[發(fā)明專利]一種遮擋盤及反應腔室在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410213271.5 | 申請日: | 2014-05-20 |
| 公開(公告)號: | CN105097606A | 公開(公告)日: | 2015-11-25 |
| 發(fā)明(設計)人: | 沈圍 | 申請(專利權)人: | 北京北方華創(chuàng)微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/02 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產權代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;張?zhí)焓?/td> |
| 地址: | 100176 北*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 遮擋 反應 | ||
1.一種遮擋盤,其特征在于,所述遮擋盤包括旋轉分部和本體,所述旋轉分部包括固定端和活動端,所述固定端與所述本體的外周壁相連接,且所述旋轉分部沿所述本體的周向設置,
所述旋轉分部的活動端在其自身重力的作用下位于原始位置,所述原始位置定義為所述旋轉分部的下表面與所述本體的下表面之間夾角為預設鈍角時所述活動端所在的位置,
在使用所述遮擋盤遮擋被遮擋物時,通過將所述旋轉分部的活動端自所述原始位置頂起至預設最高位置,以使所述旋轉分部與所述本體形成可遮擋所述被遮擋物的遮擋盤。
2.根據權利要求1所述的遮擋盤,其特征在于,在所述旋轉分部的下表面上設置有溝槽。
3.根據權利要求2所述的遮擋盤,其特征在于,所述溝槽靠近所述旋轉分部的活動端的深度大于靠近所述旋轉分部的固定端的深度。
4.根據權利要求3所述的遮擋盤,其特征在于,所述溝槽在其所在的所述旋轉分部所在平面上的輪廓形狀為橢圓形、圓形、四邊形或者三角形。
5.根據權利要求1所述的遮擋盤,其特征在于,所述旋轉分部與所述本體的外周壁通過門栓相連接。
6.根據權利要求1所述的遮擋盤,其特征在于,所述預設鈍角的范圍在120~180度。
7.一種反應腔室,所述反應腔室內設置有遮擋盤、存放位置、工藝位置、傳輸裝置和檢測裝置,所述遮擋盤放置在所述存放位置處,所述傳輸裝置用于將所述遮擋盤傳輸至所述工藝位置或所述存放位置,所述檢測裝置用于檢測所述遮擋盤是否傳輸至所述存放位置,其特征在于,所述遮擋盤采用權利要求1-6任意一項所述的遮擋盤。
8.根據權利要求7所述的反應腔室,其特征在于,所述檢測裝置包括第一距離傳感器和第二距離傳感器,所述第一距離傳感器的檢測路徑包括位于所述存放位置的所述遮擋盤的邊界之內的位置;所述第二距離傳感器的檢測路徑包括位于所述存放位置時的所述遮擋盤的邊界之外且靠近其邊界的位置;
所述第一距離傳感器和所述第二距離傳感器設置為:僅在所述遮擋盤位于預設距離范圍內時發(fā)出或者不發(fā)出信號;
所述第一距離傳感器或所述第二距離傳感器的所述預設距離范圍為不小于所述第一距離傳感器或所述第二距離傳感器與位于所述存放位置的所述遮擋盤之間的距離。
9.根據權利要求8所述的反應腔室,其特征在于,所述傳輸裝置包括承載部和旋轉驅動機構,所述承載部用于承載所述遮擋盤,
所述旋轉驅動機構用于驅動所述承載部圍繞其旋轉軸旋轉,以帶動所述遮擋盤旋轉至所述工藝位置或所述存放位置。
10.根據權利要求9所述的反應腔室,其特征在于,所述檢測裝置還包括第三距離傳感器,所述第三距離傳感器的檢測路徑上包括位于所述存放位置的遮擋盤外側的承載該遮擋盤的部分所述承載部的位置;
所述第三距離傳感器設置為:僅在部分所述承載部位于預設距離范圍內時發(fā)出或者不發(fā)出信號;
所述第三距離傳感器的預設距離范圍不小于其與位于所述存放位置的遮擋盤外側的承載所述遮擋盤的部分承載部之間的距離。
11.根據權利要求10所述的反應腔室,其特征在于,所述第一距離傳感器、所述第二距離傳感器或者所述第三距離傳感器為漫反射距離傳感器。
12.根據權利要求7所述的反應腔室,其特征在于,還設置有頂針升降裝置,所述頂針升降裝置包括至少三個頂針和頂針升降單元,所述至少三個頂針用于承載所述遮擋盤;
所述頂針升降單元用于驅動所述頂針升降,以使所述頂針將與所述遮擋盤的旋轉分部的活動端自所述原始位置頂起至所述預設最高位置,以使所述旋轉分部與所述本體形成可遮擋所述被遮擋物的遮擋盤。
13.根據權利要求12所述的反應腔室,其特征在于,在所述旋轉分部的下表面上設置有溝槽,所述溝槽的數量和位置與所述頂針的數量和位置一一對應。
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H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
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