[發(fā)明專利]一種精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410195513.2 | 申請日： | 2014-05-09 |
| 公開（公告）號： | CN104010445A | 公開（公告）日： | 2014-08-27 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 冉彥祥;孟昭光 | 申請（專利權(quán)）人： | 東莞市五株電子科技有限公司 |
| 主分類號： | H05K3/06 | 分類號： | H05K3/06 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 523303 廣東省*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 精細(xì) 線路 動態(tài) 補償 制作方法 | ||
1.一種精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法，其特征在于，包括：
確定線路蝕刻后銅箔的設(shè)計寬度，再加寬銅箔的實際寬度，使得銅箔在設(shè)計寬度基礎(chǔ)上增加動態(tài)補償寬度；
將線路的形狀轉(zhuǎn)移到干膜上；
將銅箔的動態(tài)補償寬度用蝕刻液蝕刻掉，使得蝕刻后銅箔的實際寬度等于設(shè)計寬度。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法，其特征在于，當(dāng)所述動態(tài)補償寬度影響相鄰銅箔之間的最小間距時，則所述動態(tài)補償寬度僅位于所述實際寬度的單側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法，其特征在于，當(dāng)所述動態(tài)補償寬度不影響相鄰銅箔之間的最小間距時，所述動態(tài)補償寬度分別位于所述設(shè)計寬度的兩側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法，其特征在于，所述銅箔的實際寬度為50～60um，相鄰銅箔之間的間距為50～60um。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法，其特征在于，所述精細(xì)線路的BGA中間50/50um排線的動態(tài)補償寬度為0um。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法，其特征在于，所述精細(xì)線路的BGA中間50/50um單線的動態(tài)補償寬度為5um。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法，其特征在于，所述精細(xì)線路的獨立50/50um線路的動態(tài)補償寬度為16um。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法，其特征在于，所述精細(xì)線路的空曠區(qū)50/50um線路的動態(tài)補償寬度為10um。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法，其特征在于，所述精細(xì)線路的排線邊緣50/50um線路的動態(tài)補償寬度為3um。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的精細(xì)線路的動態(tài)補償制作方法，其特征在于，所述精細(xì)線路的密集線路區(qū)50/50um線路的動態(tài)負(fù)補償寬度為-2um。
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