[發(fā)明專(zhuān)利]基于單元庫(kù)的集成電路設(shè)計(jì)方法及其結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410187054.3
• 申請(qǐng)日: 2014-05-05
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN103955582B
• 公開(kāi)（公告）日: 2018-08-24
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 趙立新;俞大立;柳雅琳;莊群峰
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 格科微電子(上海)有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): G06F17/50
• 分類(lèi)號(hào): G06F17/50;H01L27/02
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 鄭立柱

1.一種基于單元庫(kù)的集成電路設(shè)計(jì)方法，其特征在于，包含如下步驟：

步驟A.建立包含有若干單元塊的單元庫(kù)，所述單元塊具有沿第一方向、第二方向延伸的單元區(qū)域，所述單元區(qū)域的底層包含具有有源區(qū)域、擴(kuò)散區(qū)域及柵極帶區(qū)域的MOS管區(qū)域；所述單元區(qū)域的導(dǎo)體層包含有若干導(dǎo)體、電源線(xiàn)、地線(xiàn)；通過(guò)設(shè)置所述單元塊的至少一個(gè)區(qū)域因子，從而在所述單元塊中的導(dǎo)體層預(yù)留至少一條第一金屬走線(xiàn)的布線(xiàn)空間，其中，所述區(qū)域因子是所述單元塊中所述電源線(xiàn)的寬度、地線(xiàn)的寬度、導(dǎo)體的位置、導(dǎo)體的寬度、有源區(qū)域的位置、有源區(qū)域的尺寸中的一種；所述電源線(xiàn)具有第一寬度，所述地線(xiàn)具有第二寬度，設(shè)置所述第一寬度和/或第二寬度的值，以在所述單元塊中預(yù)留至少一條第一金屬走線(xiàn)的布線(xiàn)空間；

步驟B.布局至少一個(gè)所述單元塊于版圖中，對(duì)所述單元塊進(jìn)行金屬走線(xiàn)繞線(xiàn)，其中，基于所述單元塊中預(yù)留的布線(xiàn)空間，在所述單元塊的內(nèi)部進(jìn)行第一金屬走線(xiàn)繞線(xiàn)；

所述步驟B之后，還包括步驟C：

檢測(cè)所述第一金屬走線(xiàn)繞線(xiàn)的范圍，并基于該檢測(cè)結(jié)果，增加未布設(shè)第一金屬走線(xiàn)的所述電源線(xiàn)的寬度為第三寬度，和/或增加未布設(shè)第一金屬走線(xiàn)的所述地線(xiàn)的寬度為第四寬度，從而增加單位面積走線(xiàn)的效率。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于單元庫(kù)的集成電路設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述步驟A中，拉伸所述單元區(qū)域的長(zhǎng)度與寬度，實(shí)現(xiàn)所述單元塊的內(nèi)部預(yù)留有至少一條第一金屬走線(xiàn)的布線(xiàn)空間。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于單元庫(kù)的集成電路設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述步驟A中，縮小所述導(dǎo)體之間距離，實(shí)現(xiàn)所述單元塊的內(nèi)部預(yù)留有至少一條第一金屬走線(xiàn)的布線(xiàn)空間。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于單元庫(kù)的集成電路設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述導(dǎo)體層包含至少三層不同的導(dǎo)體，所述步驟B中還包括選擇性地在每一層進(jìn)行相應(yīng)的金屬走線(xiàn)繞線(xiàn)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的基于單元庫(kù)的集成電路設(shè)計(jì)方法，其特征在于，通過(guò)所述第一金屬走線(xiàn)電學(xué)連通相鄰所述單元塊之間的輸入和/或輸出，從而增加所述導(dǎo)體層中的其他層的金屬走線(xiàn)資源。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于單元庫(kù)的集成電路設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述步驟B中，還包括通過(guò)預(yù)設(shè)的網(wǎng)表布局所述單元塊于版圖中。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于單元庫(kù)的集成電路設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述第三寬度為第一寬度的三至六倍，所述第四寬度為第二寬度的三至六倍。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于單元庫(kù)的集成電路設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述金屬走線(xiàn)為信號(hào)線(xiàn)、電源線(xiàn)和地線(xiàn)中的一種。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于單元庫(kù)的集成電路設(shè)計(jì)方法，其特征在于，所述單元塊為組合邏輯門(mén)或時(shí)序邏輯門(mén)。

10.一種單元庫(kù)，其特征在于，所述單元庫(kù)包括：

若干單元塊，所述單元塊具有沿第一方向、第二方向延伸的單元區(qū)域，所述單元區(qū)域的底層包含具有有源區(qū)域、擴(kuò)散區(qū)域及柵極帶區(qū)域的MOS管區(qū)域；所述單元區(qū)域的導(dǎo)體層包含有若干導(dǎo)體、電源線(xiàn)、地線(xiàn)；通過(guò)設(shè)置所述單元區(qū)域的至少一個(gè)區(qū)域因子，從而在所述單元區(qū)域中的所述導(dǎo)體層預(yù)留至少一條第一金屬走線(xiàn)的布線(xiàn)空間，其中，所述區(qū)域因子包括所述單元塊中所述電源線(xiàn)的寬度、地線(xiàn)的寬度、導(dǎo)體的位置、導(dǎo)體的寬度、有源區(qū)域的位置、有源區(qū)域的尺寸中的一種；

所述電源線(xiàn)具有第一寬度，所述地線(xiàn)具有第二寬度，設(shè)置所述第一寬度和/或第二寬度的值，以在所述單元塊中預(yù)留至少一條第一金屬走線(xiàn)的布線(xiàn)空間；

對(duì)所述若干單元塊進(jìn)行金屬走線(xiàn)繞線(xiàn)，其中，基于預(yù)留的布線(xiàn)空間，進(jìn)行第一金屬走線(xiàn)繞線(xiàn)，從而實(shí)現(xiàn)電路功能；

檢測(cè)所述第一金屬走線(xiàn)繞線(xiàn)的范圍，并基于該檢測(cè)結(jié)果，增加未布設(shè)第一金屬走線(xiàn)的所述電源線(xiàn)的寬度為第三寬度，和/或增加未布設(shè)第一金屬走線(xiàn)的所述地線(xiàn)的寬度為第四寬度，從而增加單位面積走線(xiàn)的效率。