[發明專利]可調整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法

有效

• 申請號: 201410216997.4
• 申請日: 2014-05-21
• 公開（公告）號: CN103962346A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發明（設計）人: 姚江波
• 申請（專利權）人: 深圳市華星光電技術有限公司
• 主分類號: B08B7/00
• 分類號: B08B7/00;G02F1/13
• 代理公司: 深圳市德力知識產權代理事務所 44265
• 代理人: 林才桂

技術領域

本發明涉及液晶顯示器的制程領域，尤其涉及一種可調整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法。

背景技術

液晶顯示器(Liquid Crystal Display，LCD)具有機身薄、省電、無輻射等眾多優點，得到了廣泛的應用，如：移動電話、個人數字助理(PDA)、數字相機、計算機屏幕或筆記本電腦屏幕等。

現有的薄膜晶體管液晶顯示器包括殼體、設于殼體內的液晶面板及設于殼體內的背光模組(Backlight module)。其中，液晶面板的結構是由一薄膜晶體管陣列基板(Thin Film Transistor Array Substrate，TFT Array Substrate)、一彩色濾光片基板(Color Filter，CF)、以及一配置于兩基板間的液晶層(Liquid Crystal Layer)所構成，其工作原理是通過在兩片玻璃基板上施加驅動電壓來控制液晶層的液晶分子的旋轉，將背光模組的光線折射出來產生畫面。

薄膜晶體管液晶顯示器的制程過程一般包括：前段陣列(Array)制程，主要是制造TFT基板及CF基板；中段成盒(Cell)制程，主要是將TFT基板與CF基板貼合，在二者之間添加液晶，形成液晶面板；及后段模組組裝制程，主要是將液晶面板與背光模組、PCB等其它零部件進行組裝。其中，在前段陣列制程與中段成盒制程過程中，需要對基板進行多次清洗，以去除基板表面黏附的有機物，保證基板的潔凈。目前，得到廣泛應用的清洗基板的方法是利用有機物的光敏氧化作用通過紫外光對基板進行清洗。紫外光燈發射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量，這些光波作用到基板表面時，由于大多數有機物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力，并在吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態原子、受激分子和中子。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產生臭氧和原子氧，臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用，臭氧又分解為原子氧和氧氣。在原子氧的作用下，基板表面上的有機物的分解物可化合成可揮發的氣體，如二氧化碳、水蒸氣等脫離基板表面，實現清除有機物，保證基板的潔凈。具體實施方式為，在基板上方設置紫外光燈，基板通過滾輪方式輸送，紫外光直接照射于基板上，去除有機物。但在此清洗過程中，不能對紫外光的能量進行靈活調節，尤其是采用紫外光清洗TFT基板時，容易造成高能量的紫外光激發基板的金屬層電子產生大量靜電，最終導致設于基板上的電路圖形被靜電擊傷，影響產品品質及良率。

因此，需要一種改進的基板清洗方法，既能有效去除黏附于基板表面的有機物，又能避免電路圖形被靜電擊傷。

發明內容

本發明的目的在于提供一種可調整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，通過該方法可以靈活調節用于基板清洗的紫外光能量，達到既能有效去除黏附于基板表面的有機物，又能避免設于基板上的電路圖形被靜電擊傷，從而提高產品品質及良率。

為實現上述目的，本發明供一種可調整紫外光照射能量的紫外光清洗基板的方法，包括如下步驟：

步驟1、提供紫外光燈與待紫外光清洗的基板；

步驟2、在紫外光燈與待紫外光清洗的基板之間設置數塊遮光板；

步驟3、轉動遮光板，調整紫外光燈發出的紫外光照射到基板上的面積，從而控制單位時間內紫外光照射到基板上的能量；

步驟4、紫外光燈發出紫外光清洗基板。

所述步驟2中的每一遮光板為黑色。

所述步驟2中的每一遮光板為長條狀薄片。

所述步驟2中的遮光板位于所述紫外光燈與基板中間。

所述步驟2中的遮光板與所述紫外光燈垂直。

所述步驟4中基板相對紫外光燈移動，遮光板的長度方向與基板移動的方向平行。

所述步驟3中轉動遮光板是通過馬達驅動安裝于遮光板上的齒輪來實現的。

所述齒輪通過一連接軸固定連接于遮光板，且齒輪安裝于軸承上，該軸承上安裝一支撐軸，從而遮光板可相對于支撐軸轉動。

所述遮光板能在0度到90度范圍內轉動。

所述基板為薄膜晶體管液晶顯示器的玻璃基板。