[發明專利]替莫西林鈉的制備方法有效
| 申請號: | 201410170590.2 | 申請日: | 2014-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN103910748A | 公開(公告)日: | 2014-07-09 |
| 發明(設計)人: | 張穎;劉鵬;高國銳;王學斌;馬元新;孫曉彬 | 申請(專利權)人: | 濟南康和醫藥科技有限公司 |
| 主分類號: | C07D499/72 | 分類號: | C07D499/72;C07D499/04 |
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| 搜索關鍵詞: | 西林 制備 方法 | ||
技術領域
本發明屬于化合物制備領域,具體涉及一種替莫西林鈉的制備方法。
技術背景
替莫西林鈉(Temocillin?Sodium,商品名為Temopen,CAS登記號61545-06-0)化學名稱:(2S,?5R,?6S)-6-[(羧基-3-噻吩乙酰基)氨基]-6-甲氧基-3,3-二甲基-7-氧代-4-硫雜-1-氮雜雙環[3.2.0]庚烷-2-羧酸二鈉鹽,其化學結構式如下:
替莫西林鈉是Beecham制藥公司(現合并為SmithKline?Beecham制藥公司)研發的一種新型長效耐β-內酰胺酶的青霉素類抗生素,1984年最早在德國上市。替莫西林鈉作為半合成廣譜抗生素,口服不吸收;對β-內酰胺酶穩定,對革蘭氏陰性菌敏感,對腸球菌、溶血性鏈球菌等活性較高、但對銅綠假單胞菌活性差,用于治療敏感菌所致尿路、皮膚和軟組織感染等。
替莫西林鈉作為一種β-內酰胺類抗生素,是第一種6位甲氧基青霉素,現有制備路線都是圍繞著其6位甲氧基的構架為中心展開,現有技術條件下的制備方法分為以下幾個方法。
專利GB1538052公開的制備路線,以6-氨基青霉素烷酸芐酯為原料,通過將?6-β位氨基轉化為異氰基后,在?6-α位引入甲硫基,然后在?HgCl2?的作用下,6-α位由甲氧基取代,再通過與側鏈芐基保護的3-噻吩丙二酸單酰氯酰化和氫化脫芐基制得替莫西林鈉。這條工藝路線長,收率低,用到五氯化磷、光氣、氯化汞等有毒試劑,最后一步采用鈀碳氫化還原脫除保護基,不利于工業化放大生產。
?專利GB?1578748公開的制備替莫西林鈉的路線,以對甲基芐基或對硝基芐基保護替卡西林為原料,用五氯化磷處理后,側鏈轉化為穩定的乙烯酮亞胺結構,然后經氯氣加成和甲醇鋰處理,在?6-α位引入甲氧基,再經氫化還原制得替莫西林鈉。同第一條路線一樣。步驟較長,所用原料替卡西林二芐酯不是常見的市售品。
中國藥科大學李淼、周湘等(青霉素類抗生素替莫西林二鈉的合成,中國新藥雜志2010年第19卷第22期)提出了一條制備替莫西林鈉的路線,以替卡西林鈉為原料,經酯化保護后,低溫下與次氯酸叔丁酯和強堿反應,在6位成功引入甲氧基,再氫化脫去芐基保護,得到替莫西林鈉。所述路線較長,其中保護與脫保護增加了生產難度、減少了收率。
?替莫西林鈉作為一種長效青霉素類抗生素,其使用量比較大,原材料的價格與路線都關系著替莫西林鈉的生產成本的控制,因此,有必要選擇一種簡便制備方法,縮短工藝路線,來降低產品的成本,提高經濟效益。
發明內容
本發明的目是針對現有技術的不足,提供一種安全的,低成本的,適合工業化生產的替莫西林鈉的制備方法。
本發明的目的可以通過以下的技術方案來實現:
一種替莫西林鈉的制備方法,其特征在于:用替卡西林鈉為起始原料與鹵代試劑在甲氧基堿條件下反應,淬滅、后處理、凍干得到替莫西林鈉。??
優選的,所述的替莫西林鈉的制備方法,其特征在于包括如下步驟:
(1)替卡西林鈉加入溶劑A攪拌溶解,即得替卡西林鈉溶液;
(2)將甲氧基堿與溶劑B、投入干燥的反應瓶中,冷卻到-30℃~-60℃,滴加上述替卡西林鈉溶液與鹵代試劑的混合液,滴畢于-30℃~-60℃反應2~5小時,淬滅、后處理、凍干得到替莫西林鈉;其中化合物替莫西林鈉的收率50%~65%,純度大于95%。
其合成路線如下:
?進一步優選的,步驟(1)中,所述的溶劑A為甲醇與二甲基亞砜、二甲基亞砜、四氫呋喃、乙腈中的一種或任意兩種的混合液。
進一步優選的,步驟(2)中所述的溶劑B為甲醇、二甲基亞砜、四氫呋喃、乙腈、乙酸甲酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯中的一種或任意兩種的混合液;所述甲氧基堿為堿金屬或堿土金屬的甲醇鹽;所述鹵代試劑為N-氯代丁二酰亞胺、N-溴代丁二酰亞胺、N-碘代丁二酰亞胺、次氯酸叔丁酯、次溴酸叔丁酯、次碘酸叔丁酯中的一種或任意兩種混合物。
進一步優選的,其特征在于:步驟(1)中,所述的替卡西林鈉為替卡西林單鈉或替卡西林二鈉;所述的替卡西林鈉與溶劑A的質量/體積比為1:(1~3)g/ml。
進一步優選的,步驟(2)中,所述的替卡西林鈉與甲氧基堿的摩爾比為1:?(1~3),所述的替卡西林鈉與鹵代試劑的摩爾比為1:?(1~3)。
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C07D 雜環化合物
C07D499-00 雜環化合物,含有4-硫雜-1-氮雜雙環[3.2.0]庚烷環系,即含有下式環系的化合物 ,例如,青霉素,青霉烯;這類環系進一步稠合,例如與含氧、含氮或含硫雜環2,3-稠合
C07D499-04 .制備
C07D499-21 .有氮原子直接連在位置6和3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2
C07D499-86 .只有1個除氮原子外的原子直接連在位置6,3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2
C07D499-87 .在位置3未取代或在位置3連有除僅兩個甲基外的取代基,并有3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基或氰基,直接連在位置2的化合物
C07D499-88 .在位置2和3之間有雙鍵并有3個鍵連雜原子至多1個鍵連鹵素的碳原子,例如酯基和氰基,直接連在位置2的化合物





