[發明專利]標記分段方法及應用其的半導體結構制造方法有效
| 申請號: | 201410150885.3 | 申請日: | 2014-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN105023911B | 公開(公告)日: | 2018-05-25 |
| 發明(設計)人: | 劉恩銓;黃于盈;李仁修;陳美蓁;陳雅玲;王怡靜;黃志明 | 申請(專利權)人: | 聯華電子股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L23/544 | 分類號: | H01L23/544 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所 11105 | 代理人: | 史新宏 |
| 地址: | 中國臺灣新竹*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 線段 分段 半導體結構 處理器設置 處理器識別 調整標記 處理器 基板 分隔 應用 制造 | ||
在此提供一種標記分段方法及一種應用所述標記分段方法的半導體結構制造方法。所述標記分段方法包括下列步驟。首先,通過處理器識別形成于基板上的線段,其中線段分別具有寬度W
技術領域
本說明書涉及一種標記分段方法及一種應用所述標記分段方法的半導體結構制造方法。
背景技術
半導體結構往往包括多個在不同步驟中形成的層狀結構。這些層狀結構需要彼此對準,以確保半導體結構的功能。并且,一般來說是一次性地在一基板上形成多個半導體結構的相同構成部分,這些構成部分也需要對應地形成在各半導體結構的相同位置。要達成這些目標,一種常見的方法是使用標記來進行對準。標記可以是與前面形成的某一層狀結構同時形成的特征物,或以其它步驟額外形成的特征物。或者,標記可包括前面形成的某一層狀結構的部分特征物。又或者,標記可以前述各者加以定義。所述特征物例如為十字結構或線段等等。隨著半導體結構的尺寸縮小,對準步驟變得更加重要,卻也更難以精確地進行。
發明內容
本說明書提供一種標記分段方法,可用于以特征物來設置標記。本說明書亦提供一種應用此種標記分段方法的半導體結構制造方法。
根據一些實施例,標記分段方法包括下列步驟。首先,通過一處理器識別形成于一基板上的多個線段,其中所述線段分別具有一寬度W
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于聯華電子股份有限公司,未經聯華電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201410150885.3/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種浮柵閃存結構及其制備工藝
- 下一篇:基于晶片的電子元件封裝





