[發(fā)明專利]金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410230913.2 | 申請日: | 2014-05-28 |
| 公開(公告)號: | CN105278709A | 公開(公告)日: | 2016-01-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 葉裕洲;胡志明;崔久震 | 申請(專利權(quán))人: | 介面光電股份有限公司 |
| 主分類號: | G06F3/041 | 分類號: | G06F3/041 |
| 代理公司: | 隆天知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003 | 代理人: | 王芝艷;鄒宗亮 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 金屬 線路 微結(jié)構(gòu) 制法 | ||
1.一種金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,包括步驟:
(a)提供一基板;
(b)形成一籽晶層于該基板的一表面上;
(c)形成一光致抗蝕劑層于該籽晶層的該表面上,且進(jìn)行一曝光及光刻工藝以于該光致抗蝕劑層中形成一溝槽圖案,其中該溝槽圖案具有一特定溝槽寬度;
(d)以電鍍方式將一金屬導(dǎo)電層填入該溝槽圖案;以及
(e)移除該光致抗蝕劑層及移除未為該金屬導(dǎo)電層接觸與連接的該籽晶層的部分,以形成該金屬線路微結(jié)構(gòu)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,其中該基板為一透明基板、一柔性基板或一柔性透明基板。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,其中該籽晶層的厚度介于5nm至100nm之間,且該籽晶層為金屬或金屬合金,其中該金屬或金屬合金選自鉻/金金屬膜、鈦/金金屬膜、鈦/銅金屬膜、銅/銅金屬膜或鈦鎢/金金屬膜。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,其中該溝槽圖案具有一特定溝槽深度,該特定溝槽寬度介于1μm至20μm之間,該特定溝槽深度介于0.1μm至20μm之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求4的金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,其中該特定溝槽寬度介于1μm至5μm之間,該特定溝槽深度介于0.1μm至2μm之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求4的金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,其中該特定溝槽寬度為3μm以下。
7.根據(jù)權(quán)利要求1的金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,其中于該步驟(c)中,還暴露部分的該籽晶層,且于該步驟(d)中,該金屬導(dǎo)電層與暴露的該籽晶層的部分接觸與連接。
8.根據(jù)權(quán)利要求1的金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,其中該金屬導(dǎo)電層的材料選自銅、金、銀、鋁、鎢、鐵、鎳、鉻、鈦、鉬、銦、錫或其至少任二者以上所組成的復(fù)合材料。
9.根據(jù)權(quán)利要求1的金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,其中該金屬導(dǎo)電層的寬度對應(yīng)于該特定溝槽寬度,且該金屬導(dǎo)電層的厚度介于0.1μm至2μm。
10.一種金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,包括步驟:
(a)提供一基板;
(b)形成一籽晶層于該基板的一表面上;
(c)形成一光致抗蝕劑層于該籽晶層的該表面上,且進(jìn)行一曝光與光刻工藝以于該光致抗蝕劑層中形成一溝槽圖案,其中該溝槽圖案具有一特定溝槽寬度;
(d)以電鍍方式將一金屬導(dǎo)電層填入該溝槽圖案;
(e)將一抗氧化層填入該溝槽圖案,且該抗氧化層形成于該金屬導(dǎo)電層上;以及
(f)移除該光致抗蝕劑層及移除未為該金屬導(dǎo)電層接觸與連接的該籽晶層的部分,以形成該金屬線路微結(jié)構(gòu)。
11.根據(jù)權(quán)利要求10的金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,其中該抗氧化層為一抗氧化金屬層,且該抗氧化層包含酚醛樹脂、感光化合物、有機(jī)有色高分子染料、無機(jī)有色染料以及溶劑。
12.一種金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,包括步驟:
(a)提供一基板;
(b)形成一籽晶層于該基板的一表面上;
(c)形成一光致抗蝕劑層于該籽晶層的該表面上,且進(jìn)行一曝光與光刻工藝以于該光致抗蝕劑層中形成一第一溝槽圖案及一第二溝槽圖案,其中該第一溝槽圖案具有一第一特定溝槽寬度,該第二溝槽圖案具有一第二特定溝槽寬度,該第二特定溝槽寬度大于該第一特定溝槽寬度;
(d)將一金屬導(dǎo)電層分別填入該第一溝槽圖案及該第二溝槽圖案;以及
(e)移除該光致抗蝕劑層及移除未為該金屬導(dǎo)電層接觸與連接的該籽晶層的部分,以形成一第一金屬線路微結(jié)構(gòu)及一第二金屬線路微結(jié)構(gòu)。
13.根據(jù)權(quán)利要求12的金屬線路微結(jié)構(gòu)的制法,其中該第一特定溝槽寬度介于1μm至5μm之間,該第二特定溝槽寬度介于5μm至20μm之間,且該第一金屬線路微結(jié)構(gòu)及該第二金屬線路微結(jié)構(gòu)的線寬分別對應(yīng)于該第一特定溝槽寬度及該第二特定溝槽寬度。
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