[發明專利]一種Nb2O5/Cu/Nb2O5結構透明電極的制備方法有效
| 申請號： | 201410238590.1 | 申請日： | 2014-05-30 |
| 公開（公告）號： | CN103993280A | 公開（公告）日： | 2014-08-20 |
| 發明（設計）人： | 李玲霞;于仕輝;許丹;董和磊;金雨馨 | 申請（專利權）人： | 天津大學 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35;C23C14/08;C23C14/18 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人： | 張宏祥 |
| 地址： | 300072*** | 國省代碼： | 天津;12 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 nb sub cu 結構 透明 電極 制備 方法 | ||
1.一種Nb2O5/Cu/Nb2O5結構透明電極的制備方法，具有如下步驟：
(1)將Nb2O5靶材和Cu靶材裝入磁控濺射腔體內，另將清潔干燥的玻璃襯底放入磁控濺射樣品臺上，靶材與襯底的距離為40mm～90mm；
(2)待步驟(1)完成后，將磁控濺射系統的本底真空度抽至1.0×10-5Torr以下，使用Ar作為濺射氣體濺射Nb2O5層，濺射總氣壓為5mTorr～20mTott，濺射功率為50～200W，進行沉積得到厚度為20nm～120nm的Nb2O5層；
(3)待步驟(2)完成后，開始濺射Cu層，濺射氣壓為3mTorr～20mTott，濺射功率30～200W，沉積得到厚度為3nm～20nm的Cu層；
(4)待步驟(3)完成后，重新濺射Nb2O5層，濺射總氣壓為5mTorr～20mTott，濺射功率為50～200W，進行沉積得到厚度為20nm～120nm的Nb2O5層，制得Nb2O5/Cu/Nb2O5結構透明電極。
2.根據權利要求1所述的一種Nb2O5/Cu/Nb2O5結構透明電極的制備方法，其特征在于，所述步驟(1)的Nb2O5靶材中Nb2O5的純度為99％，Cu靶材中Cu的純度為99.99％。
3.根據權利要求1所述的一種Nb2O5/Cu/Nb2O5結構透明電極的制備方法，其特征在于，所述步驟(1)的襯底為玻璃襯底、石英襯底或者藍寶石襯底，使用前用丙酮、無水乙醇和去離子水超聲洗滌，并用高純氮氣吹干。
4.根據權利要求1所述的一種Nb2O5/Cu/Nb2O5結構透明電極的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)的Ar的純度在99.99％以上。
5.根據權利要求1所述的一種Nb2O5/Cu/Nb2O5結構透明電極的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)或步驟(4)沉積得到Nb2O5層的厚度為30nm～60nm。
6.根據權利要求1所述的一種Nb2O5/Cu/Nb2O5結構透明電極的制備方法，其特征在于，所述步驟(3)沉積得到Cu層的厚度為9nm～11nm。
7.根據權利要求1所述的一種Nb2O5/Cu/Nb2O5結構透明電極的制備方法，其特征在于，所述步驟(2)、(3)或(4)的薄膜層厚度通過調節工藝參數或沉積時間來控制。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于天津大學，未經天津大學許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410238590.1/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
- 一種Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>復相熱障涂層材料
- 無鉛[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>納米管及其制備方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一種Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 復合膜及其制備方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 熒光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一種(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制備方法
- 熒光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>復合材料的制備方法
