[發(fā)明專利]翼軌探傷方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410217813.6 | 申請日: | 2014-05-22 |
| 公開(公告)號: | CN103969333A | 公開(公告)日: | 2014-08-06 |
| 發(fā)明(設計)人: | 曾富;王彥忠;杜健;賈濟海;唐陽軍;朱熙 | 申請(專利權(quán))人: | 攀鋼集團攀枝花鋼釩有限公司 |
| 主分類號: | G01N29/04 | 分類號: | G01N29/04 |
| 代理公司: | 成都虹橋?qū)@聞账?普通合伙) 51124 | 代理人: | 劉世平 |
| 地址: | 617067 四*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 探傷 方法 | ||
1.翼軌探傷方法,所述翼軌(1)的橫截面包括軌頭踏面(11)、軌頭兩側(cè)(12)、軌腰(13)和軌底(14),其特征在于,包含以下步驟:
a、選取至少一個用于探測軌頭踏面(11)的軌頭踏面晶片,所述軌頭踏面晶片包含有三個軌頭踏面探頭(111、112、113),所述三個軌頭踏面探頭(111、112、113)設置于軌頭踏面(11)上,所述軌頭踏面探頭(111、112、113)的探測方向向下;
b、選取至少一個用于探測軌頭兩側(cè)(12)的軌頭兩側(cè)晶片,所述軌頭兩側(cè)晶片包含有兩個軌頭兩側(cè)探頭(121、122),所述兩個軌頭兩側(cè)探頭(121、122)設置于探測軌頭兩側(cè)(12)的一個側(cè)邊上,所述兩個軌頭兩側(cè)探頭(121、122)的探測方向貫穿軌頭兩側(cè)(12)的兩個側(cè)邊;
c、選取至少一個用于探測軌腰(13)的軌腰晶片,所述軌腰晶片包含有三個軌腰探頭(131、132、133),所述三個軌腰探頭(131、132、133)設置于軌腰(13)的側(cè)壁上,所述軌腰探頭(131、132、133)的探測方向為橫向貫穿軌腰(13);
d、選取至少一個用于探測軌底(14)的軌底裂紋晶片,所述軌底裂紋晶片包含有至少兩個軌底裂紋探頭(141、142),所述兩個軌底裂紋探頭(141、142)設置于軌底(14)的底面上,所述軌底裂紋探頭(141、142)的探測方向向上;
e、選取至少一個用于探測軌底(14)的軌底晶片,軌底晶片包含有至少三個軌底探頭(143、144、145),所述三個軌底探頭(143、144、145)設置于軌底(14)的底面上,所述軌底探頭(143、144、145)的探測方向向上;
f、由上述軌頭踏面晶片、軌頭兩側(cè)晶片、軌腰晶片和軌底晶片的探測結(jié)論,得出翼軌的探傷結(jié)論。
2.如權(quán)利要求1所述的翼軌探傷方法,其特征在于:步驟a中所述的軌頭踏面晶片的晶片長度不小于20mm,晶片寬度不小于7mm。
3.如權(quán)利要求1或2所述的翼軌探傷方法,其特征在于:步驟a中所述的軌頭踏面晶片的數(shù)量為兩個。
4.如權(quán)利要求1所述的翼軌探傷方法,其特征在于:步驟b中所述的軌頭兩側(cè)晶片的晶片長度不小于20mm,晶片寬度不小于8mm。
5.如權(quán)利要求1或4所述的翼軌探傷方法,其特征在于:步驟b中所述的軌頭兩側(cè)晶片的數(shù)量為兩個。
6.如權(quán)利要求1所述的翼軌探傷方法,其特征在于:步驟c所述的軌腰晶片的晶片長度不小于20mm,晶片寬度不小于8mm。
7.如權(quán)利要求1或6所述的翼軌探傷方法,其特征在于:步驟c所述的軌腰晶片的數(shù)量為兩個。
8.如權(quán)利要求1所述的翼軌探傷方法,其特征在于:軌底裂紋晶片長度不小于14mm,晶片寬度不小于10mm;軌底晶片長度不小于20mm,晶片寬度不小于8mm。
9.如權(quán)利要求1所述的翼軌探傷方法,其特征在于:通過步驟a和步驟b探測得到的軌頭的探傷面積不小于70%。
10.如權(quán)利要求1所述的翼軌探傷方法,其特征在于:通過步驟c探測得到的軌腰13的探傷面積不小于60%。
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