[發(fā)明專利]納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料和制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410162403.6 | 申請日: | 2014-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN103956261A | 公開(公告)日: | 2014-07-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 劉保亭;賈艷麗;閆啟庚;施健;李曉紅;代秀紅;郭建新;周陽;趙慶勛 | 申請(專利權(quán))人: | 河北大學(xué) |
| 主分類號: | H01F41/18 | 分類號: | H01F41/18;H01F10/18;C23C14/35;C23C14/34;C23C14/08 |
| 代理公司: | 石家莊國域?qū)@虡?biāo)事務(wù)所有限公司 13112 | 代理人: | 蘇艷肅 |
| 地址: | 071002 *** | 國省代碼: | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 納米 結(jié)構(gòu) 多功能 復(fù)合 薄膜 材料 制備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及磁性信息存儲技術(shù)中復(fù)合薄膜材料和制備方法,具體地說是一種新型的0-3、1-3型納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料和制備方法。
背景技術(shù)
磁性材料的研究具有悠遠(yuǎn)的歷史,研究發(fā)現(xiàn),當(dāng)磁性材料的尺寸減小到納米尺度后,所得到的磁性納米材料將會出現(xiàn)一些奇異的物理現(xiàn)象,如:矯頑力的變化,超順磁性和居里溫度下降等特點,這些特點使其在生物醫(yī)療,化學(xué)催化和磁存儲等領(lǐng)域有著巨大的應(yīng)用前景。
目前制備納米多功能鐵磁復(fù)合薄膜的方法很多,主要可分為化學(xué)和物理兩種方法。其中物理合成主要有:磁控濺射法,磁控或者PLD濺射多組分的復(fù)合靶材,電沉積,多個靶材蒸發(fā)沉積等多種方法形成顆粒摻雜或?qū)訝罱Y(jié)構(gòu)的復(fù)合薄膜。通常方法是在鐵磁材料中摻雜金屬或氧化物等非磁性物質(zhì)以及具有一定物理作用的物質(zhì),如反鐵磁材料。但是,目前采用磁控濺射法制備鐵磁薄膜,磁控靶臺一般會有特殊要求,如需采用電磁靶;同時,濺射過程中復(fù)合薄膜的組分比難以實時改變,無法制備梯度的復(fù)合薄膜結(jié)構(gòu)。
磁性納米線材料因具有優(yōu)異的磁存儲特性和各項異性,在磁記錄領(lǐng)域應(yīng)用潛力很大。但是現(xiàn)有的制備工藝比較繁瑣,不容易控制,因此尋找更好地制備方法引起了人們的極大關(guān)注。目前應(yīng)用的復(fù)合材料的功能比較單一,因此所需器件的一種發(fā)展趨勢就是多功能化。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的就是要提供一種納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料及其制備方法。
本發(fā)明是這樣實現(xiàn)的:?
納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料的制備方法,采用磁控脈沖激光共濺射方法實現(xiàn),具體包括以下步驟:
①在磁控脈沖激光共濺射裝置的激光靶位選用純度>99.95%的LaxN1-xMyO3陶瓷激光靶材,磁控靶位選擇純度>99.99%的Pt金屬磁控靶材;其中,M=Fe、Ni、Co、Cr或Mn,?N=Ca,Sr,Bi或Ba;0<X≤1,?0<Y;?
②將厚度0.1?mm-2?mm的襯底置于磁控脈沖激光共濺射裝置中的樣品臺上;
③生長納米多功能鐵磁復(fù)合薄膜:真空室的背底真空度為(0.01~10)×10-4?Pa?,?激光脈沖濺射的靶間距為1~10?cm,?磁控濺射的靶間距為1~15?cm,?準(zhǔn)備濺射時充入高純氬氣,保持動態(tài)平衡濺射氣壓為0.01~80?Pa,激光脈沖濺射功率密度為0.1~5?J/cm2,?激光濺射頻率為1~10?Hz,磁控濺射功率密度為0.15~10?W/cm2,得到10-1000?nm?的MPt:?LaNMO4納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料,其中Pt來自于磁控濺射,M來自于激光靶材LaxN1-xMyO3分解的單質(zhì)金屬。
本發(fā)明的方法,第一種實現(xiàn)方式是:所述第②步中,襯底為石英非晶襯底或者藍(lán)寶石、Si、SrTiO3、MgO單晶拋光的材料。所述第③步中,濺射溫度為室溫,濺射結(jié)束后,在0.01~10×10-4??Pa的超高真空退火系統(tǒng)中進(jìn)行退火處理,?退火溫度為100~1000℃。
本發(fā)明的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料的制備方法,第二種實現(xiàn)方式是:第②步中,襯底為晶格常數(shù)匹配的單晶基片;第③步中濺射溫度為400~1000?℃。
本發(fā)明的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料的制備方法,第③步中,M和Pt原子比可以為不同值,其可根據(jù)需要進(jìn)行控制。
本發(fā)明第一種實現(xiàn)方法所制備的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料,為納米鐵磁顆粒MPt被非磁性物質(zhì)LaNMO4包圍、隔離形成0-3型MPt:La?NMO4復(fù)合薄膜。
本發(fā)明第二種實現(xiàn)方法所制備的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料,為MPt納米線被非磁性物質(zhì)LaNMO4包圍、隔離形成1-3型MPt:La?NMO4復(fù)合薄膜。
上述納米結(jié)構(gòu)多功能復(fù)合薄膜材料MPt:La?NMO4,?M=Fe,N=Sr。
上述納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料的制備方法中,?LaxN1-xMyO3陶瓷激光靶材,M=Fe,N=?Sr。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于河北大學(xué),未經(jīng)河北大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410162403.6/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:一種輸送裝置
- 下一篇:一種替換卡扣式TPMS氣門嘴的通用型TPMS氣門嘴
- 卡片結(jié)構(gòu)、插座結(jié)構(gòu)及其組合結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)平臺結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)支撐結(jié)構(gòu)
- 單元結(jié)構(gòu)、結(jié)構(gòu)部件和夾層結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)扶梯結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)隔墻結(jié)構(gòu)
- 鋼結(jié)構(gòu)連接結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)
- 螺紋結(jié)構(gòu)、螺孔結(jié)構(gòu)、機械結(jié)構(gòu)和光學(xué)結(jié)構(gòu)





