[發明專利]測量SF6分解氣體中H2S濃度的方法無效
| 申請號: | 201410171521.3 | 申請日: | 2014-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN103900983A | 公開(公告)日: | 2014-07-02 |
| 發明(設計)人: | 魯鋼;劉洋;宋杲;顏湘蓮;季嚴松;蘇鎮西;楊韌;趙也;姚強 | 申請(專利權)人: | 國家電網公司;黑龍江省電力科學研究院;中國電力科學研究院;國網安徽省電力公司電力科學研究院;國網陜西省電力公司電力科學研究院;國網重慶市電力公司電力科學研究院 |
| 主分類號: | G01N21/31 | 分類號: | G01N21/31 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 張利明 |
| 地址: | 100031 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 測量 sf sub 分解 氣體 濃度 方法 | ||
技術領域
本發明屬于光電技術檢測領域。
背景技術
六氟化硫(SF6)具有優良的絕緣滅弧性能和理化特性,作為絕緣介質既可以減小設備尺寸,又能提高絕緣強度,伴隨著城市用地的日益緊張,廣泛應用于組合絕緣電器(GIS)、斷路器(GCB)、變壓器(GIT)、電纜(GIC)、輸電管道(GIL)等輸配電設備中。
純凈的SF6是無色、無毒、無味、不燃的惰性氣體,在溫度為150℃及以下時不易與其它物質發生化學反應,正常運行時分解產物極少或不分解。當SF6設備中發生絕緣隱患或故障時,無論是局部、電暈、火花或是電弧放電,都必然會引起能量釋放,這些能量會使SF6氣體發生分解反應,生成H2S、SO2、SF2、SF3、SF4、等多種低氟硫化物。SF6分解組分會加速GIS內絕緣的老化和金屬材料表面的腐蝕,加重局部放電程度,嚴重時還會導致GIS發生突發性絕緣故障。因此對SF6濃度的測量是必須的。
目前國內外均有大量商業化的SF6檢測器,歸納起來主要有4種測量方法:高壓擊穿法、色譜法、離子移動度計和紅外光吸收譜法。
高壓擊穿法主要是根據待測SF6擊穿電壓的變化來進行定性測量,并不能定量給出SF6氣體濃度,而且不能實時在線監測。
色譜法:色譜法被廣泛應用于復雜組分的分離與鑒定。一般由真空系統、進樣系統、離子源、檢測器和計算機控制等部分組成。優點是測量精度和靈敏度較高。缺點是設備昂貴,且不能實時在線監測。
離子移動度計法:它是通過對設備中SF6氣體總體雜質含量的測定,來范瑩設備中SF6氣體的優劣程度。優點:測量成分多,精度較高。缺點:易受實驗環境條件影響,不能實時監測。
紅外光吸收譜法:利用SF6氣體在紅外波長的特征吸收峰來測量其濃度的方法,是目前主要研究的測量SF6氣體方法,主要使用設備是傅里葉紅外光譜儀。優點為測量精度高、能夠實時在線檢測,不受環境影響。缺點:需要使用傅里葉紅外光譜儀,設備昂貴,且當散射較強時需要對測量結果進行修正。
發明內容
本發明是為了解決在SF6分解氣體測量時,測得的SF6分解氣體中H2S氣體濃度的精度低的問題,現提供測量SF6分解氣體中H2S濃度的方法。
測量SF6分解氣體中H2S濃度的方法,該方法是基于下述裝置實現的,所述裝置包括:氘光源、第一聚光鏡、樣品池、第二聚光鏡和光譜儀;
氘光源發出的光經過第一聚光鏡透射至樣品池中,樣品池將該光透射至第二聚光鏡上,第二聚光鏡將該光透射至光譜儀的入射狹縫中;
所述光譜儀的入射狹縫位于第二聚光鏡的焦點處;
所述樣品池用于填充待檢測氣體;
所述測量SF6分解氣體中H2S濃度的方法包括以下步驟:
步驟一:在樣品池中充入大氣,打開氘光源,通過光譜儀獲得大氣的光譜I0(λ);
步驟二:在樣品池中充入待檢測的SF6分解氣體,通過光譜儀獲得SF6分解氣體的光譜I(λ);
步驟三:依據比爾定律,利用步驟一獲得的大氣的光譜I0(λ)和步驟二獲得的SF6分解氣體的光譜I(λ),獲得充入樣品池中的待測H2S氣體的濃度N。
上述氘光源為氘燈。
氘光源發出的光經過第一聚光鏡后,獲得的輸出光為平行光。
上述第一聚光鏡和第二聚光鏡均為石英透鏡。
光譜儀為maya2kPRO型光譜儀。
樣品池為兩端密封的圓筒結構。
樣品池的內徑為30mm,長度為40mm。
步驟三中根據比爾定律獲得待測H2S氣體濃度N的方法為:對公式
I(λ)=I0(λ)eσN
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