[發明專利]光刻曝光裝置有效
| 申請號： | 201410225848.4 | 申請日： | 2014-05-26 |
| 公開（公告）號： | CN105242495B | 公開（公告）日： | 2017-08-25 |
| 發明（設計）人： | 王婷婷;楊曉青;王帆 | 申請（專利權）人： | 上海微電子裝備（集團）股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙)31237 | 代理人： | 屈蘅,李時云 |
| 地址： | 201203 上*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 光刻 曝光 裝置 | ||
1.一種光刻曝光裝置，沿光傳播方向依序包括：
照明單元，用于為光刻曝光裝置提供照明光；
圖案化裝置，為所述光刻曝光裝置提供光刻圖形；
分光裝置，用于將透過所述圖案化裝置入射的照明光分為多束光；
投影物鏡，用于將所述多束光投射到多個曝光視場。
2.如權利要求1所述的光刻曝光裝置，其特征在于，通過改變所述圖案化裝置與分光裝置入射表面之間的水平相對位置，調節多個曝光視場間的間距。
3.如權利要求1所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述分光裝置采用分光轉折棱鏡。
4.如權利要求1所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述分光裝置設有一組或多組。
5.如權利要求1所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述投影物鏡設置有一組或多組。
6.如權利要求1所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述多個曝光視場位于至少一個曝光基底上。
7.如權利要求1所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述照明單元采用汞燈、LED或激光器。
8.如權利要求1所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述分光裝置中設置有半透半反膜。
9.如權利要求1所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述圖案化裝置為掩模或空間光調制器。
10.一種光刻曝光裝置，沿光傳播方向依序包括：
照明單元，用于為光刻曝光裝置提供照明光；
圖案化裝置，為所述光刻曝光裝置提供光刻圖形；
投影物鏡，將透過所述圖案化裝置入射的照明光投影到分光裝置的入射表面；
分光裝置，將入射的照明光束分成多束光分別照射多個曝光視場。
11.如權利要求10所述的光刻曝光裝置，其特征在于，通過改變所投影物鏡與分光裝置入射表面之間的水平相對位置，調節多個曝光視場間的間距。
12.如權利要求10所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述分光裝置采用分光轉折棱鏡。
13.如權利要求10所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述分光裝置設有一組或多組。
14.如權利要求10所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述投影物鏡設置有一組或多組。
15.如權利要求10所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述多個曝光視場位于至少一個曝光基底上。
16.如權利要求10所述的光刻曝光裝置，其特征在于，所述圖案化裝置為掩模或空間光調制器。
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