[發明專利]一種改善柵氧厚度均勻性的方法

有效

• 申請號: 201410239131.5
• 申請日: 2014-05-30
• 公開（公告）號: CN105225934B
• 公開（公告）日: 2018-02-06
• 發明（設計）人: 沈建飛;范建國
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: H01L21/28
• 分類號: H01L21/28
• 代理公司: 上海光華專利事務所(普通合伙)31219
• 代理人: 李儀萍

1.一種改善柵氧厚度均勻性的方法，該方法在石英管裝置中進行，其特征在于，所述改善柵氧厚度均勻性的方法至少包括步驟：

通入一定流量比例的氘氣和氧氣至所述石英管中，并進行點火使所述氘氣和氧氣反應生成D₂O，該D₂O與所述石英管管壁上的Si-O-懸掛鍵中和形成Si-O-D，使之不會打破柵氧生長時的化學平衡，減少Cl^-的生成濃度，從而避免石英管管壁上的Si-O-懸掛鍵影響柵氧生長厚度的均勻性。

2.根據權利要求1所述的改善柵氧厚度均勻性的方法，其特征在于：所述氘氣和氧氣的流量比例范圍為1:1～5:1。

3.根據權利要求1所述的改善柵氧厚度均勻性的方法，其特征在于：所述氘氣和氧氣的點火溫度在1000～1200℃范圍內。

4.根據權利要求1所述的改善柵氧厚度均勻性的方法，其特征在于：所述石英管內的反應壓力在0.8～1.5atm范圍內。

5.根據權利要求1所述的改善柵氧厚度均勻性的方法，其特征在于：所述點火反應生成D₂O的反應時間范圍為1～3小時。

6.根據權利要求1所述的改善柵氧厚度均勻性的方法，其特征在于：所述石英管中還通入二氯乙烯作為柵氧生長的催化劑，所述二氯乙烯由氮氣攜帶進入所述石英管。

7.根據權利要求6所述的改善柵氧厚度均勻性的方法，其特征在于：所述氮氣的流量范圍為0.1～5sccm。

8.根據權利要求1所述的改善柵氧厚度均勻性的方法，其特征在于：采用濕氧氧化工藝生長形成柵氧，所述柵氧厚度范圍為20～200埃。