[發明專利]一種真空設備

有效

• 申請號: 201410203251.X
• 申請日: 2014-05-14
• 公開（公告）號: CN103972013A
• 公開（公告）日: 2014-08-06
• 發明（設計）人: 楊海濤;鄭云友;吳成龍;李偉;宋泳珍;李鑫;封林;劉杰
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32;H01J37/04
• 代理公司: 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種真空設備，包括真空腔、位于所述真空腔內部且相對設置的第一電極和第二電極、以及用于定位基板的定位結構；其特征在于，

所述基板位于所述第一電極和所述第二電極之間，且貼近所述第一電極或所述第二電極放置；

所述真空設備還包括靜電消除裝置；

其中，所述靜電消除裝置通過將帶電粒子引至所述基板貼近所述第一電極一側的表面或者所述基板貼近所述第二電極一側的表面以消除所述基板與所述第一電極和/或所述基板與所述第二電極之間的靜電吸附作用。

2.根據權利要求1所述的真空設備，其特征在于，所述第一電極和/或所述第二電極上設置有多個氣孔。

3.根據權利要求2所述的真空設備，其特征在于，所述真空設備還包括與所述真空腔相連的輸氣裝置；

所述輸氣裝置通過所述氣孔向所述基板恒壓輸送冷卻氣體；其中，所述冷卻氣體為惰性氣體。

4.根據權利要求3所述的真空設備，其特征在于，所述真空設備還包括用于監測所述冷卻氣體的壓強的監測裝置。

5.根據權利要求2所述的真空設備，其特征在于，所述靜電消除裝置包括等離子體放電系統和等離子體傳輸系統；

其中，所述靜電消除裝置通過所述氣孔向所述基板貼近所述第一電極一側的表面或者所述基板貼近所述第二電極一側的表面輸送等離子體。

6.根據權利要求5所述的真空設備，其特征在于，所述等離子體放電系統包括用于產生等離子體的陽極和陰極；

所述等離子體傳輸系統包括真空泵和傳輸管道。

7.根據權利要求6所述的真空設備，其特征在于，所述陽極為所述第一電極，所述陰極為所述第二電極；

所述等離子體傳輸系統與所述真空腔之間具有第一連接口和第二連接口；

其中，所述第一連接口用于將所述真空腔內部產生的等離子體導出，所述第二連接口用于通過所述氣孔向所述基板輸送等離子體。

8.根據權利要求1所述的真空設備，其特征在于，所述第一電極位于所述真空腔的頂部，所述第二電極位于所述真空腔的底部；

其中，所述基板位于所述第二電極的上方，且貼近所述第二電極放置。

9.根據權利要求8所述的真空設備，其特征在于，所述定位結構為支撐針；

所述第二電極上還設置有與所述支撐針匹配的針孔。

10.根據權利要求1所述的真空設備，其特征在于，所述真空設備還包括設置在所述第一電極和/或所述第二電極周圍的阻隔層；

其中，所述阻隔層的厚度大于所述第一電極和/或所述第二電極的厚度。