[發(fā)明專利]強(qiáng)酸集中供液系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410159200.1 | 申請日: | 2014-04-18 | 
| 公開(公告)號(hào): | CN103939739B | 公開(公告)日: | 2017-01-11 | 
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王廣軍;劉亞偉;劉付炯;楊慶杰 | 申請(專利權(quán))人: | 無錫尚德太陽能電力有限公司;洛陽尚德太陽能電力有限公司 | 
| 主分類號(hào): | H01L21/00 | 分類號(hào): | H01L21/00;F17D1/08 | 
| 代理公司: | 無錫市大為專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)32104 | 代理人: | 曹祖良,劉海 | 
| 地址: | 214028 江蘇省無*** | 國省代碼: | 江蘇;32 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 強(qiáng)酸 集中 系統(tǒng) | ||
1.一種強(qiáng)酸集中供液系統(tǒng),包括儲(chǔ)酸罐(5),儲(chǔ)酸罐(5)中插入出液管(4),出液管(4)的管口插入儲(chǔ)酸罐(5)的槽底,出液管(4)與泵(2)的進(jìn)口連接,泵(2)的出口端的管道與回液管(3)連接,回液管(3)與儲(chǔ)酸槽(5)之間密封,回液管(3)插入儲(chǔ)酸槽(5)中;其特征是:在所述回液管(3)上連接進(jìn)氣管(8),進(jìn)氣管(8)的進(jìn)氣端連接單向閥(7)和過濾器(6)。
2.如權(quán)利要求1所述的強(qiáng)酸集中供液系統(tǒng),其特征是:所述出液管(4)伸入儲(chǔ)酸槽(5)中的長度比儲(chǔ)酸槽(5)的高度長6~10mm,出液管(4)伸入儲(chǔ)酸槽(5)中的部分呈弧形,出液管(4)的管口抵住儲(chǔ)酸槽(5)的槽底。
3.如權(quán)利要求1所述的強(qiáng)酸集中供液系統(tǒng),其特征是:在所述出液管(4)的管口設(shè)置多個(gè)缺口(1)。
4.如權(quán)利要求3所述的強(qiáng)酸集中供液系統(tǒng),其特征是:所述缺口(1)為半圓形、鋸齒形或矩形,缺口(1)的高度為出液管(4)半徑的一半。
5.如權(quán)利要求1所述的強(qiáng)酸集中供液系統(tǒng),其特征是:所述回液管(3)的管口位于儲(chǔ)酸槽(5)的液面以上。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個(gè)器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個(gè)固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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