[發明專利]顯示基板及其制造方法和顯示裝置

在審

• 申請號: 201410214758.5
• 申請日: 2014-05-20
• 公開（公告）號: CN104035240A
• 公開（公告）日: 2014-09-10
• 發明（設計）人: 張立;劉興東;王燦
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1339
• 分類號: G02F1/1339;G02F1/1333;H01L27/12;H01L21/84
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

1.一種顯示基板，其特征在于，包括：襯底基板、位于所述襯底基板上方的隔墊物和位于所述隔墊物上方的電極層，所述隔墊物包括至少二層臺階狀結構。

2.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，每層所述臺階狀結構的高度相同。

3.根據權利要求1所述的顯示基板，其特征在于，至少二層所述臺階狀結構的寬度向遠離所述襯底基板的方向逐層遞減。

4.一種顯示裝置，其特征在于，包括：相對設置的顯示基板和對置基板，所述顯示基板采用上述權利要求1至3任一所述的顯示基板。

5.一種顯示基板的制造方法，其特征在于，包括：

在襯底基板的上方形成隔墊物，所述隔墊物包括至少二層臺階狀結構；

在所述隔墊物的上方形成電極層。

6.根據權利要求5所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述在襯底基板的上方形成隔墊物包括：

在所述襯底基板的上方涂覆隔墊物材料層；

通過掩膜板對所述隔墊物材料層進行一次曝光，形成完全保留區域、部分保留區域和完全不保留區域；

對曝光后的襯底基板進行顯影，去除所述完全不保留區域和部分保留區域中的不保留部分，并保留所述完全保留區域和所述部分保留區域中的保留部分以形成所述隔墊物。

7.根據權利要求6所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述在所述襯底基板的上方涂覆隔墊物材料層包括：

通過多次旋涂工藝在所述襯底基板的上方涂覆隔墊物材料層。

8.根據權利要求6所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述在所述襯底基板的上方涂覆隔墊物材料層之后包括：

通過預烘溫度以預烘時間對隔墊物材料層進行預烘烤處理，所述預烘溫度包括70℃至140℃，所述預烘時間包括30s至300s。

9.根據權利要求6所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述對所述部分保留區域和完全不保留區域進行顯影，去除所述完全不保留區域和部分保留區域中的不保留部分，并保留所述完全保留區域和所述部分保留區域中的保留部分以形成所述隔墊物之后包括：

通過后烘溫度以后烘時間對隔墊物進行后烘烤處理，所述后烘溫度包括200℃至270℃，所述后烘時間包括20min至50min。

10.根據權利要求6所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述掩膜板在與每個所述隔墊物對應的區域內至少包括一個透光區域，每個所述透光區域具有特定透過率，透過率不同的透光區域的數量與所述臺階狀結構的數量相同，所述透光區域用于形成所述完全保留區域或者所述部分保留區域。

11.根據權利要求10所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述掩膜板在與每個所述隔墊物對應的區域內包括三個透光區域，三個所述透光區域的特定透過率分別包括：1％至10％、20％至50％以及100％。

12.根據權利要求6所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述掩膜板在與每個所述隔墊物對應的區域內至少包括一個透光區域和至少一個狹縫區域，每個所述狹縫區域具有特定寬度，所述透光區域用于形成一層臺階狀結構對應的完全保留區域，所述狹縫區域用于形成其余臺階狀結構對應的部分保留區域，所述掩膜板在與每個所述隔墊物對應區域內的所述透光區域和不同寬度的所述狹縫區域的數量之和等于所述臺階狀結構的數量。

13.根據權利要求12所述的顯示基板的制造方法，其特征在于，所述掩膜板在與每個所述隔墊物對應的區域內包括一個透光區域和二個所述狹縫區域，二個所述狹縫區域的特定寬度分別包括：0.8μm至1.2μm以及1.8μm至2.2μm，透光區域的特定透過率為100％。