[發明專利]防塵薄膜組件框架以及采用該框架的防塵薄膜組件在審
| 申請號: | 201410150086.6 | 申請日: | 2014-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN104102089A | 公開(公告)日: | 2014-10-15 |
| 發明(設計)人: | 関原一敏 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/64 | 分類號: | G03F1/64;B08B17/00 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;李科 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防塵 薄膜 組件 框架 以及 采用 | ||
技術領域
本發明涉及半導體設備,印刷基板,液晶或有機EL顯示器等的制造時作為防塵器使用的防塵薄膜組件框架以及使用其的防塵薄膜組件。
背景技術
LSI,超LSI等的半導體或為液晶顯示器等的制造中,對半導體晶片或液晶用原板進行光照射,以制作圖案,但是,此時所用的光掩?;蛑虚g光掩模(以下,簡稱光掩模)上有灰塵附著,此灰塵就會將光吸收,或使光彎曲,轉印的圖案就會變形,邊沿變得模糊,基底污黑等,尺寸,品質,外觀等受損。
由此,這些操作通常在無塵室中進行,但即使如此,也難以達到光掩模得經常清潔。因此,要在光掩模表面貼附作為防塵器的防塵薄膜組件后進行曝光。在該場合,異物就不會在光掩模的表面上直接附著,而僅在防塵薄膜組件上附著,此時,只要將焦點對準光掩模的圖案,防塵薄膜組件上的異物就與轉印無關了。
一般來說,防塵薄膜組件有,由使光良好通過的硝化纖維素,乙酸纖維素或氟樹脂等構成的透明的防塵薄膜組件膜在由鋁,不銹鋼等構成的防塵薄膜組件框架的上端面進行貼附或接著來構成。另外,在防塵薄膜組件框架的下端,設置為了進行光掩模安裝的由聚丁烯樹脂,聚乙酸乙烯基樹脂,丙烯酸樹脂,硅酮樹脂等構成的粘著層,以及設置為了保護粘著層的離型層(分離物)。
這樣的防塵薄膜組件,要在暗室內等中用集光燈進行異物檢查,確認是否有異物的附著。此檢查不僅在防塵薄膜組件膜的表面,在防塵薄膜組件框架的內面也進行。在防塵薄膜組件框架內面附著的異物,有落在光掩模表面的可能,一般,將該異物檢查在暗室內用集光燈等的照度大的光進行照射并目視進行,在有異物的場合,就會看到在防塵薄膜組件框架上的亮點。由于在防塵薄膜組件框架的表面有細微的凹凸存在,如包括微小的凹凸,可以說亮點有無數個。由此,現狀是,從亮點的大小來進行推測異物的大小,將大于設定的容許值的判定為不良。
但是,在防塵薄膜組件框架內面設置粘著層的場合,雖有異物附著但落下可能小,這種可以容許的異物,例如可以為數十μm程度,但是近年來,由于擔心由于曝光時的迷光而造成老化以及發生氣體,所以多不設置粘著層,在這種場合下,檢查極為嚴格,即使極小的,例如數μm大小的異物也會成為問題,被判定為不良的情況就會很多。
但是,在如此嚴格的檢查中,被作為異物檢查出物體中,往往不是附著的異物,而是防塵薄膜組件框架的鋁陽極氧化皮膜的缺陷被誤認的情況。在一般使用的鋁合金制防塵薄膜組件框架的表面,通常進行黑色鋁陽極氧化處理,在表面具有粗大的析出物(金屬互化物)等的場合,該表面不能進行正常的鋁陽極氧化皮膜的形成,會變成凹陷或不能很好地進行染色而成為白點。
專利文獻1以及2中,記載了為了對上述加以防止,使鋁合金的合金元素的雜質的量減低,從而使析出物的體積變小等。但是,在鋁合金中,含有作為強化元素的各種各樣的元素,將來自合金成分的缺陷(亮點)進行完全防止是極為困難的。
在專利文獻3中,記載了由于鋁陽極氧化皮膜的表面多孔,擔心該表面會發生灰塵,所以要在防塵薄膜組件框架表面進行樹脂涂布的技術,但是在該場合中,防塵薄膜組件框架表面由于進行樹脂涂布以及賦與光澤,表面的缺陷(亮點)會進一步被強調。
如以上所述,至今為止,還不能得到沒有被誤認異物的缺陷(亮點)的表面品質優良的防塵薄膜組件框架以及防塵薄膜組件。在這樣的場合,防塵薄膜組件框架內面的異物檢查需要極長的時間,這樣的長時間的異物檢查,除了成本增加外,檢查中有誤認以及漏檢的可能,從而可信性有問題。
【現有技術文獻】
【專利文獻】
【專利文獻1】日本專利3777987號
【專利文獻2】日本專利4605305號
【專利文獻3】日本特開2007-333910
發明內容
【發明的概要】
本發明,就是鑒于上述問題而完成的,本發明的目的是提供一種在防塵薄膜組件框架內側的表面沒有被誤認為凹陷以及白點等的異物的亮點(缺陷),外觀品質以及可信性優良的防塵薄膜組件框架以及使用該防塵薄膜組件框架的防塵薄膜組件。
本發明人,為了達成上述目的,進行了研究,得知如在構成防塵薄膜組件框架的鋁合金的表面或近傍有不少的析出物存在的話,鋁陽極氧化被覆膜就不能在該附近正常形成從而容易有凹陷等的形狀缺陷發生,該形狀缺陷就會成為被誤認為異物的表面缺陷(亮點),如將具有該形狀缺陷的表面或表面近傍用幾乎沒有析出物的高純度的純鋁進行覆蓋的話,就會完全不受由鋁合金而來的析出物以及由該析出物而產生的形狀缺陷的影響。
【發明內容】
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





