[發(fā)明專利]熒光猝滅體系用于潛在指紋顯現(xiàn)的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410146802.3
• 申請日: 2014-04-13
• 公開（公告）號: CN103919558A
• 公開（公告）日: 2014-07-16
• 發(fā)明（設計）人: 王利華;胡軍成;陳歡;黃正喜
• 申請（專利權(quán)）人: 中南民族大學
• 主分類號: A61B5/117
• 分類號: A61B5/117
• 代理公司: 武漢宇晨專利事務所 42001
• 代理人: 余曉雪;王敏鋒

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及痕量檢測技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種熒光猝滅體系用于潛在指紋顯現(xiàn)的方法，該方法為一種利用熒光猝滅體系的“turn-on”效應即重新發(fā)出熒光而顯現(xiàn)出潛在指紋的方法。

背景技術(shù)

指紋具有“因人而異、終身不變”的特點，據(jù)此可以鎖定涉案人員，曾是“證據(jù)之王”。目前因為DNA技術(shù)的發(fā)展和普及，指紋與DNA并列“證據(jù)之王”。2012年5月30日，新修訂的《居民身份證法》明確規(guī)定居民身份證登記項目包括指紋信息，2013年1月我國全面啟動身份證登記指紋信息和停用一代證。因此，潛在指紋顯現(xiàn)技術(shù)的研究仍然具有重要的應用價值。

室溫下，能夠在幾分鐘內(nèi)顯現(xiàn)潛在指紋的方法主要有粉末法、502熏（貼）顯法、硝酸銀法，這些方法各有其最佳應用領(lǐng)域，也有相應的缺點和局限。近年來，人們將納米金屬、量子點等新型材料試用于潛在指紋顯現(xiàn)，這些材料通過與指紋成分的靜電吸引、化學反應等作用，可以在指紋上富集或者沉積，在自然光或者特定波長的光照射下，顯現(xiàn)出更加清晰的指紋。例如專利申請200910066558“金納米粒子一步顯現(xiàn)潛指紋”的方法，發(fā)明人使用葡萄糖修飾的金納米粒子或蔗糖修飾的金納米粒子，在一定的pH范圍內(nèi)與潛指紋中的成分發(fā)生相互作用，誘導金納米粒子的沉積析出，從而清晰有效地顯現(xiàn)潛指紋紋線。該方法簡化了顯現(xiàn)步驟，實現(xiàn)了一步顯現(xiàn)潛指紋。在專利申請200710055254.3“顯現(xiàn)潛在指紋的方法及其顯現(xiàn)系統(tǒng)”中，發(fā)明人制備了CdTe熒光納米粒子，利用ICP玻璃高效霧化器或超聲霧化器將熒光納米粒子溶液噴附到載有指紋的指紋載體表面，再用氰基丙烯酸酯熏蒸指紋載體表面形成指紋的加固膜以及采用紫外線熒光照相法獲取熒光指紋圖像，這些新方法也各有利弊。

我們注意到，已經(jīng)有人先制備出熒光猝滅體系，然后將其與某種物質(zhì)例如氯離子、葡萄糖等進行反應，利用熒光猝滅體系被破壞后發(fā)出的熒光即“turn-on”（熒光開關(guān)，熒光增強型）效應進行含量的分析。相對于熒光逐步猝滅的過程，“turn-on”效應更加明顯，因為在一個黑暗的房間內(nèi)開燈，即使燈光不強，其效果肯定比將已開著的燈光調(diào)暗更加明顯。據(jù)此我們建立了自己的新思路：制備各種熒光猝滅體系，將其與指紋接觸，當熒光猝滅體系被指紋成分破壞后，重新發(fā)出的熒光即可顯現(xiàn)指紋。

經(jīng)過試驗，我們的設想得到了驗證，目前該方法尚未見報道。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中存在的不足，本發(fā)明的目的在于提供了一種熒光猝滅體系用于潛在指紋顯現(xiàn)的方法，該方法能在常溫下幾分鐘內(nèi)快速顯現(xiàn)或者“標記”出各種物品上的指紋。

本發(fā)明的一種熒光猝滅體系用于潛在指紋顯現(xiàn)的方法的步驟如下：

先制備熒光猝滅體系，所述熒光猝滅體系的猝滅狀態(tài)可被指紋成分破壞；然后將其噴、涂到各種物品上，有指紋的部分，其中的氯離子、氨基酸或者葡萄糖等指紋成分破壞所述熒光猝滅體系的猝滅狀態(tài)，使熒光再現(xiàn)從而顯現(xiàn)指紋；在特殊光照下透過濾光片或者在自然光照下直接拍照；

所述的熒光猝滅體系包括熒光物質(zhì)和能夠?qū)晒馕镔|(zhì)的熒光猝滅的物質(zhì)；

所述熒光物質(zhì)包括能夠受激發(fā)光的量子點、碳點、熒光素、染料、席夫堿類化合物、芳香族氨基酸、鈣黃綠素藍、聚乙烯吡咯烷酮、8-羥基喹啉鋁、二苯乙烯熒光藍-S、水楊基熒光酮、諾氟沙星、苯基熒光酮等；

所述量子點包括修飾或者不修飾的氧化鋅、硫化鋅、二氧化鈦、硒化鎘、硫化鎘、碲化鎘等；

所述的量子點表面可以使用巰基乙酸、DNA、RNA、氨基酸（例如L-半胱氨酸等）、蛋白質(zhì)、酶等進行修飾；

所述熒光素包括熒光素（CAS：2321-07-5）、5-羧基熒光素(5-FAM)和6-羧基熒光素（6-FAM）中的一種或兩種以上的任意比例混合物；

所述能夠?qū)晒馕镔|(zhì)的熒光猝滅的物質(zhì)包括納米金、納米銀、銀離子、量子點、銅離子、鎳離子、鋅離子、鐵離子、鉬（Ⅵ）離子、碳點、DNA、RNA、氨基酸（如L-半胱氨酸）、蛋白質(zhì)、酶、抗壞血酸、錳離子等；

所述納米金表面可以使用巰基乙酸、DNA、RNA、氨基酸（L-半胱氨酸）、蛋白質(zhì)、酶等進行修飾。