[發明專利]一種防藍光光學鏡片的制造方法有效
| 申請號: | 201410238603.5 | 申請日: | 2014-05-30 |
| 公開(公告)號: | CN103984120A | 公開(公告)日: | 2014-08-13 |
| 發明(設計)人: | 吳曉彤 | 申請(專利權)人: | 奧特路(漳州)光學科技有限公司 |
| 主分類號: | G02C7/10 | 分類號: | G02C7/10;G02B1/10;C23C14/30;C23C14/08;C23C14/10;C23C14/18 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 防藍光 光學鏡片 制造 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種防藍光光學鏡片的制造方法。
背景技術
人們已經知道紫外線對眼睛會造成傷害,長期的紫外線照射能引發白內障。同樣,藍光是波長為400~500nm的高能量可見光,藍光是可以直接穿透眼角膜、眼睛晶體、直達視網膜,藍光會刺激視網膜產生大量自由基離子,使得視網膜色素上皮細胞的萎縮,并引起光敏感細胞的死亡,視網膜色素上皮細胞對藍光區域的光輻射吸收作用很強,吸收了藍光輻射會使視網膜色素上皮細胞萎縮,這也是產生黃斑病變的主要原因之一;藍光輻射成分越高對視覺細胞傷害越大,視網膜色素上皮細胞的萎縮,會使視網膜的圖像變得模糊,對模糊的影像睫狀肌會在做不斷的調節,加重睫狀肌的工作強度,引起視覺疲勞。在紫外線和藍光的作用下會引起人們的視覺疲勞,視力會逐漸下降,易引起眼睛視覺上的干澀、畏光、疲勞等早發性白內障、自發性黃斑部病變。
目前市場上出售的光學鏡片普遍功能單一,主要就是用于矯正視力無防藍光和紫外線的功能,也沒有適用于普通人群防藍光和紫外線的平光鏡片和光學鏡片。
發明內容
本發明的目的在于提供一種防藍光光學鏡片的制造方法,該方法制造出來的防藍光光學鏡片具有防止有害藍光和紫外線對人體的傷害,該防藍光光學鏡片同時還具有防油污和自主光學調控的功能。
為實現上述目的,本發明采用以下技術方案:
一種防藍光光學鏡片的制造方法,所述制造方法是在基片外表面和內表面分別蒸鍍膜系形成防藍光光學鏡片,所述制造方法具體包括以下步驟:
1)對基片進行清洗;
2)基片清洗后的干燥:將清洗后的基片用異丙醇脫干,脫干后的基片采用異丙醇慢拉干燥;
3)基片鍍膜前在真空蒸鍍機的真空艙內的再次清洗:將異丙醇慢拉干燥后的基片置于真空蒸鍍機的真空艙內,將真空艙內的真空度調整至小于或等于9.5×10-3帕,啟動離子源對基片進行清洗;
4)基片的鍍膜:基片的鍍膜包括在基片的外表面鍍膜系和在基片的內表面鍍膜系;
A、基片的外表面鍍膜系依序包括鍍抗沖擊強化膜層、鍍抗紫外線膜層、鍍防藍光膜層、鍍光學調控膜層、鍍防油污膜層;
A1、鍍抗沖擊強化膜層:將真空艙內的真空度調整至小于或等于2.0×10-3帕,采用電子槍,將抗沖擊強化膜層的膜材進行蒸發后,在離子源的作用下所述膜材以納米級分子形式沉積于基片外表面,形成抗沖擊強化膜層,抗沖擊強化膜層的厚度為0.1-600納米;所述抗沖擊強化膜層的膜材為氧化硅;
A2、鍍抗紫外線膜層:采用電子槍將抗紫外線膜層的膜材進行蒸發后,在離子源的作用下所述膜材以納米級分子形式沉積于步驟A1中抗沖擊強化膜層的表面,形成抗紫外線膜層,抗紫外線膜層的厚度為0.1-600納米;所述抗紫外線膜層的膜材包括以下重量比組分的混合物:氧化硅20%-80%;氧化鋯20%-80%;
A3、鍍防藍光膜層:采用電子槍將防藍光膜層的膜材進行蒸發后,在離子源的作用下所述膜材以納米級分子形式沉積于步驟A2中抗紫外線膜層的表面,形成防藍光膜層,防藍光膜層的厚度為0.1-600納米;所述防藍光膜層的膜材包括以下重量比組分的混合物:氧化錫30%-60%;銣10%-40%;鉑10%-40%。
重復步驟A3至少一次以上,形成兩層以上相互堆疊的防藍光膜層;
A4、鍍光學調控膜層:采用電子槍將光學調控膜層的膜材進行蒸發后,在離子源的作用下所述膜材以納米級分子形式沉積于步驟A3中防藍光膜層的表面,形成光學調控膜層,光學調控膜層的厚度為0.1-600納米;所述光學調控膜層的膜材包括以下重量比組分的混合物:鋁40%-60%;氧化硅40%-60%;
A5、鍍防油污膜層:采用電子槍將防油污膜層的膜材進行蒸發后,在離子源的作用下所述膜材以納米級分子形式沉積于步驟A4中光學調控膜層的表面,形成防油污膜層,防油污膜層的厚度為0.1-600納米;所述防油污膜層的膜材包括以下重量比組分的混合物:氟化鎂60%-80%;氧化鋯20%-40%;
防油污膜層鍍膜完成,基片的外表面鍍膜系完成后,轉入基片的內表面鍍膜系;
B、基片的內表面鍍膜系依序包括鍍抗沖擊強化膜層、鍍抗紫外線膜層、鍍防藍光膜層、鍍防油污膜層;
B1、鍍抗沖擊強化膜層:采用電子槍,將抗沖擊強化膜層的膜材進行蒸發后,在離子源的作用下所述膜材以納米級分子形式沉積于基片內表面表面,形成抗沖擊強化膜層,抗沖擊強化膜層的厚度為0.1-600納米;所述抗沖擊強化膜層的膜材為氧化硅;
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