[發明專利]用于精確特征控制的表面張力干擾涂布過程

有效

• 申請號: 201410190431.9
• 申請日: 2014-05-07
• 公開（公告）號: CN104216258B
• 公開（公告）日: 2017-08-22
• 發明（設計）人: S·L·施密特;D·J·格爾瓦斯
• 申請（專利權）人: 施樂公司
• 主分類號: G03G15/20
• 分類號: G03G15/20
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 李湘,陳嵐

1.一種可用于印刷中的構件，所述構件包括：

可用于印刷中的基材；

沉積于所述基材上的第一涂層，所述第一涂層包括第一表面張力并形成邊緣；

與所述第一涂層的所述邊緣相鄰的沉積于所述基材上的第二涂層，所述第二涂層包括第二表面張力；

其中所述第一表面張力與所述第二表面張力不同。

2.根據權利要求 1 所述的構件，其中所述基材為輥、帶、膜或平坦表面。

3.根據權利要求2所述的構件，其中所述基材為輥，且所述輥采用鋁、鋼、銅或塑料材料的圓柱形管的形式。

4.根據權利要求2所述的構件，其中所述基材為帶，且所述帶由聚酰亞胺形成。

5.根據權利要求1所述的構件，其中所述第一表面張力小于所述第二表面張力，或者所述第一表面張力大于所述第二表面張力。

6.根據權利要求1所述的構件，其中所述第一涂層為犧牲涂層。

7.根據權利要求 1 所述的構件，其還包括第三涂層，所述第三涂層在所述第二涂層上形成全密封，或者在所述第一和第二涂層上形成全密封。

8.根據權利要求7所述的構件，其中所述第三涂層為含氟彈性體或氫氟彈性體。

9.根據權利要求1所述的構件，其中所述第一涂層為氟化聚醚。

10.根據權利要求1所述的構件，其中所述第二涂層為硅酮。

11.根據權利要求1所述的構件，其中所述構件為定影鼓或定影帶。

12.根據權利要求1所述的構件，其中所述第一涂層具有第一厚度并且所述第二涂層具有大于所述第一厚度的第二厚度。

13.一種用于形成定影系統組件的方法，所述方法包括：

a)沉積具有第一表面張力的第一涂層，以在基材上形成邊緣；以及

b)在與所述邊緣相鄰的所述基材上沉積具有第二表面張力的第二涂層，所述第一表面張力與所述第二表面張力不同。

14.根據權利要求13所述的用于形成定影系統組件的方法，還包括：

c)在沉積所述第二涂層的步驟之后去除所述第一涂層。

15.根據權利要求14所述的用于形成定影系統組件的方法，還包括：

d)在所述第二涂層上沉積第三涂層，其中所述第三涂層在所述第二涂層上形成全密封。

16.根據權利要求15所述的用于形成定影系統組件的方法，其中所述第三涂層為含氟彈性體或氫氟彈性體。

17.根據權利要求13所述的用于形成定影系統組件的方法，還包括：

c）在所述第一和第二涂層上沉積第三涂層，其中所述第三涂層在所述第一和第二涂層上形成全密封。

18.根據權利要求17所述的用于形成定影系統組件的方法，其中所述第三涂層為含氟彈性體或氫氟彈性體。

19.根據權利要求13所述的用于形成定影系統組件的方法，其中所述第一表面張力小于所述第二表面張力，或者所述第一表面張力大于所述第二表面張力。

20.根據權利要求13所述的用于形成定影系統組件的方法，其中所述第一涂層為氟化聚醚。

21.根據權利要求13所述的用于形成定影系統組件的方法，其中所述第二涂層為硅酮。