[發(fā)明專利]一種低成本的圓片級CSP封裝方法及其封裝結(jié)構(gòu)在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410156555.5 | 申請日: | 2014-04-18 |
| 公開(公告)號: | CN103928417A | 公開(公告)日: | 2014-07-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張黎;陳錦輝;賴志明;胡正勛 | 申請(專利權(quán))人: | 江陰長電先進封裝有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/488 | 分類號: | H01L23/488;H01L21/60;H01L23/31;H01L21/56 |
| 代理公司: | 南京經(jīng)緯專利商標(biāo)代理有限公司 32200 | 代理人: | 彭英 |
| 地址: | 214429 江蘇省無錫市江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 低成本 圓片級 csp 封裝 方法 及其 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及圓片級CSP封裝方法及其封裝結(jié)構(gòu),尤其是一種低成本的圓片級CSP封裝方法及其封裝結(jié)構(gòu),屬于半導(dǎo)體封裝技術(shù)領(lǐng)域。?
背景技術(shù)
現(xiàn)有的圓片級CSP(Chip?Scale?Package)封裝結(jié)構(gòu),其芯片四周的硅裸露在組裝環(huán)境中,在貼裝回流工藝中,焊錫球或電極區(qū)域容易因為焊錫膏印刷量過多而導(dǎo)致部分焊錫爬升到芯片側(cè)壁裸露的硅上面,造成芯片漏電。同時,對于極小尺寸封裝產(chǎn)品,如0402、0210、01005等尺寸的封裝產(chǎn)品而言,如圖1左圖所示,其自身重量很輕,在表面貼裝過程中如果兩電極的焊錫膏印刷量有差異,以及回流受熱溫度不均,造成電極兩端不平衡,極易導(dǎo)致器件一端翹起,形成“墓碑”現(xiàn)象,如圖1右圖所示,造成器件貼裝不良。?
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服上述圓片級CSP封裝結(jié)構(gòu)的不足,提供一種改善器件貼裝不良、且不易造成芯片漏電的低成本的圓片級CSP封裝方法及其封裝結(jié)構(gòu)。?
本發(fā)明的目的是這樣實現(xiàn)的:?
本發(fā)明一種低成本的圓片級CSP封裝方法,其工藝過程如下:
提供帶有芯片電極陣列的圓片;
在芯片電極陣列的表面形成金屬凸點;
沿圓片的劃片道開設(shè)深至圓片且不切透圓片的寬溝槽;
在上述圓片上印刷絕緣層,并固化成形;
削減絕緣層和金屬凸點,形成金屬凸點切面;
在金屬凸點切面的表面形成金屬保護層;
再次沿圓片的劃片道分割圓片,形成寬度小于寬溝槽的分割道,再裂片形成單顆的低成本的圓片級CSP封裝結(jié)構(gòu)。
本發(fā)明所述寬溝槽的深度小于圓片的厚度。?
本發(fā)明所述金屬凸點的高度為H3,H3≥17μm。?
進一步地,所述金屬凸點的被削減高度為h3,h3≥2μm。?
本發(fā)明一種低成本的圓片級CSP封裝結(jié)構(gòu),包括帶有若干個芯片電極的硅基本體,所述硅基本體的側(cè)壁呈臺階狀,所述芯片電極位于臺階狀的硅基本體的頂部;?
所述芯片電極的表面設(shè)置平頭金屬凸點,所述平頭金屬凸點的上端面覆蓋金屬保護層;
還包括絕緣層,所述絕緣層設(shè)置于芯片電極一側(cè)的所述硅基本體的表面以及所述硅基本體的側(cè)壁,所述絕緣層的上表面與平頭金屬凸點的上端面齊平。
本發(fā)明所述平頭金屬凸點的高度h1,15μm≤h1≤25μm。?
本發(fā)明所述硅基本體的臺階狀側(cè)壁至少有一階臺階。?
進一步地,所述臺階的總深度h2≥30μm。?
進一步地,所述臺階的總深度h2為100~150μm?。?
本發(fā)明位于所述芯片電極另一側(cè)的所述硅基本體的表面設(shè)置背面保護層。?
本發(fā)明的有益效果是:?
1、本發(fā)明低成本的圓片級CSP封裝結(jié)構(gòu),其在硅基本體的側(cè)壁設(shè)置臺階結(jié)構(gòu)且布滿絕緣層,消除了硅基側(cè)壁的爬錫現(xiàn)象,克服了芯片尺寸封裝的漏電問題,提升了器件的貼裝良率;
2、本發(fā)明低成本的圓片級CSP封裝方法,其制程簡潔,降低了生產(chǎn)成本。
附圖說明???????
圖1是現(xiàn)有圓片級CSP封裝結(jié)構(gòu)的爬錫現(xiàn)象的示意圖;
圖2為一種低成本的圓片級CSP封裝方法的工藝流程圖;
圖3為一種低成本的圓片級CSP封裝結(jié)構(gòu)的實施例一的剖面示意圖;
圖4為圖3的芯片電極與硅基本體位置關(guān)系的正面示意圖;
圖5至圖13為實施例一的封裝方法的工藝過程示意圖;
圖14為本發(fā)明一種低成本的圓片級CSP封裝結(jié)構(gòu)實施例二的剖面示意圖;
圖15為本發(fā)明一種低成本的圓片級CSP封裝結(jié)構(gòu)實施例三的芯片電極與硅基本體位置關(guān)系的正面示意圖;
圖16為本發(fā)明一種低成本的圓片級CSP封裝結(jié)構(gòu)實施例四的剖面示意圖;
其中,硅基本體101
芯片電極110
臺階121
絕緣層201
平頭金屬凸點310
金屬保護層410
背面保護層421;?
芯片11
劃片道12
圓片100
寬溝槽120
絕緣層200
金屬凸點300?
金屬凸點切面311
劃片刀520
分割道521。
具體實施方式
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