[發(fā)明專利]成膜裝置、載體和制造成膜基板的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201410150985.6 | 申請日: | 2014-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN104746032B | 公開(公告)日: | 2017-04-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 歌代智也 | 申請(專利權(quán))人: | 昭和電工株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/50 | 分類號: | C23C14/50;H01L21/677 |
| 代理公司: | 北京林達(dá)劉知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11277 | 代理人: | 劉新宇,張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成膜裝置 載體和制造成膜基板的方法 | ||
1.一種成膜裝置,其包括:
引導(dǎo)機構(gòu),所述引導(dǎo)機構(gòu)在載體保持基板的情況下引導(dǎo)被沿著輸送路徑輸送的所述載體,在所述基板上進(jìn)行成膜處理,其中,
所述引導(dǎo)機構(gòu)包括:
第一支撐面,所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的一側(cè)方,并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分;以及
第二支撐面,所述第二支撐面被配置于隔著所述輸送路徑與所述第一支撐面相對的對向側(cè),并且從下方支撐在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分,其中,
所述第一支撐面朝向所述第二支撐面所在側(cè)下降地傾斜設(shè)置,并且所述第二支撐面朝向所述第一支撐面所在側(cè)下降地傾斜設(shè)置。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜裝置,其特征在于,
所述第一支撐面被配置于所述輸送路徑的所述一側(cè)方,并且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導(dǎo)在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分,并且
所述第二支撐面被配置于所述輸送路徑的另一側(cè)方,并且沿著所述輸送路徑配置以從下方支撐并引導(dǎo)在所述輸送路徑上被輸送的所述載體的一部分。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的成膜裝置,其特征在于,所述載體的待由所述第一支撐面支撐的一部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的一部分均設(shè)置有轉(zhuǎn)動構(gòu)件。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜裝置,其特征在于,
所述載體的待由所述第一支撐面支撐的部分設(shè)置有第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件,所述載體的待由所述第二支撐面支撐的部分設(shè)置有第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件,所述第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動,所述第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動,
所述第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件被配置成使得,其轉(zhuǎn)動軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且其轉(zhuǎn)動軸的所述另一端被定位于所述一側(cè)方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動軸相對于水平方向傾斜,并且
所述第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件被配置成使得,其轉(zhuǎn)動軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且其轉(zhuǎn)動軸的所述另一端被定位于所述另一側(cè)方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動軸相對于水平方向傾斜。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成膜裝置,其特征在于,
所述第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件和所述第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件均包括圓筒狀的轉(zhuǎn)動體,
所述第一支撐面從下方與所述第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件的所述轉(zhuǎn)動體的外周面接觸,以支撐所述第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件,并且
所述第二支撐面從下方與所述第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件的所述轉(zhuǎn)動體的外周面接觸,以支撐所述第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中的任意一項所述的成膜裝置,其特征在于,所述載體的待由所述第一支撐面支撐的部分以及所述載體的待由所述第二支撐面支撐的部分都位于所述載體的重心的上方。
7.一種載體,待進(jìn)行成膜處理的基板安裝于該載體,該載體在由設(shè)置于輸送路徑的一側(cè)方的引導(dǎo)部以及設(shè)置于所述輸送路徑的另一側(cè)方的引導(dǎo)部引導(dǎo)的同時被沿著所述輸送路徑輸送,其中,所述輸送路徑設(shè)置于成膜裝置中,所述載體包括:
載體主體,所述基板安裝于所述載體主體,該載體主體在所述成膜裝置中的所述輸送路徑上被輸送;
第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件,所述第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件被設(shè)置成能夠圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動,當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時,設(shè)置于所述一側(cè)方的引導(dǎo)部在從下方支撐所述第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件的同時引導(dǎo)所述第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件;和
第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件,所述第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件被設(shè)置成能夠圍繞具有一端和另一端的轉(zhuǎn)動軸轉(zhuǎn)動,當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時,設(shè)置于所述另一側(cè)方的引導(dǎo)部在從下方支撐所述第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件的同時引導(dǎo)所述第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件;其中,
所述第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件被配置成使得,當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時,所述第一轉(zhuǎn)動構(gòu)件的轉(zhuǎn)動軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且所述另一端被定位于所述一側(cè)方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動軸相對于水平方向傾斜,且
所述第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件被配置成使得,當(dāng)所述載體主體在所述輸送路徑上被輸送時,所述第二轉(zhuǎn)動構(gòu)件的轉(zhuǎn)動軸的所述一端被定位于所述輸送路徑所在側(cè)且所述另一端被定位于所述另一側(cè)方,且所述另一端被定位于所述一端的上方以使所述轉(zhuǎn)動軸相對于水平方向傾斜。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





