[發(fā)明專利]熒光猝滅體系用于潛在指紋顯現(xiàn)的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201410146802.3
• 申請日: 2014-04-13
• 公開（公告）號: CN103919558A
• 公開（公告）日: 2014-07-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王利華;胡軍成;陳歡;黃正喜
• 申請（專利權(quán)）人: 中南民族大學(xué)
• 主分類號: A61B5/117
• 分類號: A61B5/117
• 代理公司: 武漢宇晨專利事務(wù)所 42001
• 代理人: 余曉雪;王敏鋒

1.一種熒光猝滅體系用于潛在指紋顯現(xiàn)的方法，其步驟如下：

先制備熒光猝滅體系，所述熒光猝滅體系的猝滅狀態(tài)可被指紋成分破壞；然后將其噴、涂到各種物品上，有指紋的部分，指紋成分破壞所述熒光猝滅體系的猝滅狀態(tài)，使熒光再現(xiàn)從而顯現(xiàn)指紋；

所述的熒光猝滅體系包括熒光物質(zhì)和能夠?qū)晒馕镔|(zhì)的熒光猝滅的物質(zhì)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：

所述熒光物質(zhì)包括能夠受激發(fā)光的量子點(diǎn)、碳點(diǎn)、熒光素、染料、席夫堿類化合物、芳香族氨基酸、鈣黃綠素藍(lán)、聚乙烯吡咯烷酮、8-羥基喹啉鋁、二苯乙烯熒光藍(lán)-S、水楊基熒光酮、諾氟沙星、苯基熒光酮。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的方法，其特征在于：

所述量子點(diǎn)包括修飾或者不修飾的氧化鋅、硫化鋅、二氧化鈦、硒化鎘、硫化鎘、碲化鎘。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于：

所述量子點(diǎn)表面使用巰基乙酸、DNA、RNA、氨基酸、蛋白質(zhì)或酶進(jìn)行修飾。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：

所述熒光素為熒光素、5-羧基熒光素、6-羧基熒光素中的一種或兩種以上的任意比例混合物。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：

所述能夠?qū)晒馕镔|(zhì)的熒光猝滅的物質(zhì)包括納米金、納米銀、銀離子、量子點(diǎn)、銅離子、鎳離子、鋅離子、鐵離子、鉬（Ⅵ）離子、碳點(diǎn)、DNA、RNA、氨基酸、蛋白質(zhì)、酶、抗壞血酸、錳離子。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的方法，其特征在于：

所述納米金表面使用巰基乙酸、DNA、RNA、氨基酸、蛋白質(zhì)或酶進(jìn)行修飾。

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于：

所述熒光猝滅體系選自納米金-熒光素?zé)晒忖珞w系、水溶性CdTe量子點(diǎn)-銀離子熒光猝滅體系、碳點(diǎn)-銅離子熒光猝滅體系、硫化鋅量子點(diǎn)-鎳離子熒光猝滅體系、納米銀-染料熒光猝滅體系、納米銀-熒光素?zé)晒忖珞w系、納米銀-熒光染料曙紅Y熒光猝滅體系、納米銀-聚乙烯吡咯烷酮熒光猝滅體系、納米銀-8-羥基喹啉鋁熒光猝滅體系、納米銀-諾氟沙星熒光猝滅體系、銅離子-席夫堿類化合物熒光猝滅體系、芳香族氨基酸-抗壞血酸熒光猝滅體系、鈣黃綠素藍(lán)-錳離子熒光猝滅體系、鎳離子-吖啶橙-曙紅Y熒光猝滅體系、鋅離子-二苯乙烯熒光藍(lán)-S熒光猝滅體系、鐵離子-二苯乙烯熒光藍(lán)-S熒光猝滅體系、鉬（Ⅵ）離子-水楊基熒光酮熒光猝滅體系或錳（Ⅱ）離子-苯基熒光酮熒光猝滅體系。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的方法，其特征在于：

所述熒光猝滅體系選自納米金-熒光素?zé)晒忖珞w系、納米銀-熒光素?zé)晒忖珞w系、水溶性CdTe量子點(diǎn)-銀離子熒光猝滅體系、碳點(diǎn)-銅離子熒光猝滅體系。