未來發(fā)展的趨勢,二十一世紀(jì)將是以LED為代表的新型照明光源的時代。但是現(xiàn)階段LED的應(yīng)用成本較高,發(fā)光效率較低,這些因素都會大大限制LED向高效節(jié)能環(huán)保的方向發(fā)展。
III族氮化物AlN在電學(xué)、光學(xué)以及聲學(xué)上具有極其優(yōu)異的性質(zhì),近幾年受到廣泛關(guān)注。AlN是直接帶隙材料,且聲波傳輸速度快,化學(xué)和熱穩(wěn)定性好,熱導(dǎo)率高,熱膨脹系數(shù)低,擊穿介電強度高,是制造高效的LED器件的理想材料。目前,GaN基LED的發(fā)光效率現(xiàn)在已經(jīng)達到28%并且還在進一步的增長,該數(shù)值遠遠高于目前通常使用的白熾燈(約為2%)或熒光燈(約為10%)等照明方式的發(fā)光效率。數(shù)據(jù)統(tǒng)計表明,我國目前的照明用電每年在4100億度以上,超過英國全國一年的用電量。如果用LED取代全部白熾燈或部分取代熒光燈,可節(jié)省接近一半的照明用電,超過三峽工程全年的發(fā)電量。因照明而產(chǎn)生的溫室氣體排放也會因此而大大降低。另外,與熒光燈相比,GaN基LED不含有毒的汞元素,且使用壽命約為此類照明工具的100倍。
LED要真正實現(xiàn)大規(guī)模廣泛應(yīng)用,需要進一步提高LED芯片的發(fā)光效率。雖然LED的發(fā)光效率已經(jīng)超過日光燈和白熾燈,但是商業(yè)化LED發(fā)光效率還是低于鈉燈(150lm/w),單位流明/瓦的價格偏高。目前,LED芯片的發(fā)光效率不夠高,一個主要原因是由于其藍寶石襯底造成的。由于藍寶石與GaN的晶格失配高達17%,導(dǎo)致外延GaN薄膜過程中形成很高的位錯密度,從而降低了材料的載流子遷移率,縮短了載流子壽命,進而影響了GaN基器件的性能。其次,由于室溫下藍寶石熱膨脹系數(shù)(6.63×10-6/K)較GaN的熱膨脹系數(shù)(5.6×10-6/K)大,兩者間的熱失配度約為-18.4%,當(dāng)外延層生長結(jié)束后,器件從外延生長的高溫冷卻至室溫過程會產(chǎn)生很大的壓應(yīng)力,容易導(dǎo)致薄膜和襯底的龜裂。再次,由于藍寶石的熱導(dǎo)率低(100℃時為0.25W/cm·K),很難將芯片內(nèi)產(chǎn)生的熱量及時排出,導(dǎo)致熱量積累,使器件的內(nèi)量子效率降低,最終影響器件的性能。此外,由于藍寶石是絕緣體,不能制作垂直結(jié)構(gòu)半導(dǎo)體器件。因此電流在器件中存在橫向流動,導(dǎo)致電流分布不均勻,產(chǎn)生較多熱量,很大程度上影響了GaN基LED器件的電學(xué)和光學(xué)性質(zhì)。
因此迫切尋找一種熱導(dǎo)率高可以快速地將LED節(jié)區(qū)的熱量傳遞出來的材料作為襯底。而金屬Al作為外延氮化物的襯底材料,具有三大其獨特的優(yōu)勢。第一,金屬Al有很高的熱導(dǎo)率,Al的熱導(dǎo)率為2.37W/cm·K,可以將LED芯片內(nèi)產(chǎn)生的熱量及時的傳導(dǎo)出,以降低器件的節(jié)區(qū)溫度,一方面提高器件的內(nèi)量子效率,另一方面有助于解決器件散熱問題。第二,金屬Al可以作為生長GaN基垂直結(jié)構(gòu)的LED器件的襯底材料,可直接在襯底上鍍陰極材料,P-GaN上鍍陽極材料,使得電流幾乎全部垂直流過GaN-基的外延層,因而電阻下降,沒有電流擁擠,電流分布均勻,電流產(chǎn)生的熱量減小,對器件的散熱有利;另外,可以將陰極材料直接鍍在金屬襯底上,不需要通過腐蝕P-GaN層和有源層將電極連在N-GaN層,這樣充分利用了有源層的材料。第三,金屬Al襯底材料相對其他襯底,價格更便宜,可以極大地降低器件的制造成本。正因為上述諸多優(yōu)勢,金屬襯底現(xiàn)已被嘗試用作III族氮化物外延生長的襯底材料。
但是金屬Al襯底在化學(xué)性質(zhì)不穩(wěn)定,當(dāng)外延溫度高于700℃的時候,外延氮化物會與金屬襯底之間發(fā)生界面反應(yīng),嚴(yán)重影響了外延薄膜生長的質(zhì)量。III族氮化物外延生長的先驅(qū)研究者、著名科學(xué)家Akasaki等人就曾嘗試應(yīng)用傳統(tǒng)的MOCVD或者MBE技術(shù)直接在化學(xué)性質(zhì)多變的襯底材料上外延生長氮化物,結(jié)果發(fā)現(xiàn)薄膜在高溫下外延相當(dāng)困難。
發(fā)明內(nèi)容
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于廣州市眾拓光電科技有限公司,未經(jīng)廣州市眾拓光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410240802.X/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





