[發明專利]一種真空設備

有效

• 申請號: 201410203251.X
• 申請日: 2014-05-14
• 公開（公告）號: CN103972013A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發明（設計）人: 楊海濤;鄭云友;吳成龍;李偉;宋泳珍;李鑫;封林;劉杰
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01J37/04
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

技術領域

本發明涉及顯示技術領域，尤其涉及一種真空設備。

背景技術

傳統的干法刻蝕設備采用的靜電消除結構是在基板的正面產生等離子體，該等離子體在真空氣氛下自然流動到基板的背面，以進行電荷的中和，從而消除靜電作用。

隨著電極的使用時間的增加，電極表面和阻隔層表面會逐漸趨于光滑，從而造成基板與電極之間緊密吸附，使得等離子體無法正常到達基板的背面消除靜電。這樣，當支撐針將基板逐漸頂起時，基板會同時受到電極的靜電吸附，二者共同作用便會導致基板的破損。

發明內容

本發明的實施例提供一種真空設備，可消除基板與電極之間的靜電吸附，從而避免基板的破損。

為達到上述目的，本發明的實施例采用如下技術方案；

提供一種真空設備，包括真空腔、位于所述真空腔內部且相對設置的第一電極和第二電極、以及用于定位基板的定位結構；所述基板位于所述第一電極和所述第二電極之間，且貼近所述第一電極或所述第二電極放置；所述真空設備還包括靜電消除裝置；其中，所述靜電消除裝置通過將帶電粒子引至所述基板貼近所述第一電極一側的表面或者所述基板貼近所述第二電極一側的表面以消除所述基板與所述第一電極和/或所述基板與所述第二電極之間的靜電吸附作用。

優選的，所述第一電極和/或所述第二電極上設置有多個氣孔。

可選的，所述真空設備還包括與所述真空腔相連的輸氣裝置；所述輸氣裝置通過所述氣孔向所述基板恒壓輸送冷卻氣體；其中，所述冷卻氣體為惰性氣體。

進一步可選的，所述真空設備還包括用于監測所述冷卻氣體的壓強的監測裝置。

可選的，所述靜電消除裝置包括等離子體放電系統和等離子體傳輸系統；其中，所述靜電消除裝置通過所述氣孔向所述基板貼近所述第一電極一側的表面或者所述基板貼近所述第二電極一側的表面輸送等離子體。

進一步可選的，所述等離子體放電系統包括用于產生等離子體的陽極和陰極；所述等離子體傳輸系統包括真空泵和傳輸管道。

進一步的，所述陽極為所述第一電極，所述陰極為所述第二電極；所述等離子體傳輸系統與所述真空腔之間具有第一連接口和第二連接口；其中，所述第一連接口用于將所述真空腔內部產生的等離子體導出，所述第二連接口用于通過所述氣孔向所述基板輸送等離子體。

可選的，所述第一電極位于所述真空腔的頂部，所述第二電極位于所述真空腔的底部；其中，所述基板位于所述第二電極的上方，且貼近所述第二電極放置。

進一步可選的，所述定位結構為支撐針；所述第二電極上還設置有與所述支撐針匹配的針孔。

可選的，所述真空設備還包括設置在所述第一電極和/或所述第二電極周圍的阻隔層；其中，所述阻隔層的厚度大于所述第一電極和/或所述第二電極的厚度。

本發明實施例提供了一種真空設備，包括真空腔、位于所述真空腔內部且相對設置的第一電極和第二電極、以及用于定位基板的定位結構；所述基板位于所述第一電極和所述第二電極之間，且貼近所述第一電極或所述第二電極放置；所述真空設備還包括靜電消除裝置；其中，所述靜電消除裝置通過將帶電粒子引至所述基板貼近所述第一電極一側的表面或者所述基板貼近所述第二電極一側的表面以消除所述基板與所述第一電極和/或所述基板與所述第二電極之間的靜電吸附作用。

基于此，所述帶電粒子可以與所述基板表面的電荷發生中和，從而消除所述基板與所述第一電極和/或所述第二電極之間的靜電吸附作用；這樣，當需要將所述基板遠離所述第一電極和/或所述第二電極時，便可以避免因靜電吸附作用而導致的基板破損現象。

附圖說明

為了更清楚地說明本發明實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本發明的一些實施例，對于本領域普通技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。

圖1為本發明實施例提供的一種真空設備的結構示意圖一；

圖2為本發明實施例提供的一種真空設備的結構示意圖二；

圖3為本發明實施例提供的一種真空設備的俯視圖；

圖4為本發明實施例提供的一種真空設備的結構示意圖三。

附圖標記；

10-真空腔；201-第一電極；202-第二電極；30-定位結構；40-氣孔；50-阻隔層；60-基板。

具體實施方式