[發明專利]防塵薄膜組件以及安裝該防塵薄膜組件的光掩模有效
| 申請號: | 201410163552.4 | 申請日: | 2014-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN104111582B | 公開(公告)日: | 2018-06-05 |
| 發明(設計)人: | 関原一敏 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/64 | 分類號: | G03F1/64 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;王博 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防塵薄膜組件 光掩模 防塵薄膜組件框架 彈性體層 防塵薄膜 連接部件 可信性 密封性 陰螺紋 側端 角部 壓扁 裝卸 變形 | ||
1.一種防塵薄膜組件與光掩模的組合體,所述防塵薄膜組件安裝至所述光掩模并且用具有至少4個邊的防塵薄膜組件框架構成,所述防塵薄膜組件框架的至少4處的角部上,設置有從光掩模貼附側的端面到設置有防塵薄膜的端面的陰螺紋孔,其特征在于:在所述防塵薄膜組件框架的光掩模貼附側的端面上所述陰螺紋孔的位置內側設置有彈性體層,在與所述陰螺紋孔對應的所述光掩模的位置上設置貫通孔,向所述貫通孔中插入先端部具有陽螺紋的連接部件,其中,所述連接部件由先端部、中間部和直徑大于所述先端部和所述中間部的大直徑部構成,其在所述先端部和所述中間部之間為具有與所述彈性體層附近的防塵薄膜組件框架接觸的臺階部的圓棒形狀,將所述連接部件的陽螺紋在所述陰螺紋孔上擰緊,按壓所述彈性體層,從而將所述防塵薄膜組件安裝至所述光掩模。
2.根據權利要求1所述的防塵薄膜組件與光掩模的組合體,所述彈性體層為,在所述防塵薄膜組件安裝于光掩模的場合,與該光掩模表面的接觸寬為0.3~1.0mm的范圍。
3.根據權利要求1或2的防塵薄膜組件與光掩模的組合體,其特征在于:在防塵薄膜組件框架的垂直方向上切割所述彈性體所得到的截面形狀為頂點正對防塵薄膜組件框架的光掩模側端面的中心線的大略半圓形狀。
4.根據權利要求1或2的防塵薄膜組件與光掩模的組合體,其特征在于:所述彈性體層的杜羅回跳式硬度計硬度A為50°以下。
5.根據權利要求1或2的防塵薄膜組件與光掩模的組合體,其特征在于:所述彈性體層為從有硅酮樹脂、氟改性硅酮樹脂、EPM樹脂、EPDM樹脂、SBS樹脂以及SEBS樹脂組成的群中選擇。
6.根據權利要求1或2所述的防塵薄膜組件與光掩模的組合體,其特征在于:所述彈性體層為,其表面沒有粘著性。
8.根據權利要求1或2的防塵薄膜組件與光掩模的組合體,其特征在于:所述連接部件的臺階部接觸所述彈性體層附近的、設置在所述防塵薄膜組件框架上的臺階。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





