[發(fā)明專(zhuān)利]一種原子濃度梯度可控的炭載PtCu合金催化劑及其制備方法無(wú)效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410183944.7 | 申請(qǐng)日: | 2014-05-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104001521A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-08-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊濱;郝鑫禹;楊勇;彭進(jìn)才;趙鈺萌;趙之婧 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 昆明理工大學(xué) |
| 主分類(lèi)號(hào): | B01J23/89 | 分類(lèi)號(hào): | B01J23/89;B01J37/34 |
| 代理公司: | 暫無(wú)信息 | 代理人: | 暫無(wú)信息 |
| 地址: | 650093 云*** | 國(guó)省代碼: | 云南;53 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 原子 濃度梯度 可控 ptcu 合金 催化劑 及其 制備 方法 | ||
1.一種原子濃度梯度可控的炭載PtCu合金催化劑,其特征在于:所述催化劑以石墨纖維布為炭質(zhì)載體,Pt、Cu粒子直接負(fù)載在石墨纖維布單面上形成薄膜催化劑,薄膜催化劑厚度為30~50nm,催化劑中Pt含量為0.075~0.121mg/cm2,Cu含量為0.019~0.074mg/cm2。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的原子濃度梯度可控的炭載PtCu合金催化劑,其特征在于:所述催化劑中活性組分Pt和Cu的原子濃度從薄膜底層到表面呈均一梯度變化,其中Pt的原子濃度為26.85~90.42at.%,Cu的原子濃度為9.58~73.15at.%。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的原子濃度梯度可控的炭載PtCu合金催化劑,其特征在于:所述石墨纖維布是平紋丙睛石墨纖維布,且面密度0.20~0.35g/cm2。
4.權(quán)利要求1所述的原子濃度梯度可控的炭載PtCu合金催化劑的制備方法,其特征在于,具體包括以下步驟:
(1)將石墨纖維布置于7×10-3~9×10-3Pa的真空中,控制離子束輔助清洗源的屏級(jí)電壓為0.6~0.8kV、束流為65~75mA,并通入6.5~7.5sccm流量的高純Ar,其中Ar的純度≥99.999%,對(duì)石墨纖維布表面進(jìn)行離子束輔助清洗5~7min后即得到預(yù)處理的石墨纖維布;
(2)將步驟(1)所得的預(yù)處理石墨纖維布置于7×10-3~9×10-3Pa的真空中,控制離子束濺射源的屏級(jí)電壓為3.3~3.6kV、束流為70~90mA,并通入7.5~8.5sccm流量的高純Ar,其中Ar的純度≥99.999%,引出的Ar離子束轟擊放置在移動(dòng)靶臺(tái)上的Pt、Cu拼接靶;然后保持靶臺(tái)移動(dòng)方向垂直于拼接靶上Pt與Cu的接縫線,調(diào)節(jié)靶臺(tái)移動(dòng)速度為5~10mm/min,Pt、Cu拼接靶濺射出的Pt、Cu粒子沉積在石墨纖維布單面上形成催化劑薄膜,離子束濺射時(shí)間為5~10min,催化劑薄膜厚度值為30~50nm;
(3)將步驟(2)所得炭載催化劑薄膜置于7×10-3~9×10-3Pa的真空中,加熱到350~450℃并保溫1.0~2.0h,經(jīng)自然冷卻至室溫后即得到原子濃度梯度可控的炭載PtCu合金催化劑。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的原子濃度梯度可控的炭載PtCu合金催化劑的制備方法,其特征在于:步驟(2)中所述的Pt、Cu拼接靶,是由一塊Pt靶和一塊Cu靶拼接后形成正方形形狀的濺射靶材,Pt及Cu的純度均≥99.95%。
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