[發明專利]掩模板、掩模板的制造方法及掩模板的裂紋檢測裝置在審
| 申請號: | 201410187101.4 | 申請日: | 2014-05-05 |
| 公開(公告)號: | CN103984201A | 公開(公告)日: | 2014-08-13 |
| 發明(設計)人: | 趙德友;王永茂 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/44 | 分類號: | G03F1/44;G03F1/80;G01N27/00 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;黃燦 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 模板 制造 方法 裂紋 檢測 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及顯示領域,特別是涉及一種掩膜板、掩膜板的制造方法及掩膜板的裂紋檢測裝置。
背景技術
TFT-LCD面板制造業中,ODF工藝中滴下液晶和涂布邊框膠是同時進行的,如果不能及時固化邊框膠,它與液晶材料直接接觸時,容易造成液晶材料的污染,同時在短時間內邊框膠沒有固化也容易發生液晶穿透邊框膠的現象。紫外線固化設備的作用就是利用紫外線實現邊框膠的快速固化,防止發生液晶材料污染和液晶穿透邊框膠的問題發生。
鑒于紫外線對液晶材料有一定影響,可能會破壞液晶分子結構,影響其特性,因此在紫外線固化設備中會用到掩模基板。掩模基板的作用就是遮擋產品的顯示區域,防止紫外線直接照射到液晶材料上。實際生產應用中,ODF紫外線固化設備用的掩模基板是玻璃材質的基板,因此在使用、更換和存放過程中可能會形成微裂紋,而這種微裂紋一般很難被發現。如果在使用掩模基板生產產品的過程中,其表面的微裂紋發生擴展或破裂,就會對產品的品質造成影響,造成損失。
發明內容
為了解決掩膜板在TFT-LCD生產過程中出現破損而導致產品出現質量問題,本發明提供了一種掩膜板、掩膜板的制造方法及掩膜板的裂紋檢測裝置。
本發明采用的技術方案是:一種掩膜板,包括一基板,所述基板的表面形成有至少一個測試區,所述測試區內布置有與所述基板結合在一起的電極線,所述電極線的兩端分別引出一個測試端子。
本發明還提供了一種掩模板的制造方法,包括:
形成一基板;
在所述基板的表面形成導電膜層;
加工所述導電膜,形成電極線。
本發明還提供了一種掩模板的裂紋檢測裝置,包括一用于檢測所述電極線上兩個端子之間模擬信號的檢測表,所述檢測表包括兩條與待測電極線兩個端子分別進行連接的導線。
本發明的有益效果是:本發明的掩模板的表面形成的各個測試區內布置有與所述基板結合在一起的電極線,通過測試電極線是否存在斷路,就可以判斷與電極線相結合的基板是否存在裂紋,從而可以簡單快速判斷掩模板的完整性,避免因掩模基板破裂而導致產品出現質量問題。
附圖說明
圖1為本發明一種實施例的掩模板的結構示意圖;
圖2為本發明第二種實施例的掩模板的結構示意圖;
圖3為本發明第三種實施例的掩模板的結構示意圖;
圖4為本發明一種實施例的掩膜板的制造方法的流程圖;
圖5為本發明第一種實施例的掩模板的檢測裝置的結構示意圖;
圖6為本發明第二種實施例的掩模板的檢測裝置的結構示意圖。
具體實施方式
為使本發明要解決的技術問題、技術方案和優點更加清楚,下面將結合附圖及具體實施例進行詳細描述。
如圖1所示,為本發明一種實施例的掩模板的結構示意圖,該掩模板包括:一基板1,所述基板1的表面形成有至少一個測試區,所述測試區內布置有與所述基板結合在一起的電極線2,所述電極線2的兩端分別引出一個測試端子3。
本發明的掩模板的表面形成的各個測試區內布置有與所述基板結合在一起的電極線,通過測試電極線是否存在斷路,就可以判斷與電極線相結合的基板是否存在裂紋,從而可以簡單快速判斷掩模板的完整性,避免因掩模基板破裂而導致產品出現質量問題。
本發明的電極線與所述基板表面結合在一起,即所述電極線與基板之間產生結合力,當所述基板存在裂縫時,對應裂縫處的電極線由于結合力也會對電極線產生作用力,從而導致相應位置電極線斷裂。所述電極線可以采取各種適合的方式與所述基板結合在一起,本實施例的電極線是由沉積于所述基板表面的導電膜層刻蝕形成。所述透明電極線通過沉積氧化銦錫(ITO)薄膜,再經曝光刻蝕后制得。由于氧化銦錫薄膜不會受紫外線影響,從而可以應用到掩膜板上。
如圖2-3所示,為本發明的掩膜板的具體實施例的結構圖,本發明的基板1表面形成多個測試區11,在每個測試區11布置有電極線2,電極線2的兩端分別引出一個測試端子,通過測試兩個端子之間的電壓、電阻、電流等模擬信號,就可以確定該電極線是否存在斷路,從而判斷該電極線所在測試區是否存在裂縫。本發明對掩模板的表面形成測試區可以根據需要來設置,可以是并行的條狀,形成如圖3所示的平行的電極線,還可以是圓形、方形等其他合適的形狀。刻蝕形成的電極線的寬度可以根據需要進行設定,優選地為0.1-5mm。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司,未經京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410187101.4/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:圓管型裝訂儀的引導裝置
- 下一篇:一種機械式運動解耦傳力裝置
- 同類專利
- 專利分類
G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





