[發(fā)明專(zhuān)利]Al-Ge共晶鍵合預(yù)處理方法及鍵合方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410231382.9 | 申請(qǐng)日: | 2014-05-29 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN105197872A | 公開(kāi)(公告)日: | 2015-12-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 顧佳燁;王宇翔 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 上海矽睿科技有限公司 |
| 主分類(lèi)號(hào): | B81C1/00 | 分類(lèi)號(hào): | B81C1/00 |
| 代理公司: | 上海翼勝專(zhuān)利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 孫佳胤 |
| 地址: | 201815 上海市嘉*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | al ge 共晶鍵合 預(yù)處理 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體制造領(lǐng)域,尤其涉及一種Al-Ge共晶鍵合預(yù)處理方法及鍵合方法。
背景技術(shù)
MEMS技術(shù)最近幾年發(fā)展迅速,產(chǎn)品應(yīng)用到了國(guó)民生活的方方面面。智能社會(huì)的建立和物聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展普及離不開(kāi)MEMS的技術(shù)發(fā)展和產(chǎn)品開(kāi)發(fā)。現(xiàn)在MEMS的產(chǎn)品尺寸有越來(lái)越小的趨勢(shì),功耗要求也越來(lái)越高。WLCSP作為一項(xiàng)新興技術(shù)在MEMS器件集成度越來(lái)越高的前提下可以減小產(chǎn)品尺寸,降低功耗和成本。
Al-Ge作為與普通半導(dǎo)體兼容的材料擁有較低的共融溫度,滿(mǎn)足IC晶圓的熱平衡要求。Al-Ge共晶鍵合后,擁有很好的電連接性能及氣密性,完全可以滿(mǎn)足MEMS和IC器件對(duì)電連接的要求及封閉腔體真空度的要求。但是,Al和Ge的表面都非常易于氧化,在鍵合時(shí)需要引入還原性氣體(如H2)以還原氧化層,還原性氣體的加入會(huì)增加成本,還會(huì)有安全方面的隱患。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明所要解決的技術(shù)問(wèn)題是,提供Al-Ge共晶鍵合預(yù)處理方法及鍵合方法,它沒(méi)有采用還原性氣體去除鋁及鍺表面的氧化層,而是采用化學(xué)性質(zhì)不活潑的氣體排除空氣,防止鋁及鍺氧化,降低鍵合成本,提高鍵合安全性。
為了解決上述問(wèn)題,本發(fā)明提供一種Al-Ge共晶鍵合預(yù)處理方法,包括如下步驟:提供一表面具有鍺頂層的第一襯底及一表面具有鋁頂層的第二襯底;充入化學(xué)性質(zhì)不活潑的氣體,排除空氣,防止所述鍺頂層及鋁頂層被氧化。
本發(fā)明還提供一種鍵合方法,包括如下步驟:提供一表面具有鍺頂層的第一襯底及一表面具有鋁頂層的第二襯底;充入化學(xué)性質(zhì)不活潑的氣體,排除空氣,防止所述鍺頂層及鋁頂層被氧化;以所述鍺頂層及所述鋁頂層為中間層對(duì)所述第一襯底及第二襯底進(jìn)行鍵合。
在所述鍵合步驟之前,進(jìn)一步包括一以所述鍺頂層及所述鋁頂層為中間層對(duì)所述第一襯底及第二襯底進(jìn)行預(yù)鍵合的步驟:對(duì)鍵合腔體抽真空至預(yù)設(shè)值,并加熱所述第一襯底及第二襯底至預(yù)鍵合溫度;將所述第一襯底的鍺頂層與所述第二襯底的鋁頂層貼合,并施加預(yù)鍵合壓力,保持一定時(shí)間。
所述預(yù)鍵合溫度為380~400攝氏度,所述預(yù)鍵合壓力為5000~40000牛頓,所述預(yù)鍵合時(shí)間為3~15分鐘。
在所述鍵合步驟之前,在充入化學(xué)性質(zhì)不活潑的氣體之前,進(jìn)一步包括一將所述鍺頂層與所述鋁頂層對(duì)準(zhǔn)的步驟。在對(duì)準(zhǔn)步驟中,所述第一襯底與所述第二襯底互不接觸。
在所述鍵合步驟之后,進(jìn)一步包括一降壓降溫步驟:撤銷(xiāo)鍵合壓力;充入化學(xué)性質(zhì)不活潑的氣體;冷卻至室溫。
所述鍵合步驟的鍵合溫度為420~450攝氏度,鍵合壓力為20000~50000牛頓,鍵合時(shí)間為5~30分鐘。
所述鍺頂層厚度為0.35~1微米,所述鋁頂層的厚度為0.5~2微米,所述鋁頂層的厚度大于所述鍺頂層的厚度。
所述鍺頂層及所述鋁頂層為圖形化的鍺頂層及鋁頂層,所述鍺頂層的圖形的尺寸為10~100微米,所述鋁頂層的圖形的尺寸為10~100微米,所述鋁頂層的圖形的尺寸大于所述鍺頂層的圖形的尺寸。
本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)在于,沒(méi)有采用還原性氣體去除鋁及鍺表面的氧化層,而是采用化學(xué)性質(zhì)不活潑的氣體排除空氣,防止鋁及鍺氧化。在預(yù)鍵合及鍵合過(guò)程中只存在化學(xué)性質(zhì)不活潑的氣體(如N2或者惰性氣體),無(wú)需還原性氣體(通常是H2)的引入,簡(jiǎn)化工藝,降低成本,提高工藝操作安全性。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明Al-Ge共晶鍵合的預(yù)處理方法的步驟示意圖;
圖2所示為本發(fā)明鍵合方法的步驟示意圖;
圖3A~圖3D為本發(fā)明Al-Ge共晶鍵合的方法的工藝流程圖;
圖4為預(yù)鍵合步驟示意圖。
具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明提供的Al-Ge共晶鍵合預(yù)處理的方法及鍵合方法的具體實(shí)施方式做詳細(xì)說(shuō)明。
參見(jiàn)圖1,本發(fā)明Al-Ge共晶鍵合預(yù)處理方法包括如下步驟:
步驟S10,提供一表面具有鍺頂層的第一襯底及一表面具有鋁頂層的第二襯底。
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