[發明專利]用于真空鍍膜的玻璃基板架及其鍍膜系統和鍍膜系統的傳輸方法

有效

• 申請號: 201410197259.X
• 申請日: 2014-05-12
• 公開（公告）號: CN103993289B
• 公開（公告）日: 2017-11-24
• 發明（設計）人: 趙軍;劉鈞;陳金良;許倩斐
• 申請（專利權）人: 浙江上方電子裝備有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/56
• 代理公司: 湖州金衛知識產權代理事務所(普通合伙)33232
• 代理人: 趙衛康

1.具有用于真空鍍膜的玻璃基板架的鍍膜系統，其特征在于，包括玻璃基板架（4）、玻璃基板架傳輸裝置（7）以及與所述玻璃基板架平行設置的鍍膜裝置（6），所述玻璃基板架（4）包括至少一個凹形的用來裝載玻璃基板（1）的底面封閉或底面中空的邊框容置區(5)；所述邊框容置區(5)包括用以支撐玻璃基板（1）的底面和形成所述邊框容置區(5)的邊框的外周邊，所述邊框容置區(5) 的外周邊與所述玻璃基板架(4) 表面平齊或所述邊框容置區(5) 的外周邊從所述玻璃基板架（4）表面向外延伸，所述底面與所述玻璃基板架(4)表面垂直距離為0.5mm~5mm，所述邊框容置區(5)支撐玻璃基板的位置設置緩沖部件，所述玻璃基板架(4)由金屬或耐高溫板加工制成，所述邊框容置區（5）的底邊（52）與所述玻璃基板架（4）的水平方向的底邊水平線面之間的夾角為玻璃基板架容置區傾角β，且所述玻璃基板架容置區傾斜角β為1~30°，玻璃基板（1）的大小小于邊框容置區（5）的大小，所述鍍膜裝置（6）與所述玻璃基板架（4）的平行間距為10mm~1000mm，所述鍍膜裝置（6）為旋轉靶材或平面靶材的磁控濺射源，邊框容置區（5）的左側邊（53）和頂邊（51）的夾角、左側邊（53）與底邊（52）的夾角、右側邊（54）和頂邊（51）的夾角、右側邊（54）和底邊（52）的夾角處均設置緩沖部件。

2.根據權利要求1所述的鍍膜系統，其特征在于，所述玻璃基板架(4)所在的平面與所述玻璃基板架傳輸裝置（7）的水平面方向構成的玻璃基板架傾角θ為70°~89°。

3.使用如權利要求1或2所述的鍍膜系統的傳輸方法，其特征在于，所述玻璃基板架(4)傾斜站立在所述玻璃基板架傳輸裝置（7）上。