[發明專利]一種工藝開發包中參數化單元的DRC驗證方法

有效

• 申請號: 201410184633.2
• 申請日: 2014-05-04
• 公開（公告）號: CN105095535B
• 公開（公告）日: 2019-09-03
• 發明（設計）人: 李滔;生俊揚;王春輝;牛歡歡;高穎
• 申請（專利權）人: 中芯國際集成電路制造（上海）有限公司
• 主分類號: G06F17/50
• 分類號: G06F17/50
• 代理公司: 北京市磐華律師事務所 11336
• 代理人: 高偉;馮永貞

1.一種工藝開發包中參數化單元的DRC驗證方法，包括以下步驟：

步驟(a)，產生PCell實例；

步驟(b)，對所述PCell實例進行版圖布局；

步驟(c)，執行DRC檢查，檢查所述PCell實例中的PCell參數是否存在錯誤；

其中，所述步驟(a)包括以下子步驟：

步驟(a-1)，根據PCell參數的種類，對影響PCell版圖的參數關鍵點遍歷；

步驟(a-2)，對所述參數關鍵點以外的PCell參數遍歷；

所述步驟(b)包括以下子步驟：

步驟(b-1)，對所述PCell實例的間距進行計算；

步驟(b-2)，以PCell參數分類按規律擺放所述PCell實例；

步驟(b-3)，將所述PCell參數標注于所述PCell實例。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述PCell參數的種類包括數值型的PCell參數和開關選項PCell參數。

3.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，所述數值型的PCell參數包括柵極長度、柵極寬度、接觸孔列和指狀數目；所述開關選項PCell參數包括源漏極開關和襯底連接類型。

4.根據權利要求2所述的方法，其特征在于，其中所述數值型的PCell參數的最小值、最大值、缺省值都產生對應的PCell實例；

所述開關選項PCell參數都產生對應的PCell實例。

5.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在設計規則中，同一條設計規則根據不同的限制條件產生不同數值，所述限制條件為DRC驗證中的所述關鍵點。

6.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述參數關鍵點以外的Pcell參數以從小到大或從大到小步進的增長方式產生；或者按指數的增長方式產生；

所述增長的步進值的最小值為該工藝的格點值，所述格點值從PCell設計文件獲得。

7.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b-1)中對所述PCell實例的間距進行計算的方法包括：

從PCell設計文件或技術文件中提取版圖中層的間距要求，或設定各層最小間距中最大值作為擺放PCell實例的間距，以大于所述間距的距離擺放所述PCell實例，以避免產生PCell實例間距的DRC錯誤。

8.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b-2)中以PCell參數分類按規律擺放PCell實例的方法包括：

將PCell共同參數步進變化產生的PCell實例排列于同一行或列。

9.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，所述步驟(b-3)中將所述PCell參數標注于所述PCell實例的方法包括：

將所述PCell參數以文字形式標注于PCell實例的特定位置；將步進變化的PCell參數以文字形式標注于PCell實例版圖中的特定位置。

10.根據權利要求9所述的方法，其特征在于，所述步驟(c)包括以下子步驟：

步驟(c-1)，執行DRC檢查，若所述PCell參數沒有DRC錯誤，則通過DRC驗證；

步驟(c-2)，若所述PCell參數存在DRC錯誤，則定位出錯的PCell參數，并進行改正，至通過DRC驗證為止。

11.根據權利要求10所述的方法，其特征在于，所述步驟(c-2)中定位出錯的PCell參數的方法包括：

步驟(c-2-1)，查找所述DRC錯誤是否存在于整行或者整列所述PCell實例中；

步驟(c-2-2)，若所述DRC錯誤存在于單個PCell實例中，根據標注的文字確定該PCell參數設置，修改該PCell參數；

若所述DRC錯誤存在于整行或列，根據該行或列的共同參數來判定對應的PCell參數，修改該PCell參數；

步驟(c-2-3)，修改所述PCell參數后，重復步驟(a)至步驟(c)，至通過DRC驗證為止。