[發(fā)明專利]一種薄膜太陽能電池的生產(chǎn)方法及其電沉積裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410225488.8 | 申請(qǐng)日: | 2014-05-26 |
| 公開(公告)號(hào): | CN105206703B | 公開(公告)日: | 2018-04-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 張征宇;李偉中 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京恒基偉業(yè)投資發(fā)展有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L31/18 | 分類號(hào): | H01L31/18;C25D17/12 |
| 代理公司: | 北京三聚陽光知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11250 | 代理人: | 張杰 |
| 地址: | 100083 北京市海淀區(qū)*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 薄膜 太陽能電池 生產(chǎn) 方法 及其 沉積 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種薄膜太陽能電池,具體涉及一種薄膜太陽能電池的生產(chǎn)方法及其電沉積裝置。
背景技術(shù)
太陽能電池又稱為“太陽能芯片”或光電池,是通過光電效應(yīng)或者光化學(xué)效應(yīng)直接把光能轉(zhuǎn)化成電能的裝置。其中,以光電效應(yīng)工作的薄膜太陽能電池為主。
一般,薄膜太陽能電池迎向太陽光朝上放置,從下往上依次主要包括下封裝層、基底層、背電極層、背接觸層、吸收層、窗口層、上接觸層和上封裝層等。中國專利CN101807622A公開了一種制備碲化鎘薄膜太陽能電池組件的方法,其包括如下步驟:
首先,在透明導(dǎo)電薄膜玻璃上沉積CdS薄膜獲得“glass/TCO/CdS”;
然后,在“glass/TCO/CdS”上沉積碲化鎘薄膜獲得“glass/TCO/CdS/CdTe”;
然后,對(duì)“glass/TCO/CdS/CdTe”進(jìn)行含氯化鎘氣氛下的熱處理;
然后,使用激光刻劃熱處理后的“glass/TCO/CdS/CdTe”,刻劃掉“TCO/CdS/CdTe”后進(jìn)行化學(xué)腐蝕使碲化鎘表面富碲;
然后,在“glass/TCO/CdS/CdTe”上刻劃掉“TCO/CdS/CdTe”的刻痕上填注低溫固化膠;
然后,沉積背接觸層,然后進(jìn)行背接觸層熱處理;
然后使用激光在TCO/CdS/CdTe刻痕附近刻刻劃掉CdS/CdTe/背接觸層;
然后,沉積金屬背電極層,然后使用激光刻劃掉TCO/CdS/CdTe刻痕和CdS/CdTe/背接觸層刻痕附近的CdS/CdTe/背接觸層/金屬背電極。
即上述制備碲化鎘薄膜太陽能電池組件的方法,先在透明導(dǎo)電層上沉積硫化鎘,通過激光刻劃第一溝槽;填充第一溝槽;沉積背接觸層后使用激光刻劃第二溝槽;沉積金屬背電極后刻劃第三溝槽。其中,鎘元素屬于稀有金屬,上述制備太陽能電池組件的方法工藝步驟繁多復(fù)雜,且刻劃去除CdS和CdTe的步驟多,對(duì)含鎘元素的材料浪費(fèi)嚴(yán)重,不僅對(duì)環(huán)境污染嚴(yán)重,而且制造成本很高。
此外,背接觸層、吸收層和窗口層的設(shè)置都是可以通過電沉積來實(shí)現(xiàn)的;電沉積時(shí),需將待電沉積的具有一定面積的待電沉積平板放置在電解液中,待電沉積平板兩端夾持后,即可通電進(jìn)行。從薄膜太陽能電池的性能來講,為了保證其光透過率,提高其光電轉(zhuǎn)換效率,背接觸層、吸收層、窗口層的厚度要求比較苛刻,需要設(shè)置得非常薄,以背接觸層為例,在其上鍍吸收層時(shí),由于背接觸層很薄,所以其電阻很大,在待電沉積平板兩端通電時(shí),電沉積的吸收層非常容易形成兩端厚中間薄的不均勻鍍層,而鍍層不均勻則會(huì)導(dǎo)致光電轉(zhuǎn)換效率降低。
為了解決上述技術(shù)問題,美國專利文獻(xiàn)US2011/0290641A1公開了一種快速化學(xué)電沉積法生產(chǎn)太陽能電池的裝置和方法,包括具有很多接觸頂針的支撐結(jié)構(gòu),每個(gè)所述接觸頂針都與基底層表面電接觸,給所述基底層提供用于電沉積的電位(An apparatus for electrodeposition,comprising a support structure including a plurality of contact pins,each contact pin of said plurality of contact pins configure to establish electrical con tact with a substrate surface and thereby supply plating potential to the substrate)。上述裝置可用于對(duì)背接觸層、吸收層、窗口層、上接觸層進(jìn)行電沉積生產(chǎn)。該技術(shù)通過設(shè)置很多接觸頂針,將電流通過接觸頂針均勻的均勻地分布在待電沉積平板上,從而有效地將待電沉積平板的電阻降低,使得電沉積層可以分布更為均勻;但是,待電沉積完畢、移除接觸頂針后,設(shè)置接觸頂針的地方就會(huì)產(chǎn)生接觸頂針孔,如果不對(duì)該接觸頂針孔進(jìn)行填補(bǔ),太陽能電池在使用時(shí)就會(huì)產(chǎn)生斷路,因此,需要在移除接觸頂針后在接觸頂針孔中填充電絕緣物質(zhì),由于電絕緣物質(zhì)不參與光電轉(zhuǎn)換,被稱為死區(qū),面積過大的死區(qū)將影響電池的整體轉(zhuǎn)換效率。在實(shí)際生產(chǎn)時(shí),后續(xù)需對(duì)單體太陽能板進(jìn)行劃溝槽和填充溝槽的工序,從而將單體太陽能板劃分為串聯(lián)或并聯(lián)的太陽能電池組件。該太陽能電池組件由于其內(nèi)部接觸頂針孔中填充的電絕緣物質(zhì)不參與光電轉(zhuǎn)換過程,而且溝槽中的電絕緣物質(zhì)也不參與光電轉(zhuǎn)換過程,即不參與光電轉(zhuǎn)換的面積過大,相應(yīng)的使太陽能電池單位面積內(nèi)參與光電轉(zhuǎn)換的有效面積減小,影響了光吸收效果。
發(fā)明內(nèi)容
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場(chǎng)致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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