[發明專利]吸光性優異且適于形成微細圖案的感光性組合物在審
| 申請號: | 201410183532.3 | 申請日: | 2014-04-30 |
| 公開(公告)號: | CN105022226A | 公開(公告)日: | 2015-11-04 |
| 發明(設計)人: | 金哲鎬;孔炳善;李珉成;鄭賢真 | 申請(專利權)人: | 株式會社KCC |
| 主分類號: | G03F7/004 | 分類號: | G03F7/004;G03F7/00 |
| 代理公司: | 北京路浩知識產權代理有限公司 11002 | 代理人: | 謝順星;王瑩 |
| 地址: | 韓國*** | 國省代碼: | 韓國;KR |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 吸光性 優異 適于 形成 微細 圖案 感光性 組合 | ||
1.一種感光性組合物,其特征在于,所述感光性組合物包含(1)含羧酸基樹脂100重量份,(2)光聚合引發劑0.1~20重量份,(3)具有1μm以下的平均粒徑及3μm以下最大粒徑的填充劑0.1~300重量份,及(4)分散劑0.1~5重量份。
2.根據權利要求1所述的感光性組合物,其特征在于,所述含羧酸基樹脂為,1)使多官能環氧化合物與不飽和一元羧酸反應之后,使其反應產物與飽和或不飽和多元酸酐反應而得到的含羧酸基感光性樹脂;2)使所述含羧酸基感光性樹脂1),進一步與分子中同時具有一個環氧乙烷環和一個以上烯屬不飽和基的化合物反應而得到的含羧酸基感光性樹脂;或所述含羧酸基感光性樹脂1)與2)的混合物。
3.根據權利要求1所述的感光性組合物,其特征在于,所述光聚合引發劑選自α-氨基苯乙酮類光聚合引發劑及酰基氧化膦類光聚合引發劑中的一種以上。
4.根據權利要求1所述的感光性組合物,其特征在于,所述填充劑選自硫酸鋇、球狀二氧化硅及熔融二氧化硅中的一種以上。
5.根據權利要求1所述的感光性組合物,其特征在于,所述分散劑選自脂肪族羧酸及其鹽、高級醇的硫酸酯、烷基磺酸鹽、烷基磷酸酯、聚酯-酯羧酸鹽、高分子聚酯羧酸的聚胺鹽、脂肪族胺鹽、季銨鹽、長鏈聚氨基酰胺及其磷酸鹽、長鏈聚氨基酰胺與高分子聚酯酸的中性鹽及多官能高分子丙烯酸中的一種以上。
6.根據權利要求1所述的感光性組合物,其特征在于,所述感光性組合物進一步包含光引發敏化劑。
7.根據權利要求1所述的感光性組合物,其特征在于,所述感光性組合物進一步包含分子中具有兩個以上的環氧乙烷環的熱固化性環氧樹脂。
8.根據權利要求1所述的感光性組合物,其特征在于,曝光前的干燥涂膜厚度為25μm時對于355nm及375nm波長的各自的吸光度為1.2~1.8,對于405nm波長的吸光度為0.6以上。
9.一種干膜,其特征在于,所述干膜通過將權利要求1至8中任一項所述的感光性組合物涂敷于載體薄膜上之后進行干燥而得到。
10.一種在基板上形成圖案化的阻焊劑的方法,其特征在于,包括如下步驟:向基板提供權利要求1至8中任一項所述的感光性組合物的干燥的層;對所述基板上的感光性組合物層進行曝光而形成潛在圖案;以及對所述曝光的感光性組合物層進行顯影。
11.根據權利要求10所述的方法,其特征在于,向基板提供所述感光性組合物的干燥的層的步驟通過如下方法實施:將該感光性組合物直接涂敷于基板上之后進行干燥的方法或將該感光性組合物的干膜接合于基板上的方法。
12.根據權利要求10所述的方法,其特征在于,所述曝光步驟通過使用光掩模的一次性曝光法來實施。
13.根據權利要求10所述的方法,其特征在于,所述曝光步驟通過不使用光掩模的直接描繪法來實施。
14.一種固化膜,其特征在于,所述固化膜通過使權利要求1至8中任一項所述的感光性組合物的涂覆層固化而得到。
15.一種基板,其特征在于,所述基板包含權利要求1至8中任一項所述的感光性組合物的圖案化的固化膜。
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