[發(fā)明專(zhuān)利]基板處理裝置及其方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201410138171.0
• 申請(qǐng)日: 2014-04-08
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104103557B
• 公開(kāi)（公告）日: 2017-04-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱喆元;李碩徽
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: PSK有限公司
• 主分類(lèi)號(hào): H01L21/67
• 分類(lèi)號(hào): H01L21/67;H01L21/677
• 代理公司: 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司11227
• 代理人: 李洋,舒艷君

1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：

裝載端口，其供收納有基板的卡匣放置；

制程室，其執(zhí)行對(duì)基板的制程處理；

框架，其提供于上述裝載端口與上述制程室之間，且在內(nèi)部形成有空間；以及

轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)器人，其位于上述框架的內(nèi)部，在上述卡匣與上述制程室之間轉(zhuǎn)運(yùn)基板。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所記載的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

調(diào)整室，其提供于上述框架的內(nèi)部，供基板的位置整齊排列；以及

冷卻室，其提供于上述框架的內(nèi)部，供制程完成后的基板冷卻。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所記載的基板處理裝置，其特征在于，

上述轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)器人、上述調(diào)整室及上述冷卻室位于同一空間。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所記載的基板處理裝置，其特征在于，

上述調(diào)整室和上述冷卻室沿上下方向?qū)盈B。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所記載的基板處理裝置，其特征在于，

上述調(diào)整室和上述冷卻室沿側(cè)方向并排地配置。

6.根據(jù)權(quán)利要求2所記載的基板處理裝置，其特征在于，

上述裝載端口、上述轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)器人及上述制程室依次配置成一排，

上述調(diào)整室和上述冷卻室，從將上述裝載端口、上述轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)器人及上述制程室配置成一排所成的線脫離而配置。

7.根據(jù)權(quán)利要求2所記載的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

支撐板，其位于上述調(diào)整室內(nèi)；

第1及第2襯墊，它們固定于上述支撐板的上表面，供基板放置；以及

調(diào)整推桿，其位于上述支撐板的上表面，朝向上述支撐板的中心方向移動(dòng)而推動(dòng)基板。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所記載的基板處理裝置，其特征在于，

上述第1襯墊具有：第1主體，其供基板放置；以及第1上端部，其從上述第1主體朝向上部突出，且內(nèi)側(cè)面具有與基板的曲率半徑相應(yīng)的曲率半徑；

上述第2襯墊具有：第2主體，其供基板放置；以及第2上端部，其從上述第2主體朝向上部突出，且內(nèi)側(cè)面具有比基板的曲率半徑大的曲率半徑；

上述調(diào)整推桿推動(dòng)基板以使基板的側(cè)部緊貼于上述第1上端部的內(nèi)側(cè)面。

9.根據(jù)權(quán)利要求2所記載的基板處理裝置，其特征在于，還包括：

冷卻板，其位于上述冷卻室的內(nèi)側(cè)，且內(nèi)部形成有冷卻流路；

多個(gè)升降銷(xiāo)，它們沿著形成于上述冷卻板的銷(xiāo)孔朝上下方向移動(dòng)；以及

調(diào)整推桿，其將放置于上述冷卻板的基板的側(cè)部向上述冷卻板的中心方向推動(dòng)而整齊排列基板位置。

10.根據(jù)權(quán)利要求9所記載的基板處理裝置，其特征在于，

上述調(diào)整推桿包括：

第1推桿至第3推桿，它們沿著上述冷卻板的周邊而相互離開(kāi)地配置；以及

驅(qū)動(dòng)部，其驅(qū)動(dòng)上述第1推桿至上述第3推桿，以使上述第1推桿和上述第2推桿向上述冷卻板的中心方向?qū)宓囊粋?cè)部進(jìn)行第1次推動(dòng)，并且使上述第3推桿向上述冷卻板的中心方向?qū)宓牧硪粋?cè)部進(jìn)行第2次推動(dòng)。

11.一種基板處理方法，其特征在于，

包括：

基板拉出步驟，拉出被收納于卡匣中的基板；

制程處理前步驟，將基板提供至制程室的內(nèi)部；以及

基板收納步驟，使制程處理完成后的基板收納于上述卡匣；

上述基板拉出步驟、上述制程準(zhǔn)備步驟及上述基板收納步驟中的基板，經(jīng)由同一轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)器人來(lái)轉(zhuǎn)運(yùn)。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所記載的基板處理方法，其特征在于，還包括：

調(diào)整步驟，在提供基板于上述制程室的內(nèi)部之前，先將基板提供至調(diào)整室內(nèi)以整齊排列基板位置；

上述調(diào)整室與上述制程室之間的基板轉(zhuǎn)運(yùn)，經(jīng)由上述轉(zhuǎn)運(yùn)機(jī)器人來(lái)進(jìn)行。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所記載的基板處理方法，其特征在于，

上述調(diào)整步驟中，在提供于支撐板上表面的第1及第2襯墊放置基板，且使推桿朝向上述支撐板的中心方向移動(dòng)來(lái)推動(dòng)上述基板以使上述基板的側(cè)部與第1襯墊的上端部的內(nèi)側(cè)面接觸。

14.根據(jù)權(quán)利要求13所記載的基板處理方法，其特征在于，

上述第1襯墊的上端部的內(nèi)側(cè)面，具有與上述基板的曲率半徑相應(yīng)的曲率半徑。