[發(fā)明專利]一種顯影可降解聚合物支架及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410234058.2 | 申請日: | 2014-05-29 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104056307A | 公開(公告)日: | 2014-09-24 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 程克奇;常恩澤;高康榮;袁新;袁玲 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市信立泰生物醫(yī)療工程有限公司 |
| 主分類號(hào): | A61L31/10 | 分類號(hào): | A61L31/10;A61L31/18;A61L31/16;A61F2/915 |
| 代理公司: | 深圳市科吉華烽知識(shí)產(chǎn)權(quán)事務(wù)所(普通合伙) 44248 | 代理人: | 胡吉科 |
| 地址: | 518102 廣東省*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 顯影 降解 聚合物 支架 及其 制備 方法 | ||
1.一種顯影可降解聚合物心血管支架的制備方法,包括:首先對可降解聚合物心血管支架基體(4)表面進(jìn)行活化親水性處理;其次將可降解聚合物、顯影劑和極性溶劑制備成溶液,并通過等離子氣相沉積的方法沉積于支架表面,制備得到顯影涂層(3)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種顯影可降解聚合物心血管支架的制備方法,其特征在于,所述表面活化親水性處理工藝為等離子清洗、微弧氧化、陽極氧化或?yàn)R射。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述一種顯影可降解聚合物心血管支架的制備方法,其特征在于,所述等離子氣相沉積法其功率為10 KHz -100KHz,以氮?dú)饣驓鍤舛栊詺怏w作為載氣,涂層時(shí)工作艙內(nèi)的壓力為0.01 atm -0.3atm,處理時(shí)間為1 min -30min,工作艙體的溫度控制在20℃-50℃。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述一種顯影可降解聚合物心血管支架的制備方法,其特征在于,所述等離子氣相沉積法其功率為10 KHz -100KHz,以氮?dú)饣驓鍤舛栊詺怏w作為載氣,涂層時(shí)工作艙內(nèi)的壓力為0.01 atm -0.3atm,處理時(shí)間為1 min -30min,工作艙體的溫度控制在20℃-50℃。
5.根據(jù)權(quán)利要求2至4任一權(quán)利要求所述一種顯影可降解聚合物心血管支架的制備方法,其特征在于,所述等離子清洗以氧氣為載體,在20℃-50℃下進(jìn)行,其功率為10 KHz -100KHz,清洗時(shí)工作艙內(nèi)的壓力為0.01atm-0.3atm,時(shí)間為5min-30min。
6.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一權(quán)利要求所述一種顯影可降解聚合物心血管支架的制備方法,其特征在于,
所述心血管支架基體(4)是由可降解的聚合物構(gòu)成,可降解聚合物包括聚乳酸、聚碳酸酯、聚丙交酯-乙交酯共聚物或聚水楊酸中的一種或其兩種以上的共聚物;
所述顯影涂層(3)中使用的顯影劑為泛影酸、泛影葡胺、碘海醇、碘普羅胺或碘佛醇中的的一種或兩種以上;
所述顯影涂層(3)中使用的可降解聚合物包括合成或天然材料,其中合成的材料為聚乳酸、聚碳酸酯、聚丙交酯-乙交酯共聚物或聚水楊酸中的一種或者兩種以上;或天然的材料為明膠、水凝膠或膠原蛋白中的一種或者兩種以上;
所述極性溶劑為水、酒精或水和酒精任意比例的混合溶劑。
7.根據(jù)權(quán)利要求1至4任一權(quán)利要求所述一種顯影可降解聚合物心血管支架的制備方法,其特征在于,在顯影涂層(3)表面上涂覆一層保護(hù)涂層(2);以及在保護(hù)層(2)表面上涂覆一層藥物涂層(1)。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述一種顯影可降解聚合物心血管支架的制備方法,其特征在于,所述藥物涂層所使用的藥物包括雷帕霉素、紫杉醇、CD34抗體或依維莫司;所述保護(hù)層(2)為聚乳酸、聚碳酸酯、聚丙交酯-乙交酯共聚物或聚水楊酸材料中的一種或者兩種以上;所述藥物涂層(3)的載體為聚乳酸、聚碳酸酯、聚丙交酯-乙交酯共聚物或聚水楊酸材料中的一種或者兩種以上。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述一種顯影可降解聚合物心血管支架的制備方法,其特征在于,所述顯影涂層(3)厚度為0.5μm-2μm;所述保護(hù)涂層(2)厚度為1μm-3μm;所述藥物涂層(1)厚度為4μm-6μm。
10.一種顯影可降解聚合物心血管支架,其特征在于,所述支架通過權(quán)利要求1至9任一權(quán)利要求所述方法制備得到,所述支架在溫度25℃-45℃,液體流速10ml/min-100ml/min下沖刷12小時(shí)-48小時(shí),顯影涂層的斷裂處數(shù)小于或等于3處。
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