[發(fā)明專利]掩模板、掩模板的制造方法及掩模板的裂紋檢測裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410187101.4 | 申請日: | 2014-05-05 |
| 公開(公告)號: | CN103984201A | 公開(公告)日: | 2014-08-13 |
| 發(fā)明(設計)人: | 趙德友;王永茂 | 申請(專利權)人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/44 | 分類號: | G03F1/44;G03F1/80;G01N27/00 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權代理有限公司 11243 | 代理人: | 許靜;黃燦 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 模板 制造 方法 裂紋 檢測 裝置 | ||
1.一種掩模板,其特征在于,包括一基板,所述基板的表面形成有至少一個測試區(qū),所述測試區(qū)內(nèi)布置有與所述基板結(jié)合在一起的電極線,所述電極線的兩端分別引出一個測試端子。?
2.根據(jù)權利要求1所述的掩模板,其特征在于,多個測試區(qū)的電極線至少部分串聯(lián)在一起。?
3.根據(jù)權利要求1所述的掩模板,其特征在于,所述電極線形成在所述基板的一面或者兩面上。?
4.根據(jù)權利要求1-3任何一項所述的掩模板,其特征在于,所述電極線由沉積于所述基板表面的導電膜層刻蝕形成。?
5.一種掩模板的制造方法,其特征在于,包括:?
形成一基板;?
在所述基板的表面形成導電膜層;?
加工所述導電膜,形成電極線。?
6.根據(jù)權利要求5所述的掩模板,其特征在于,所述加工所述導電膜,形成電極線的步驟進一步包括:利用曝光工藝,刻蝕形成電極線。?
7.一種掩模板的裂紋檢測裝置,檢測如權利要求1-4任何一項所述的掩模板,其特征在于,包括一用于檢測所述電極線上兩個端子之間模擬信號的檢測表,所述檢測表包括兩條與待測電極線的兩個端子分別進行連接的導線。?
8.根據(jù)權利要求7所述的檢測裝置,其特征在于,所述檢測裝置還包括一安裝臺,所述安裝臺的表面形成有用于吸附掩模板的真空槽。?
9.根據(jù)權利要求7所述的檢測裝置,其特征在于,所述安裝臺在與真空槽相對區(qū)域形成有與所述凹槽相通的導線孔,所述導線孔用于為檢測表的引出線提供與掩模板上的電極線相連接的通道。?
10.根據(jù)權利要求8所述的檢測裝置,其特征在于,還包括一導電壓片,用于在所述電極線設置在所述基板遠離真空槽的表面時,連接所述檢測表的引出線和電極線。?
11.根據(jù)權利要求8所述的檢測裝置,其特征在于,還包括一與所述安裝?臺相對設置的用于放置待檢測掩模板的基臺,所述基臺上連接有用于升降所述基臺的調(diào)節(jié)器。?
12.根據(jù)權利要求7-11任何一項所述的檢測裝置,其特征在于,還包括一控制器,所述控制器與所述檢測表相連接,在所述檢測表檢測到電極線斷路時進行報警。?
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





