[發(fā)明專利]一種利用γ射線制備無序多孔材料的方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201410169635.4 | 申請(qǐng)日: | 2014-04-25 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103922315A | 公開(公告)日: | 2014-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫立國;白英瑋;曹倩娜;張艷紅;汪成 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 黑龍江大學(xué) |
| 主分類號(hào): | C01B31/02 | 分類號(hào): | C01B31/02 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標(biāo)事務(wù)所 23109 | 代理人: | 牟永林 |
| 地址: | 150080 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 利用 射線 制備 無序 多孔 材料 方法 | ||
1.一種利用γ射線制備無序多孔材料的方法,其特征在于一種利用γ射線制備無序多孔材料的方法是按以下步驟完成的:
一、將苯甲醛和質(zhì)量分?jǐn)?shù)為25%的氨水加入到去離子水中,室溫下攪拌30min~60min,然后加入三聚氰胺,繼續(xù)攪拌至混合均勻,然后轉(zhuǎn)移至在γ射線輻射源下,在加速電壓為300KeV和γ射線輻射源下輻照時(shí)間10min~30min,輻照劑量為8GY~12GY,得到反應(yīng)混合液;步驟一中所述的γ射線輻射源中輻射源為放射性同位素60Co;
二、將步驟一得到的反應(yīng)混合液采用去離子水洗滌2~3次,再用乙醇洗滌1~2次,然后超聲分散至均勻,再在5000~8000r/min條件下離心分離,分離得到的固體放置在溫度為60~90℃烘箱中干燥8h~12h,即得到無序多孔材料;
步驟一中所述的苯甲醛與去離子水的體積比1:(1~4);
步驟一中所述的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為25%的氨水與去離子水的體積比3:(20~120);
步驟一中所述的三聚氰胺和苯甲醛的摩爾比為1:(8~15)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用γ射線制備無序多孔材料的方法,其特征在于步驟一中所述的苯甲醛與去離子水的體積比1:(2~3)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用γ射線制備無序多孔材料的方法,其特征在于步驟一中所述的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為25%的氨水與去離子水的體積比3:(50~100)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用γ射線制備無序多孔材料的方法,其特征在于步驟一中所述的三聚氰胺和苯甲醛的摩爾比為1:(10~13)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種利用γ射線制備無序多孔材料的方法,其特征在于步驟二中將步驟一得到的反應(yīng)混合液采用去離子水洗滌2次,再采用乙醇洗滌1次,然后超聲分散至均勻,再在6000~7500r/min條件下離心分離,分離得到的固體放置在溫度為70~80℃烘箱中干燥9h~11h,即得到無序多孔材料。
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