[發明專利]陣列基板及其制造方法、顯示裝置有效
| 申請號: | 201410200687.3 | 申請日: | 2014-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN103995408B | 公開(公告)日: | 2017-02-01 |
| 發明(設計)人: | 薛靜;邢紅燕;陳雅娟;尹巖巖;崔子巍 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1333;G02F1/13;H01L27/12;H01L21/77 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司11243 | 代理人: | 許靜,黃燦 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 陣列 及其 制造 方法 顯示裝置 | ||
1.一種陣列基板,包括柵線、數據線以及形成在柵線和數據線限定的像素區域內的像素電極,其特征在于,還包括與所述像素電極連接的用于測試薄膜晶體管特性的測試端子。
2.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述像素電極包括設置于柵絕緣層以及有源層上的第一像素電極以及與所述第一像素電極平行設置的第二像素電極,所述測試端子與所述第一像素電極連接。
3.如權利要求2所述的陣列基板,其特征在于,包括:
在基板上的柵電極;
柵電極上方的柵絕緣層以及有源層;
柵絕緣層以及有源層上的第一像素電極,所述測試端子與第一像素電極同層形成且位于所述基板上;
形成于有源層上的源電極以及形成于第一像素電極上的漏電極;
形成于源電極、漏電極上的保護層;
形成于保護層上的第二像素電極。
4.如權利要求1所述的陣列基板,其特征在于,所述測試端子位于所述像素區域與柔性電路板綁定區域之間。
5.如權利要求4所述的陣列基板,其特征在于,所述像素區域與柔性電路板綁定區域之間設置有靜電環,所述測試端子位于所述靜電環與柔性電路板綁定區域之間。
6.如權利要求5所述的陣列基板,其特征在于,所述靜電環與柔性電路板綁定區域之間設置有公共電極引線,所述測試端子位于公共電極引線與柔性電路板綁定區域之間。
7.如權利要求6所述的陣列基板,其特征在于,所述公共電極引線與柔性電路板綁定區域之間設置有測試走線,所述測試端子位于測試走線與柔性電路板綁定區域之間。
8.一種顯示裝置,其特征在于,包括如權利要求1-7任一項所述的陣列基板。
9.一種陣列基板的制造方法,其特征在于,包括:
在基板上沉積柵金屬薄膜,通過構圖工藝形成柵線和柵電極的圖形;
在所述基板上形成柵絕緣層以及有源層的圖形;
在所述基板上同層形成第一像素電極以及與所述第一像素電極連接的用于測試薄膜晶體管特性的測試端子的圖形;
在所述基板上形成源/漏電極的圖形;
在所述基板上形成保護層的圖形;
在所述基板上形成第二像素電極的圖形。
10.如權利要求9所述的陣列基板的制造方法,其特征在于,在所述基板上同層形成第一像素電極以及與所述第一像素電極連接的用于測試薄膜晶體管特性的測試端子的圖形包括:
在所述基板上沉積第一像素電極材料以及測試端子材料;
在第一像素電極材料以及測試端子材料上涂敷光刻膠,利用掩膜板對所述光刻膠進行曝光、顯影處理,通過刻蝕工藝得到第一像素電極以及測試端子的圖形。
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