[發明專利]防塵薄膜組件框架以及采用該框架的防塵薄膜組件在審
| 申請號: | 201410150086.6 | 申請日: | 2014-04-15 |
| 公開(公告)號: | CN104102089A | 公開(公告)日: | 2014-10-15 |
| 發明(設計)人: | 関原一敏 | 申請(專利權)人: | 信越化學工業株式會社 |
| 主分類號: | G03F1/64 | 分類號: | G03F1/64;B08B17/00 |
| 代理公司: | 北京泛華偉業知識產權代理有限公司 11280 | 代理人: | 王勇;李科 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 防塵 薄膜 組件 框架 以及 采用 | ||
1.一種防塵薄膜組件框架,其為由鋁合金制作的防塵薄膜組件框架,其特征在于:所述防塵薄膜組件框架的形狀加工后,至少在所述防塵薄膜組件框架內側的表面形成純鋁皮膜。
2.根據權利要求1所述的防塵薄膜組件框架,其特征在于:所述純鋁皮膜的純度為99.7%以上。
3.根據權利要求1或2所述的防塵薄膜組件框架,其特征在于:所述純鋁皮膜的表面粗度為Ra0.5~5μm的范圍。
4.根據權利要求1至3的任一項所述的防塵薄膜組件框架,其特征在于:所述純鋁皮膜被研磨平滑化。
5.根據權利要求1至4的任一項所述的防塵薄膜組件框架,其特征在于:所述純鋁皮膜的厚度為3μm以上50μm以下。
6.根據權利要求1至5的任一項所述的防塵薄膜組件框架,其特征在于:所述純鋁皮膜為通過噴鍍或蒸鍍形成的。
7.根據權利要求1至6的任一項所述的防塵薄膜組件框架,其特征在于:所述純鋁皮膜形成后,進行鋁陽極氧化處理,染色或電解著色,進一步進行封孔處理。
8.根據權利要求7所述的防塵薄膜組件框架,其特征在于:所述封孔處理后,在其外側進一步形成樹脂皮膜。
9.根據權利要求8所述的防塵薄膜組件框架,其特征在于:所述樹脂皮膜的材質從由丙烯酸樹脂,聚酯樹脂,硅酮樹脂,氟樹脂構成的群中進行選擇。
10.一種防塵薄膜組件,其特征在于:由權利要求1至9的任一項所述的防塵薄膜組件框架構成。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





