[發(fā)明專利]一種可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃及制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410182461.5 | 申請(qǐng)日: | 2014-04-30 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103963371A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-08-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 范亞軍;楊永華;孫疊文;潘韜;魏邦爭(zhēng) | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中山市格蘭特實(shí)業(yè)有限公司 |
| 主分類號(hào): | B32B9/04 | 分類號(hào): | B32B9/04;B32B15/00;B32B17/00;C03C17/36 |
| 代理公司: | 中山市捷凱專利商標(biāo)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44327 | 代理人: | 楊連華;陳玉瓊 |
| 地址: | 528400 廣*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 異地 彎鋼雙銀 low 玻璃 制備 方法 | ||
【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明涉及一種新型LOW-E玻璃,本發(fā)明還涉及一種LOW-E玻璃的制備方法。
【背景技術(shù)】
隨著節(jié)能要求越來(lái)越高,單銀LOW-E玻璃將被雙銀LOW-E玻璃所替代,為了有效的提高鍍膜玻璃生產(chǎn)的效率和節(jié)約能源,可鋼化鍍膜玻璃將是未來(lái)鍍膜玻璃市場(chǎng)的主要發(fā)展趨勢(shì),然而隨著建筑外形的多樣化發(fā)展要求,曲面玻璃在建筑幕墻上應(yīng)用將越來(lái)越多,對(duì)可彎鋼雙銀LOW-E的需求日益增大,現(xiàn)有的雙銀LOW-E玻璃在進(jìn)行彎鋼時(shí),由于加熱時(shí)間幾乎是平鋼的2倍,導(dǎo)致膜層大量被燒損壞。
【發(fā)明內(nèi)容】
本發(fā)明目的是克服了現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種膜層的高溫抗氧化能力強(qiáng),在彎曲鋼化時(shí)膜層不易燒損的可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃。本發(fā)明還提供一種制備可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃的方法。
本發(fā)明是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:
一種可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃,包括有玻璃基片1,其特征在于:在玻璃基片的復(fù)合面上由內(nèi)到外依次相鄰地復(fù)合有九個(gè)膜層,其中第一膜層即最內(nèi)層為Si3N4層21,第二層為AZO層22,第三層為Ag層23,第四層為NiCrNy層24,第五層為ZnSn層25,第六層為AZO層26,第七層為Ag層27,第八層為NiCrOy層28,最外層為Si3N4層29。
如上所述的可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃,其特征在于所述第一膜層的Si3N4層21的厚度為25~45nm,所述第二層AZO層22的厚度為5~15nm,所述第六層AZO層26的厚度為5~15nm。
如上所述的可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃,其特征在于所述第三層Ag層23的厚度為5~15nm,所述第七層Ag層27的厚度為5~15nm。
如上所述的可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃,其特征在于所述第四層NiCrNy層24的厚度為1.5~3nm,所述第八層NiCrOy層28的厚度為1.5~3nm。
如上所述的可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃,其特征在于所述第五層ZnSn層25的厚度為70~100nm,所述最外層Si3N4層29的厚度為30~55nm。
一種制備可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃的方法,其特征在于包括如下步驟:
(1)磁控濺射Si3N4層,用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料SiAl重量比Si:Al=90:10,密度96%;
(2)磁控濺射AZO層,用交流中頻電源濺射陶瓷鈦靶;
(3)磁控濺射Ag層,用交流電源濺射;
(4)磁控濺射NiCrNy層,用直流電源濺射,用氮?dú)庾龇磻?yīng)氣體;
(5)磁控濺射ZnSn層,用交流電源濺射,用氧氣做反應(yīng)氣體;
(6)磁控濺射AZO層,用中頻交流電源濺射陶瓷Zn靶,為Ag層作鋪墊;
(7)磁控濺射Ag層,用交流電源濺射;
(8)磁控濺射NiCrOy層,用直流電源濺射,用氧氣做反應(yīng)氣體,滲少量氧氣;
(9)磁控濺射Si3N4層,用交流中頻電源、氮?dú)庾鞣磻?yīng)氣體濺射半導(dǎo)體材料SiAl重量比Si:Al=90:10,密度96%。
如上所述的制備可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃的方法,其特征在于所述第一膜層的Si3N4層21的厚度為25~45nm,所述第二層AZO層22的厚度為5~15nm,所述第六層AZO層26的厚度為5~15nm。
如上所述的可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃,其特征在于所述第三層Ag層23的厚度為5~15nm,所述第七層Ag層27的厚度為5~15nm。
如上所述的可異地彎鋼雙銀LOW-E玻璃,其特征在于所述第四層NiCrNy層24的厚度為1.5~3nm,所述第八層NiCrOy層28的厚度為1.5~3nm,所述第五層ZnSn層25的厚度為70~100nm,所述最外層Si3N4層29的厚度為30~55nm。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明有如下優(yōu)點(diǎn):
1、本發(fā)明采用直流電源濺射,用氧氣做反應(yīng)氣體,滲少量氧氣,使得NiCr與NiCrOy共存的狀態(tài),對(duì)氧原子有較好的吸收率。能提高膜層鋼化時(shí)抗高溫氧化性、耐磨性、透光率。保護(hù)雙銀LOW-E玻璃在進(jìn)行彎曲鋼化后膜層外觀幾乎無(wú)變化。
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