[發(fā)明專利]一種測定化合物抗氧化性的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410232875.4 | 申請日: | 2014-05-29 |
| 公開(公告)號: | CN104007199A | 公開(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發(fā)明(設計)人: | 顏軍;茍小軍;何鋼;郭曉強;梁立 | 申請(專利權)人: | 成都大學 |
| 主分類號: | G01N30/02 | 分類號: | G01N30/02;G01N30/06 |
| 代理公司: | 四川君士達律師事務所 51216 | 代理人: | 芶忠義 |
| 地址: | 610106 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 測定 化合物 氧化 方法 | ||
技術領域
本發(fā)明涉及化學分析領域,尤其涉及一種測定化合物抗氧化性的方法。
背景技術
近年來研究表明自由基是引起衰老和人類許多疾病的重要因素。例如癌癥、多發(fā)性硬化癥、帕金森疾病、自身免疫疾病、局部缺血、貧血癥、老年癡呆病慢性肺炎等都與自由基有關。在生物體內,需氧代謝的氧化還原反應所產生的羥基自由基,可以引發(fā)不飽和脂肪酸發(fā)生脂質過氧化反應,并損傷膜結構及功能。因此篩選出具有良好抗氧化活性的化合物是開發(fā)治療此類疾病藥物的關鍵。
國內外對羥基自由基的測定均進行了大量的研究,現(xiàn)有的方法主要有三種:一是電子自旋共振法,但此方法必須在捕捉自由基后立即進行測定,從而限制了許多實驗研究;二是Fenton法,F(xiàn)enton試劑法及類Fenton試劑法目前尚屬試驗和探索階段,雖然國內外的研究不少,但是在試驗中產生羥基自由基的過程中,涉及到的溫度,濕度,pH等環(huán)境因素的多重影響,試驗穩(wěn)定性差。三是電解氧化法,由于受到電極材料的限制,該法能耗大,操作繁瑣,設備陳本高。
高效液相色譜法可用于間接測定自由基。測定過程中必須先選擇合適的化合物捕集被測體系中的自由基,使之生成具有一定穩(wěn)定性,且能被液相色譜分離與檢測的產物,然后用HPLC進行測定。有文獻報道以二甲基亞砜、水楊酸捕集羥基自由基進行HPLC測定或用Fenton反應產生·OH后分光光度計法進行測定。但是這些方法中同樣存在實驗穩(wěn)定性差的問題。
因此,本領域的技術人員致力于開發(fā)一種操作簡單方便,結果重現(xiàn)性好的測定化合物抗氧化性的方法。
發(fā)明內容
有鑒于現(xiàn)有技術的上述缺陷,本發(fā)明所要解決的技術問題是提供一種測定化合物抗氧化活性的方法。
本發(fā)明的目的在于提供一種簡便易行的測定化合物抗氧化活性的方法。
經過申請人系統(tǒng)而深入的研究,意外地發(fā)現(xiàn)利用紫外線光解過氧化氫溶液產生·OH,以對羥基苯甲酸(式I)作為捕捉劑,與·OH反應產生3,4-二羥基苯甲酸,通過HPLC檢測生成的3,4-二羥基苯甲酸含量可以間接測定化合物清除·OH的能力。
本發(fā)明的第一方面提供了一種測定化合物抗氧化活性的方法,所述方法以紫外線光解過氧化氫溶液產生·OH,以對羥基苯甲酸與·OH反應產生3,4-二羥基苯甲酸,通過檢測生成的3,4-二羥基苯甲酸含量可以間接測定化合物清除·OH的能力。
進一步地,所述方法包括步驟:
(1)制備反應體系
配制對羥基苯甲酸和待測化合物的混合溶液,在所述混合溶液中加入過氧化氫得反應體系;
(2)紫外線光解
利用紫外線照射所述檢測體系;
(3)HPLC檢測
紫外線光解完成后,HPLC檢測反應體系中3,4-二羥基苯甲酸的生成量。
進一步地,所述步驟(1)中,反應體系中過氧化氫體積終濃度為0.01%-1.50%,對羥基苯甲酸濃度為0.001mmol/L-1.000mmol/L。優(yōu)選地,反應體系中過氧化氫體積終濃度為0.05%-1.0%,對羥基苯甲酸濃度為0.01mmol/L-0.5mmol/L
進一步地,所述步驟(2)中,紫外線光解時間為0.5-1.0小時,紫外線功率為15W-75W。
進一步地,所述步驟(3)中,HPLC檢測波長為254nm。
進一步地,所述步驟(3)中,HPLC檢測條件為:色譜柱:C18柱((4.6×250mm,5um);流動相:甲醇:0.1%H3PO4=30:70;流速:1.0ml/min;柱溫:35℃;進樣量:20ul。
在本發(fā)明的第二方面,提供了一種對羥基苯甲酸的用途,所述用途為將對羥基苯甲酸用于檢測樣品中的·OH含量。
在本發(fā)明的第三方面,提供了一種測定化合物抗氧化活性的裝置,所述裝置包括反應容器和紫外光源,其中反應容器中包含反應溶液,所述反應溶液中包括對羥基苯甲酸、待測化合物和過氧化氫。
進一步地,所述裝置還包括殼體,所述殼體提供容置所述反應容器和所述紫外光源的空間。
進一步地,所述裝置還包括蓋體,所述蓋體蓋合于所述殼體上,形成密閉的反應空間。
根據本發(fā)明第三方面的裝置可以執(zhí)行根據本發(fā)明第一方面的方法。
技術效果
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