[發明專利]對準掩模組件方法

有效

• 申請號: 201410165421.X
• 申請日: 2014-04-23
• 公開（公告）號: CN104419891B
• 公開（公告）日: 2018-11-16
• 發明（設計）人: 韓政洹
• 申請（專利權）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: C23C14/04
• 分類號: C23C14/04
• 代理公司: 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204
• 代理人: 余朦;王艷春

一種對準掩模組件的方法，包括：提供包括掩模和掩模框架的掩模組件；以及通過獨立地移動掩模框架的下部和掩模框架的上部中至少之一的位置調整掩模框架。

技術領域

本發明實施方式的多個方面涉及通過使用沉積裝置的對準掩模組件方法。

背景技術

作為平板顯示器，液晶顯示器(LCD)和有機發光二極管(OLED)顯示器是眾所周知的。平板顯示器包括具有預定圖案的金屬層，并且在有機發光二極管(OLED)顯示器的情況下，每個像素形成有具有該預定圖案的有機發光層。可應用使用用于形成金屬層和有機發光層的掩模的沉積方法。

因為平板顯示器的尺寸增大，所以掩模導致掩模圖案開口的不一致性以及像素位置精度(PPA)的降低。

背景技術部分中公開的上述信息僅用于增強對本發明背景的理解，因此，上述信息可包括并不構成該國的本領域普通技術人員公知的現有技術的信息。

發明內容

根據本發明實施方式的多個方面，沉積裝置控制施加至掩模的張力的減小和增大，并防止或基本防止掩模框架的扭曲，并且提供了使用該沉積裝置的掩模組件對準方法。

根據本發明實施方式的一方面，提供了通過使用沉積裝置的掩模組件對準方法，其中該沉積裝置包括使用在薄膜(如有機發光層或金屬層)沉積過程中的薄膜沉積掩模組件。

根據本發明的一個或多個示例性實施方式，使用沉積裝置的掩模組件對準方法包括：提供包括掩模和掩模框架的掩模組件；以及通過獨立地移動掩模框架的下部和掩模框架的上部中至少之一的位置，調整掩模框架。

在調整掩模框架的步驟中，可通過使用下框架位置控制器和上框架位置控制器相等地移動掩模框架的上部和下部，以增加或減小施加至掩模的張力，其中下框架位置控制器和上框架位置控制器安裝至用于固定掩模組件的掩模臺。

在調整掩模框架的步驟中，可通過使用下框架位置控制器和上框架位置控制器，使掩模框架的上部的位置移動得比掩模框架的下部的位置更遠，以控制掩模框架的扭曲，其中下框架位置控制器和上框架位置控制器安裝至用于固定掩模組件的掩模臺。

下框架位置控制器可連接至掩模臺的下部，上框架位置控制器可連接至掩模臺的上部。

下框架位置控制器可包括下支承件、下驅動器、和下驅動力傳輸單元，其中下驅動器安裝至下支承件并配置成產生第一驅動力，下驅動力傳輸單元連接至下驅動器，以通過使用第一驅動力控制掩模框架的下部的位置，而上框架位置控制器可包括上支承件、上驅動器、和上驅動力傳輸單元，其中上驅動器安裝至上支承件并配置成產生第二驅動力，上驅動力傳輸單元連接至上驅動器，以通過使用第二驅動力控制掩模框架的上部的位置。

下驅動器和上驅動器均可包括馬達，而下驅動力傳輸單元和上驅動力傳輸單元均可包括螺紋部分。該方法還可包括：安裝防塵器至下框架位置控制器和上框架位置控制器。

下框架位置控制器和上框架位置控制器中至少之一以與下框架位置控制器和上框架位置控制器中另一個的數量不同的數量設置有多個。

根據本發明實施方式的一方面，沉積裝置安裝連接在掩模臺之下的下框架位置控制器以及連接在掩模臺上的上框架位置控制器，以使得可通過使用下框架位置控制器和上框架位置控制器使掩模框架的上部和下部移動，從而掩模框架的上部的位置可被移動得比掩模框架的下部的位置更遠。因此，在由張力扭曲的掩模框架中，可消除或減小扭曲。因此，可補償或減小由掩模框架的扭曲變形致使的掩模與襯底之間增大的間隔。

根據本發明實施方式的另一方面，可減小掩模與襯底之間的間隔，以使得可最小化或減少沉積過程中由于由掩模覆蓋的阻擋區域的增加而導致的缺陷。

附圖說明

圖1是根據本發明示例性實施方式的沉積裝置的俯視圖；