[發(fā)明專利]納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料和制備方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410162403.6
• 申請(qǐng)日: 2014-04-22
• 公開（公告）號(hào): CN103956261A
• 公開（公告）日: 2014-07-30
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 劉保亭;賈艷麗;閆啟庚;施健;李曉紅;代秀紅;郭建新;周陽;趙慶勛
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 河北大學(xué)
• 主分類號(hào): H01F41/18
• 分類號(hào): H01F41/18;H01F10/18;C23C14/35;C23C14/34;C23C14/08
• 代理公司: 石家莊國域?qū)＠虡?biāo)事務(wù)所有限公司 13112
• 代理人: 蘇艷肅

1.納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料的制備方法，其特征在于采用磁控脈沖激光共濺射方法實(shí)現(xiàn)，具體包括以下步驟：

①在磁控脈沖激光共濺射裝置的激光靶位選用純度>99.95%的La_xN_1-xM_yO₃陶瓷激光靶材，磁控靶位選擇純度>99.99%的Pt金屬磁控靶材；其中，M=Fe、Ni、Co、Cr或Mn,?N=Ca,Sr,Bi或Ba；0＜X≤1,?0＜Y；?

②將厚度0.1?mm-2?mm的襯底置于磁控脈沖激光共濺射裝置中的樣品臺(tái)上；

③生長納米多功能鐵磁復(fù)合薄膜：真空室的背底真空度為(0.01~10)×10^-4?Pa?,?激光脈沖濺射的靶間距為1~10?cm,?磁控濺射的靶間距為1~15?cm,?準(zhǔn)備濺射時(shí)充入高純氬氣，保持動(dòng)態(tài)平衡濺射氣壓為0.01~80?Pa,激光脈沖濺射功率密度為0.1~5?J/cm²,?激光濺射頻率為1~10?Hz，磁控濺射功率密度為0.15~10?W/cm²，得到10-1000?nm?的MPt:?LaNMO₄納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料，其中Pt來自于磁控濺射，M來自于激光靶材La_xN_1-xM_yO₃分解的單質(zhì)金屬。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料的制備方法，其特征在于，

第②步中，襯底為石英非晶襯底或者藍(lán)寶石、Si、SrTiO₃、MgO單晶拋光的材料。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料的制備方法，其特征在于，

第③步中，濺射溫度為室溫，濺射結(jié)束后，在0.01~10×10^-4??Pa的超高真空退火系統(tǒng)中進(jìn)行退火處理,?退火溫度為100~1000℃。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料的制備方法，其特征在于，

第②步中，襯底為晶格常數(shù)匹配的單晶基片；

第③步中濺射溫度為400~1000?℃。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料的制備方法，其特征在于，

第③步中，M和Pt原子比可以為不同值。

6.權(quán)利要求3所述的制備方法所制備的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料，其特征在于,納米鐵磁顆粒MPt被非磁性物質(zhì)LaNMO₄包圍、隔離形成0-3型MPt:La?NMO₄復(fù)合薄膜。

7.權(quán)利要求4所述的制備方法所制備的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料，其特征在于MPt納米線被非磁性物質(zhì)LaNMO₄包圍、隔離形成1-3型MPt:La?NMO₄復(fù)合薄膜。

8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的納米結(jié)構(gòu)多功能復(fù)合薄膜材料，其特征在于，M=Fe,N=?Sr。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的納米結(jié)構(gòu)多功能鐵磁復(fù)合薄膜材料的制備方法，其特征在于，M=Fe,N=?Sr。